一种表面无银层的银碳化钨触头材料及其制备方法与流程
未命名
08-27
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1.本发明涉及材料涂层领域,具体涉及一种表面无银层的银碳化钨触头材料及其制备方法。
背景技术:
2.由于碳化钨的熔点高,耐电腐蚀性强,而银具有优良的导电导热性能,银碳化钨材料兼具有良好的耐电腐蚀性及导电导热性,因而银碳化钨触头材料被广泛地应用于低压塑壳断路器、框架式断路器上。触头起接通、承载和分断电流的作用,是断路器的心脏部件,其性能在很大程度上决定了断路器的性能及其运行的可靠性。因此断路器对触头有着苛刻的要求,要求具有:
①
良好的抗电弧烧损能力,
②
高的抗熔焊能力,
③
长的机械寿命,
④
良好的导电导热性能。对于银碳化钨触头材料,要符合断路器的要求,应达到如下要求:
①
碳化钨颗粒细小并均匀地分布于银基体上,
②
触头致密度高,
③
触头材料的电阻率低。
3.近年来,电器开关的小型化,使得工作状态下电触头的温升无法满足电触头的小型化,因而要求电触头具有更低的接触电阻。银碳化钨与银钨电触头是断路器中通常采用的触头,而在同等条件下碳化钨比钨更难氧化,以至于银碳化钨触头比银钨触头具有更好的抗氧化性、抗熔焊性,很好的通断性能,相对稳定的接触电阻。
4.目前涉及银碳化钨电接触材料,银含量小于70wt%(质量百分比)主要以熔渗法制备为主,大于70%主要以压粉法为主。先将银碳化钨粉压制成骨架,然后在银碳化钨骨架下面附银片通过高温熔渗,得到相对应的银碳化钨触点。现有技术中,银碳化钨触点表面易形成堆银、麻点、银层断裂、表面银层厚度不一等等异常,从而使电触头在使用中出现各种问题,例如焊接不良、分断能力差、抗腐蚀性差等问题。
技术实现要素:
5.本发明的目的是为了克服现有技术存在的缺点和不足,而提供一种表面无银层的银碳化钨触头材料及其制备方法。
6.本发明所采取的技术方案如下:一种表面无银层的银碳化钨触头材料的制备方法,包括以下步骤:s1.配置骨料,所述骨料由c粉和无机金属氧化物粉混合得到;s2.将s1所得骨料与有机溶剂一起进行球磨,得到触点表面喷涂材料;s3.将银粉和碳化钨粉、添加物粉一起球磨分散,得到混合均匀的银碳化钨粉;s4.将s3所得的银碳化钨粉烧结制粒;s5.将s4所得的银碳化钨粉压制成骨架;s6.将s5所得的银碳化钨骨架高温烧结;s7.将s6所得银碳化钨骨架与氧化物磨料一起干抛;s8.将s2所得的触点表面喷涂材料均匀地喷涂到s7所得银碳化钨骨架上;s9.将s8所得的银碳化钨骨架与银片一起高温熔渗,获得一种表面无银层的银碳
化钨电触头材料。
7.优选的,所述无机金属氧化物粉包括mgo粉、al2o3粉、cr2o3粉、al2(si2o5)(oh)4粉中的一种或多种,且所述c粉和各无机金属氧化物粉末等比例混合,如所述无机金属氧化物粉仅由al2o3粉构成时,c粉、al2o3粉的比例为1:1,所述无机金属氧化物包含al2o3粉、mgo粉时,c粉、al2o3粉、mgo粉的比例为1:1:1;其中,c粉的粒度为3-10μm,mgo粉的粒度为45-60μm,al2o3粉的粒度为 45-60μm,cr2o3粉的粒度为45-60μm,所述al2(si2o5)(oh)4粉的粒度为3-10μm。
8.优选的,所述s2以不锈钢球为球磨介质,所述骨料、有机溶剂、不锈钢球的质量份比为1:4-8:1,球磨时间为0.5-2h,转速为10-40rpm/min。
9.优选的,所述s3中,球磨时间为2-8h。
10.优选的,所述s4中,烧粉温度为600-900℃,烧粉时间为2-10h。
11.优选的,所述s6中,烧结温度为750-900℃,烧结时间为2-10h。
12.优选的,所述s7中,干抛转速为10-60rpn/min,氧化物磨料与骨架重量比为1.5-3:1,干抛时间为5-15min。
13.优选的,所述s8中,将s2所制喷涂材料均匀喷涂到s7所得银碳化钨骨架侧边及工作面。
14.一种如上所述的制备方法所制备的表面无银层的银碳化钨触头材料。
