一种微粒清扫装置及方法与流程

1.本发明涉及光刻机检测领域，具体而言，涉及一种微粒清扫装置及方法。


背景技术：

2.现有技术中，每次将掩模版reticle装载到光刻机中时必须进行微粒检测，例如nikon光刻机，会检测掩模版reticle上的微粒particle是否符合标准，若不符合标准则直接输出报警，且仅会在此基础上输出报警，并不会进行清扫，必须通过工程师手动将reticle从光刻机unloader出来，更换reticle case，并转置到专门的清洁房间的清洁平台上，利用清扫装置手动对reticle进行微粒particle清扫，清扫后须换回case,返回光刻机，再次手动将reticle loader到光刻机进行ppd检测，如果检测超标，重复上面动作，直到符合ppd检测。
3.在此基础上，会大大提高reticle转置及人为干预处理的时间，降低生产效率，并且在case切换及人为转置掩模版以及手动清洁过程中，增加因掩模版reticle保护膜损伤而造成生产停线的风险。


技术实现要素：

4.本发明的目的包括，例如，提供了一种微粒清扫装置及方法，能够在进行微粒检测后直接根据检测结果实现掩模版reticle的清扫，优化了人为转置掩模版reticle并进行清扫的操作，提高工作效率，并在此基础上，提供了一种根据简单的电气件优化，实现现有检测装置及报警装置的自动清扫，且不需要提供额外的清扫承载平台。
5.本发明的实施例可以这样实现：
6.一方面，本发明的实施例提供一种微粒清扫装置，包括：微粒检测模块、预警模块、清扫模块、开关模块；所述预警模块分别与所述微粒检测模块、所述开关模块连接；所述清扫模块分别与所述开关模块、所述微粒检测模块连接；
7.所述清扫模块设置在所述微粒检测模块的上方；
8.其中，所述清扫模块通过所述微粒检测模块的检测数据调整清扫区域，所述预警模块还用于调整清扫时间。
9.进一步地，所述微粒清扫模块还包括：电源模块；
10.所述电源模块分别连接所述微粒检测模块、所述预警模块、所述清扫模块，用于为所述微粒检测模块、所述预警模块、所述清扫模块供电。
11.进一步地，所述清扫模块包括喷扫模块，所述喷扫模块的喷扫角度与喷扫高度根据所述微粒检测模块的检测数据调整。
12.进一步地，所述喷扫模块的喷扫角度包括[15
°
，110
°
]。
[0013]
进一步地，所述开关模块包括电磁阀，所述电磁阀与所述预警模块电连接；
[0014]
当预警模块处于报警态时，所述电磁阀处于第一工作态；
[0015]
当预警模块处于正常态时，所述电磁阀处于第二工作态。
[0016]
进一步地，所述微粒清扫装置还包括手动开关模块，所述手动开关设置在所述微粒检测模块与所述预警模块的连接点，用于手动控制预警模块的关断，进而调整所述清扫模块的清扫时间。
[0017]
第二方面，本发明的实施例中提供一种微粒清扫方法，应用于上述第一方面任一项所述的微粒清扫装置，包括以下步骤：
[0018]
通过微粒检测模块实时采集掩模板微粒数据；
[0019]
根据预设阈值判断当前采集的掩模版微粒数据是否超标；
[0020]
若超标，则清扫模块根据当前采集的掩模板微粒数据调整清扫区域；预警模块进行超标预警，并传输预警信号给开关模块；
[0021]
开关模块接收预警信号，并根据预警信号控制清扫模块对当前掩模板的吹扫时间。
[0022]
进一步地，所述根据预设阈值判断当前采集的掩模版微粒数据是否超标后的步骤，还包括：
[0023]
若不超标，则结束对掩模版微粒进行清扫。
[0024]
进一步地，所述开关模块接收预警信号，并根据预警信号控制清扫模块对当前掩模板的吹扫时间的步骤，还包括：
[0025]
通过手动开关关断预警模块，清扫模块停止对当前掩模板进行吹扫，并重新通过微粒检测模块采集掩模板微粒数据。
[0026]
进一步地，所述若超标，则清扫模块根据当前采集的掩模板微粒数据调整清扫区域的步骤包括：
[0027]
若当前采集的掩模板微粒数据超标，则通过当前采集的掩模板微粒数据调整清扫模块中喷扫模块的喷扫角度与喷扫高度，来调整清扫模块的清扫区域，其中，当前采集的掩模板微粒数据包括掩模版微粒的位置信息及数量信息。
[0028]
本发明实施例的有益效果包括，例如：
[0029]