15.本发明的有益效果如下:本发明通过对特定比例的碳粉、无机非金属氧化物、有机溶液球磨得到触点表面喷涂材料,并通过该喷涂材料对干抛后的银碳化钨触点的表面喷涂,使触点表面无银层,不易形成堆银、麻点、银层断裂、表面银层厚度不一等异常,能很好地提高触点的抗腐蚀性,同时操作简单。尤其是分断能力较差的组合开关,通过对触点表面喷涂所述材料,起到对银碳化钨触点的保护作用,从而使触点分断能力更强。
16.同时,本发明提供了一种熔渗工艺银碳化钨电接触材料的制备方法,高银含量保证了电接触过程中低而稳定的接触电阻,以及更低的体电阻,可以保证电接触过程中触头温升低而稳定,采用熔渗方式保证了材料抗电弧烧损性能和抗机械磨损性能,提高材料电寿命。
附图说明
17.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,根据这些附图获得其他的附图仍属于本发明的范畴。
18.图1为本发明制备方法的流程图;图2为本发明实施例1制备得到的银碳化钨电触头材料100倍金相显微镜下观察到的截面;图3为本发明实施例2制备得到的银碳化钨电触头材料100倍金相显微镜下观察到的截面。
具体实施方式
19.为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述。
20.实施例1一种银碳化钨触头材料的制备方法,包括如下步骤:a、将al2o3粉、c粉按1:1的质量比配置骨料;b、准备c2h6o溶液;c、将al2o3粉、c粉和c2h6o溶液装入球磨机,再加入与al2o3粉、c粉等量的不锈钢球,以30 rpn /min的转速球磨时间1h得到触点表面喷涂材料,不锈钢球球、c2h6o溶液、骨料比1:8:1;d、将3.24kg碳化钨添加物粉体与1.75kg银粉、0.01kg添加物粉加入混粉机中,搅拌2h,得到混合均匀的银碳化钨粉;e、将步骤d所制银碳化钨粉放出后,装入盒中,烧结待用;f、将步骤e所得银碳化钨粉装入有还原气氛保护的烧结炉中,在880℃的温度下烧结2h,保温2h,降温4h;g、将步骤f所得银碳化钨粉,加入擦筛机中制成颗粒,所用网筛目数为80目;h、采用粉体成型设备,将步骤g中的制粒银碳化钨粉末压制成压坯;i、将步骤h中得到的压坯,置于氨分解气氛保护的烧结炉中,烧结温度900℃时间为3h,完成骨架预处理;j、将步骤i中得到的压坯,与氧化物磨料一起装入抛光机中干抛,转速在35 rpn /min,氧化物磨料与合金骨架质量比为1.5:1;k、将步骤j中得到的压坯,用步骤c所得的触点表面喷涂材料均匀地喷涂到压坯表面,焊接面除外,熔渗待用;l、将步骤k得到的压坯与银片置于氨分解气氛保护的烧结炉中,1080℃烧结、熔渗2h,冷却后出炉,得到银碳化钨触头材料。
21.实施例2一种银碳化钨触头材料的制备方法,包括如下步骤:a、将c粉、al2o3粉、mgo粉按1:1:1的质量比配置骨料;b、准备c2h6o溶液;c、将c粉、al2o3粉、mgo粉和c2h6o溶液装入球磨机,再加入与骨料等量的不锈钢球,以40 rpn /min的转速球磨时间1h得到触点表面喷涂材料,其中不锈钢球、c2h6o溶液、骨料的质量比为1:8:1;d、将3.98kg碳化钨粉与1kg银粉、0.02kg添加物粉加入混粉机中,搅拌2h;e、将步骤d所制银碳化钨粉放出后,装入盒中,烧结待用;f、将步骤e所得银碳化钨粉装入有还原气氛保护的烧结炉中,温度860℃烧结2h,保温2h,降温4h;g、将步骤f所得银碳化钨粉,加入擦筛机中制成颗粒,所用网筛目数为60目;h、采用粉体成型设备,将步骤g中的制粒银碳化钨粉末压制成压坯;i、将步骤h中得到的银碳化钨压坯,置于氨分解气氛保护的烧结炉中,烧结温度
880℃时间为3h,完成骨架预处理;j、将步骤i中得到的银碳化钨压坯,与氧化物磨料一起装入抛光机中干抛,转速在25 rpm /min,磨料与合金骨架的质量比为2:1;k、将步骤j中得到的银碳化钨压坯,用步骤c所得触点表面喷涂材料均匀的喷涂到银碳化钨压坯表面,焊接面除外,熔渗待用;l、将步骤k得到的银碳化钨压坯与银片置于氨分解气氛保护的烧结炉中,1030℃烧结、熔渗2h,冷却后出炉,得到银碳化钨触头材料。