本发明实施例提供了一种微粒清扫装置及方法，包括：微粒检测模块、预警模块、清扫模块、开关模块；预警模块分别与微粒检测模块、开关模块连接；清扫模块分别与开关模块、微粒检测模块连接；清扫模块设置在微粒检测模块的上方；其中，清扫模块通过微粒检测模块的检测数据调整清扫区域，预警模块还用于调整清扫时间；本发明实施例能够不需要reticle转置，直接根据检测结果实现掩模版reticle的自动清扫，取消了人为转置掩模版reticle及手动清扫流程，提高工作效率，规避了因手动接触光罩导致光罩膜损坏而长时间无法生产的风险，并在此基础上，提供了一种根据简单的电气件优化，实现现有检测装置及报警装置的自动清扫，且不需要提供额外的清扫承载平台。
附图说明
[0030]
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0031]
图1为本发明实施例提供的一种微粒清扫装置的结构示意图之一；
[0032]
图2为本发明实施例中清扫模块103与微粒检测模块101的位置示意图；
[0033]
图3为本发明实施例中喷扫子模块的角度示意图；
[0034]
图4为本发明实施例提供的一种微粒清扫装置的结构示意图之二；
[0035]
图5为本发明实施例提供的一种微粒清扫装置的结构示意图之三；
[0036]
图6为本发明实施例提供的一种微粒清扫方法的步骤示意图。
[0037]
图标：100-微粒清扫装置；101-微粒检测模块；102-预警模块；103-清扫模块；104-开关模块；105-电源模块；106-手动开关。
具体实施方式
[0038]
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0039]
因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0040]
应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0041]
在本发明的描述中，需要说明的是，若出现术语“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
[0042]
此外，若出现术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0043]
需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明的实施例中的特征可以相互结合。
[0044]
现有的芯片制造的光刻工艺中，如果掩模版reticle上particle超出设定的规范，在曝光过程中，particle在晶圆的成像可能会导致晶圆上的图形异常，造成良率低下或报废；而目前的应对方法是，每当光刻机装载reticle时，需要进行ppd检测，检测结果超出规范后，需要在光刻机上反复手动loader/unloader出reticle,反复转置到其他clean room进行清洁后再次装载到光刻机检测，多次重复以上动作，直至ppd检测结果在规范范围内。
[0045]
本发明实施例提供一种微粒清扫装置及方法，能够在完成检测后直接根据检测结果是否超标来实现掩模版reticle的自动清扫，取消了人为转置掩模版reticle并手动清扫的操作，提高工作效率、规避了因接触光罩导致光罩膜损害，造成生产停线的风险并在此基础上，根据简单的电气件优化，根据现有检测装置及报警装置实现自动清扫，且不需要提供额外的清扫承载平台。
[0046]
第一方面，请参考图1，本发明的实施例提供一种微粒清扫装置100，包括：微粒检测模块101、预警模块102、清扫模块103、开关模块104；预警模块102分别与微粒检测模块101、开关模块104连接；清扫模块103分别与开关模块104、微粒检测模块101连接；
[0047]
进一步地，清扫模块103设置在微粒检测模块101的上方；
[0048]
请参考图2，在一种可实现的实施例中，当微粒检测模块101检测掩模版reticle的glass面，则清扫模块103进行吹扫的位置对应为微粒检测模块101上掩模版reticle的glass面，即掩模版reticle的正面。
[0049]
其中，清扫模块103通过微粒检测模块101的检测数据调整清扫区域，预警模块102还用于调整清扫时间。
[0050]
进一步地，微粒检测模块的检测数据包括微粒的位置信息，数量信息等；清扫模块通过微粒检测模块获取到微粒的位置信息，数量信息等数据信息，可进一步调节清扫模块中的喷扫模块的角度，以使得达到更好的清扫目标。
[0051]
进一步地，清扫模块103包括喷扫子模块，喷扫子模块的喷扫角度与喷扫高度根据微粒检测模块101的检测数据调整。
[0052]
在一种可实现的实施例中，喷扫子模块可采用锥型喷嘴，该锥型喷嘴设置在微粒检测模块101的上方，具体的，该微粒检测模块101用于检测微粒的位置信息，数量信息等，可设置在光刻机ppd载台的reticle particle检测区域上方，待通过微粒检测模块101检测后，可通过判断信息进一步调整锥型喷嘴的吹扫范围，即清扫范围，从而至上而下的将n2喷撒在ppd的reticle partcile的，将掩模版reticle表面的微粒吹扫出去；
[0053]
进一步地，喷扫子模块的喷扫角度与喷扫高度可根据ppd载台的掩模版reticle检测区域的区域大小，范围进行设置，以使得该喷扫子模块的喷扫区域可以涵盖整个掩模版particle检测区域，从而实现全面清扫的目的，在此基础上可更大程度的简化电气件。，喷扫子模块也可以通过手动可以实现前、后、左、右的角度转动，实现区域覆盖，喷扫子模块的的喷嘴也可以通过旋转喷嘴进行调整，实现喷扫区域及喷扫强度的调整，如遇到个别黏附性强的particle无法清洁，则可以手动调整喷扫子模块的喷扫位置及喷嘴角度来达到清扫微粒particle的效果。
[0054]
进一步地，喷扫子模块的喷扫角度包括[15
°
，110
°
]，该喷扫角度以当前检测微粒在空间位置上的最外边范围为限，构建喷扫角度。
[0055]
如图3所示，本发明实施例中提供了该锥型喷嘴的可设置角度，例如：25
°
，40
°
等，该喷扫角度可根据微粒检测模块101的检测数据进行调整，例如，当微粒范围较为集中或个别particle黏附性较强不好吹扫时，可适当调小该喷扫角度，以集中进行吹扫；反之，则扩大该喷扫角度，大范围进行n2吹扫。
[0056]
在另一种可实现的实施例中，该锥型喷嘴的设置角度亦可固定调节以全方位覆盖的光刻机ppd载台上的reticle partcile的检测区域。
[0057]
进一步地，开关模块包括电磁阀，电磁阀与预警模块电连接；
[0058]
在一种可实现的实施例中，开关模块包括电磁阀，该电磁阀与预警模块电连接，该电磁阀可以直接利用预警模块中电源输出控制电磁阀的通断，在通过微粒检测模块101的检测数据判断后直接导通清扫模块103，让清扫模块103根据调整好的清扫区域进行清扫。
[0059]
在另一种可实现的实施例中，光刻机中通常会设置ppd检测，例如nikon光刻机，会通过ppd检测掩模版reticle上的微粒particle是否符合标准，若不符合标准则直接输出报警，在此基础上，可利用该报警通路上的电压输出，直接反馈到清扫模块103上，控制电磁阀通断，进而实现n2的自动吹扫。在此基础上，可通过根据简单的电气件优化，利用现有pdd检
测实现自动清扫，且不需要提供额外的清扫承载平台。
[0060]
进一步地，如图4所示，微粒清扫装置100还包括：电源模块105；其中，电源模块105分别连接微粒检测模块101、预警模块102、清扫模块103，用于为微粒检测模块101、预警模块102、清扫模块103供电。
[0061]
进一步地，开关模块包括电磁阀，电磁阀与预警模块电连接；当预警模块处于报警态时，电磁阀处于第一工作态；当预警模块处于正常态时，电磁阀处于第二工作态。
[0062]
具体的，当预警模块处于报警态时，电磁阀处于第一工作态，即电磁阀导通，与之连接的吹扫装置打开，进行吹扫；当预警模块处于正常态时，电磁阀处于第二工作态，即电磁阀关闭，与之连接的吹扫装置亦关闭。
[0063]
进一步地，如图5所示微粒清扫装置还包括手动开关106，手动开关106设置在微粒检测模块与预警模块的连接点，用于手动控制预警模块的关断，进而调整清扫模块的清扫时间。
[0064]
在另一种可实现的实施例中，该手动开关106还可设置在开关模块104上，即在开关模块104与预警模块102的电路通路上设置一个手动开关106，使得其吹扫的时间不仅可通过预警模块上的预警信号决定，还可以通过手动开关进行自适应调节，从而根据检测结果实现掩模版reticle的清扫，优化了人为转置掩模版reticle并手动进行清扫的操作，提高工作效率。
[0065]