22.取实施例1和实施例2得到的银碳化钨电触头材料的截面,经100倍金相显微镜观察结果如图2和图3所示,由图可知,实施例1、2中的电触头的金相组织颗粒均匀,触头工作面无堆银、麻点、银层断裂、银层厚度不均等质量缺陷。触头熔渗前,增加氧化物磨料与产品干抛光、触点工作面喷涂保护材料,熔渗后接触面无银层,在分断试验、电寿命试验时,具备较强的抗熔焊能力;且侧面无堆银,焊接过程中,焊料侧面爬升低,保证产品质量一致性。而未喷涂表面材料,银点工作面有纯银层,侧面堆银,焊接时焊料怕升高,在分断和电寿命时极易发生熔焊,出现安全事故。
23.以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已,当然不能以此来限定本发明之权利范围,因此依本发明权利要求所作的等同变化,仍属本发明所涵盖的范围。
技术特征:
1.一种表面无银层的银碳化钨触头材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:s1.配置骨料,所述骨料由c粉和无机金属氧化物粉混合得到;s2.将s1所得骨料与有机溶剂一起进行球磨,得到触点表面喷涂材料;s3.将银粉和碳化钨粉、添加物粉一起球磨分散,得到混合均匀的银碳化钨粉;s4.将s3所得的银碳化钨粉烧结制粒;s5.将s4所得的银碳化钨粉压制成骨架;s6.将s5所得的银碳化钨骨架高温烧结;s7.将s6所得银碳化钨骨架与氧化物磨料一起干抛;s8.将s2所得的触点表面喷涂材料均匀地喷涂到s7所得银碳化钨骨架上;s9.将s8所得的银碳化钨骨架与银片一起高温熔渗,获得一种表面无银层的银碳化钨电触头材料。2.根据权利要求1所述的一种表面无银层的银碳化钨触头材料的制备方法,其特征在于,所述无机金属氧化物粉包括mgo粉、al2o3粉、cr2o3粉、al2(si2o5)(oh)4粉中的一种或多种,且所述c粉和各无机金属氧化物粉末等比例混合;其中,c粉的粒度为3-10μm,mgo粉的粒度为45-60μm,al2o3粉的粒度为 45-60μm,cr2o3粉的粒度为45-60μm,所述al2(si2o5)(oh)4粉的粒度为3-10μm。3.根据权利要求1所述的一种表面无银层的银碳化钨触头材料的制备方法,其特征在于,所述s2以不锈钢球为球磨介质,所述骨料、有机溶剂、不锈钢球的质量份比为1:4-8:1,球磨时间为0.5-2h,转速为10-40rpm/min。4.根据权利要求1所述一种表面无银层的银碳化钨触头材料的制备方法,其特征在于,所述s3中,球磨时间为2-8h。5.根据权利要求1所述的一种表面无银层的银碳化钨触头材料的制备方法,其特征在于,所述s4中,烧粉温度为600-900℃,烧粉时间为2-10h。6.根据权利要求1所述的一种表面无银层的银碳化钨触头材料的制备方法,其特征在于,所述s6中,烧结温度为750-900℃,烧结时间为2-10h。7.根据权利要求1所述的一种表面无银层的银碳化钨触头材料的制备方法,其特征在于,所述s7中,干抛转速为10-60rpn/min,氧化物磨料与骨架重量比为1.5-3:1,干抛时间为5-15min。8.根据权利要求1所述的一种表面无银层的银碳化钨触头材料的制备方法,其特征在于,所述s8中,将s2所制喷涂材料均匀喷涂到s7所得银碳化钨骨架侧边及工作面。9.一种如权利要求1-8任一项所述的制备方法所制备的表面无银层的银碳化钨触头材料。
技术总结
本发明具体涉及一种表面无银层的银碳化钨触头材料及其制备方法,其制备包括以下步骤:S1.配置骨料;S2.将S1所得骨料与有机溶剂一起进行球磨,得到触点表面喷涂材料;S3.将银粉和碳化钨粉、添加物粉一起球磨分散,得到混合均匀的银碳化钨粉;S4.将S3所得的银碳化钨粉烧结制粒;S5.将S4所得的银碳化钨粉压制成骨架;S6.将S5所得的银碳化钨骨架高温烧结;S7.将S6所得银碳化钨骨架与氧化物磨料一起干抛;S8.将S2所得的触点表面喷涂材料均匀地喷涂到S7所得银碳化钨骨架上;S9.将S8所得的银碳化钨骨架与银片一起高温熔渗,获得一种表面无银层的银碳化钨电触头材料。本发明采用熔渗方式保证了材料抗电弧烧损性能和抗机械磨损性能,提高材料电寿命。提高材料电寿命。提高材料电寿命。
技术研发人员:崔永刚 孔欣 费家祥 蹇清云 郭仁杰 万岱 宋林云 林万焕
受保护的技术使用者:浙江福达合金材料科技有限公司
技术研发日:2023.04.10
技术公布日:2023/8/24
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