综上，本发明实施例提供一种微粒清扫装置，包括：微粒检测模块101、预警模块102、清扫模块103、开关模块104；预警模块102分别与微粒检测模块101、开关模块104连接；清扫模块103分别与开关模块104、微粒检测模块101连接；清扫模块103设置在微粒检测模块101的上方；其中，清扫模块103通过微粒检测模块101的检测数据调整清扫区域，预警模块102还用于调整清扫时间；本发明实施例可通过清扫模块103根据预警模块102的预警信息调整清扫时间，并根据微粒检测模块101的检测信息进一步调整清扫的位置，进而可根据检测结果实现掩模版reticle的自动清扫，优化了人为转置掩模版reticle并进行清扫的操作，可提高工作效率，且可在此基础上，根据简单的电气件优化，根据现有检测装置及报警装置实现自动清扫，且不需要提供额外的清扫承载平台。
[0066]
如图6所示，第二方面，本发明的实施例中提供一种微粒清扫方法，应用于上述第一方面任一项的微粒清扫装置，包括以下步骤：
[0067]
s1、通过微粒检测模块实时采集掩模板微粒数据；
[0068]
具体的，微粒检测模块的检测数据包括微粒的位置信息，数量信息等；清扫模块通过微粒检测模块获取到微粒的位置信息，数量信息等数据信息，可进一步调节清扫模块中的喷扫子模块的位置和喷扫子模块喷嘴的角度，以使得达到更好的清扫目标。
[0069]
s2、根据预设阈值判断当前采集的掩模版微粒数据是否超标；
[0070]
具体的，可根据上一次采集的掩模版微粒数据的检测结果作为当前检测的判断阈值，该微粒检测模块可实时采集掩模板微粒数据，并根据预设阈值判断当前采集的掩模版微粒数据是否超标，并将判断结果传输给清扫装置及预警模块，以便于清扫装置根据采集的掩模版微粒数据调整该清扫区域，以及使得预警模块根据判断结果进行检测预警，进而根据调整后的清扫区域进行微粒清扫。
[0071]
s3、若超标，则清扫模块根据当前采集的掩模板微粒数据调整清扫区域；预警模块
进行超标预警，并传输预警信号给开关模块；
[0072]
进一步地，若超标，则清扫模块根据当前采集的掩模板微粒数据调整清扫区域，即喷扫高度及喷扫角度；预警模块进行超标预警，并传输预警信号给开关模块；预警模块根据当前采集的掩模板微粒数据与预设阈值之间的判断结果进行预警，同时将预警信号传递给开关模块，控制开关模块的导通。
[0073]
s4、开关模块接收预警信号，并根据预警信号控制清扫模块对当前掩模板的吹扫时间。
[0074]
在一种可实现的实施例中，当预警模块处于报警态时，电磁阀处于第一工作态，即电磁阀导通，与之连接的吹扫装置打开，进行吹扫；当预警模块处于正常态时，电磁阀处于第二工作态，即电磁阀关闭，与之连接的吹扫装置亦关闭。
[0075]
进一步地，步骤s2：预设阈值判断当前采集的掩模版微粒数据是否超标后的步骤，还包括步骤s5：
[0076]
若不超标，则结束对掩模版微粒进行清扫。
[0077]
进一步地，步骤s4：开关模块接收预警信号，并根据预警信号控制清扫模块对当前掩模板的吹扫时间的步骤，还包括步骤s6：
[0078]
通过手动开关关断预警模块，清扫模块停止对当前掩模板进行吹扫，并重新通过微粒检测模块采集掩模板微粒数据。
[0079]
具体的，结束对掩模版微粒进行清扫的方式包括两个途径：
[0080]
第一方式：通过检测模块的检测结果导通预警装置，进而通过预警装置传输的预警信号控制开关模块导通，使得清扫装置进行清扫；在该条件下，则通过预警装置的预警时长调整清扫时长；
[0081]
第二方式，则通过增设在检测模块与预警装置之间的手动开关，控制该传输信号的通路。
[0082]
在此基础上，可通过人为触发手动开关的方式，设置该清扫装置的清扫，以便于在检测过程中随时检测到该微粒清扫装置的异常状态。
[0083]
进一步地，步骤s103：若超标，则清扫模块根据当前采集的掩模板微粒数据调整清扫区域的步骤包括：
[0084]
若当前采集的掩模板微粒数据超标，则通过当前采集的掩模板微粒数据调整清扫模块中喷扫模块的喷扫角度与喷扫高度，以调整清扫模块的清扫区域，其中，当前采集的掩模板微粒数据包括掩模版微粒的位置信息及数量信息。
[0085]
本发明实施例提供了一种微粒清扫方法，应用于上述第一方面任一项的微粒清扫装置，该微粒清扫方法包含上述微粒清扫装置的全部技术特征及技术效果。
[0086]
综上所述，本发明实施例提供了一种微粒清扫装置及方法，包括：微粒检测模块、预警模块、清扫模块、开关模块；预警模块分别与微粒检测模块、开关模块连接；清扫模块分别与开关模块、微粒检测模块连接；清扫模块设置在微粒检测模块的上方；其中，清扫模块通过微粒检测模块的检测数据调整清扫区域，预警模块还用于调整清扫时间；本发明实施例能够在完成检测后直接根据检测结果实现ppd载台上掩模版reticle的自动清扫，优化了人为转置掩模版reticle并手动进行清扫的操作，提高工作效率，并在此基础上，根据简单的电气件优化，根据现有检测装置及报警装置实现自动清扫，且不需要提供额外的清扫承
载平台。
[0087]
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

技术特征：
1.一种微粒清扫装置，其特征在于，包括：微粒检测模块、预警模块、清扫模块、开关模块；所述预警模块分别与所述微粒检测模块、所述开关模块连接；所述清扫模块分别与所述开关模块、所述微粒检测模块连接；所述清扫模块设置在所述微粒检测模块的上方；其中，所述清扫模块通过所述微粒检测模块的检测数据调整清扫区域，所述预警模块还用于调整清扫时间。2.根据权利要求1所述的微粒清扫装置，其特征在于，所述微粒清扫装置还包括：电源模块；所述电源模块分别连接所述微粒检测模块、所述预警模块、所述清扫模块，用于为所述微粒检测模块、所述预警模块、所述清扫模块供电。3.根据权利要求1所述的微粒清扫装置，其特征在于，所述清扫模块包括喷扫子模块，所述喷扫子模块的喷扫角度与喷扫高度根据所述微粒检测模块的检测数据调整。4.根据权利要求3所述的微粒清扫装置，其特征在于，所述喷扫子模块的喷扫角度包括[15
°
，110
°
]。5.根据权利要求1所述的微粒清扫装置，其特征在于，所述开关模块包括电磁阀，所述电磁阀与所述预警模块电连接；当预警模块处于报警态时，所述电磁阀处于第一工作态；当预警模块处于正常态时，所述电磁阀处于第二工作态。6.根据权利要求1所述的微粒清扫装置，其特征在于，所述微粒清扫装置还包括手动开关模块，所述手动开关设置在所述微粒检测模块与所述预警模块的连接点，用于手动控制预警模块的关断，进而调整所述清扫模块的清扫时间。7.一种微粒清扫方法，应用于权利要求1至6任一项所述的微粒清扫装置，其特征在于，包括以下步骤：通过微粒检测模块实时采集掩模板微粒数据；根据预设阈值判断当前采集的掩模版微粒数据是否超标；若超标，则清扫模块根据当前采集的掩模板微粒数据调整清扫区域；预警模块进行超标预警，并传输预警信号给开关模块；开关模块接收预警信号，并根据预警信号控制清扫模块对当前掩模板的吹扫时间。8.根据权利要求7所述的微粒清扫方法，其特征在于，所述根据预设阈值判断当前采集的掩模版微粒数据是否超标后的步骤，还包括：若不超标，则结束对掩模版微粒进行清扫。9.根据权利要求7所述的微粒清扫方法，其特征在于，所述开关模块接收预警信号，并根据预警信号控制清扫模块对当前掩模板的吹扫时间的步骤，还包括：通过手动开关关断预警模块，清扫模块停止对当前掩模板进行吹扫，并重新通过微粒检测模块采集掩模板微粒数据。10.根据权利要求7所述的微粒清扫方法，其特征在于，所述若超标，则清扫模块根据当前采集的掩模板微粒数据调整清扫区域的步骤包括：若当前采集的掩模板微粒数据超标，则通过当前采集的掩模板微粒数据调整清扫模块中喷扫模块的喷扫角度与喷扫高度，以调整清扫模块的清扫区域，其中，当前采集的掩模板
微粒数据包括掩模版微粒的位置信息及数量信息。

技术总结
本发明提供了一种微粒清扫装置及方法，涉及半导体技术领域，该微粒清扫装置包括：微粒检测模块、预警模块、清扫模块、开关模块；预警模块分别与微粒检测模块、开关模块连接；清扫模块分别与开关模块、微粒检测模块连接；清扫模块设置在微粒检测模块的上方；其中，清扫模块通过微粒检测模块的检测数据调整清扫区域，预警模块还用于调整清扫时间；本发明实施能够在完成检测后，直接根据检测结果，在超出设定规范的情况下实现掩模版reticle的自动清扫，简化人为转置掩模版reticle流程，提高工作效率，并在此基础上，利用简单的电气件优化，根据现有检测装置及报警装置实现自动清扫，且不需要提供额外的清扫承载平台。要提供额外的清扫承载平台。要提供额外的清扫承载平台。


技术研发人员：吴金钢
受保护的技术使用者：捷捷微电(南通)科技有限公司
技术研发日：2023.06.27
技术公布日：2023/8/24