一种半导体尾气处理设备管道限流装置的制作方法

1.本实用新型涉及废气处理设备技术领域，具体为一种半导体尾气处理设备管道限流装置。


背景技术：

2.在泛半导体行业生产过程中，大量使用化学品和特殊气体，生产环节持续产生大量有毒有害气体的工艺废气。工艺废气需要与生产工艺同步进行收集、治理和排放，废气处理设备是生产工艺中不可分割的组成部分，其安全稳定性直接关系到产能利用率、产品良率、员工职业健康及生态环境。
3.现有的半导体废气设备有如下缺陷：
4.现有在半导体尾气处理设备中，大部分废气都需要加热燃烧、水洗或吸附处理，这就需要有稳定的废气流量控制，但由于实际运行中，经常遇到设备进出气压力、流量波动，气流的不稳定造成温度也不稳定，降低了废气处理效果。


技术实现要素：

5.(一)解决的技术问题
6.针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种半导体尾气处理设备管道限流装置，解决了现有在半导体尾气处理设备中，大部分废气都需要加热燃烧、水洗或吸附处理，这就需要有稳定的废气流量控制，但由于实际运行中，经常遇到设备进出气压力、流量波动，气流的不稳定造成温度也不稳定，降低了废气处理效果的问题。
7.(二)技术方案
8.为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种半导体尾气处理设备管道限流装置，包括装置本体，所述装置本体包括限流板和密封圈，所述密封圈套接在限流板外侧；
9.优选的，所述限流板外侧设有安装凹槽，所述安装凹槽呈环状内凹状结构，所述安装凹槽内部设有若干组呈环状等距方式分布的固定块，所述固定块呈长条状结构。
10.优选的，所述限流板呈圆形结构，所述限流板顶部开设有限流孔，所述限流孔呈贯通式结构。
11.优选的，所述限流板为不锈钢材质。
12.(三)有益效果
13.本实用新型提供了一种半导体尾气处理设备管道限流装置。具备以下有益效果：
14.该种半导体尾气处理设备管道限流装置通过将密封圈和限流板结合在一起，安装在管道法兰连接处，本装置的特点在于在限流板中间开适当大小的孔，将原来大管径内波动的气流在遇到限流装置后，限制了气体通过量，在管道内经过缓冲，已相对稳定的流量经过限流装置，使限流装置后的气体压力稳定，提高了废气处理能力。
附图说明
15.图1为本实用新型整体的结构示意图；
16.图2为本实用新型整体的俯视图；
17.图3为本实用新型限流板的结构示意图。
18.图中，1、装置本体；2、限流板；3、密封圈；4、安装凹槽；5、固定块；6、限流孔。
具体实施方式
19.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
20.请参阅图1-3，本实用新型实施例提供一种技术方案：一种半导体尾气处理设备管道限流装置，包括装置本体1，所述装置本体1包括限流板2和密封圈3，所述密封圈3套接在限流板2外侧；
21.所述限流板2外侧设有安装凹槽4，所述安装凹槽4呈环状内凹状结构，所述安装凹槽4内部设有若干组呈环状等距方式分布的固定块5，所述固定块5呈长条状结构，限流板2上的安装凹槽4可以有效地提高密封圈3安装的稳定性，防止密封圈3出现脱落的情况发生，且还可以便于把密封圈3安装在限流板2上，而安装凹槽4上的固定块5可以提高对密封圈3固定时的抓持性，进一步提高密封圈3的稳定性。
22.所述限流板2呈圆形结构，所述限流板2顶部开设有限流孔6，所述限流孔6呈贯通式结构，通过限流板2上开设了限流孔6，原来大管径内波动的气流在遇到限流装置后，限制了气体通过量，在管道内经过缓冲，已相对稳定的流量经过限流装置，使限流装置后的气体压力稳定，提高了废气处理能力。
23.所述限流板2为不锈钢材质，不锈钢材质的限流板2具有优异的耐蚀性、成型性、相容性以及强韧性等系列特点，从而提高了限流板2的使用寿命，从而可以提高限流板2的稳定性。
24.工作原理：作业时，将密封圈3和限流板2结合在一起，安装在管道法兰连接处，气流通过时，气流就会通过限流板2上的限流孔6进行输送，而限流孔6可以通过口径来限制气体通过量，在管道内经过缓冲，已相对稳定的流量经过限流装置，使限流装置后的气体压力稳定，提高了废气处理能力。
25.本实用新型的1、装置本体；2、限流板；3、密封圈；4、安装凹槽；5、固定块；6、限流孔，部件均为通用标准件或本领域技术人员知晓的部件，其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知，本实用新型解决的问题是现有在半导体尾气处理设备中，大部分废气都需要加热燃烧、水洗或吸附处理，这就需要有稳定的废气流量控制，但由于实际运行中，经常遇到设备进出气压力、流量波动，气流的不稳定造成温度也不稳定，降低了废气处理效果的问题，本实用新型通过上述部件的互相组合，可以限制了气体通过量，在管道内经过缓冲，已相对稳定的流量经过限流装置，使限流装置后的气体压力稳定，提高了废气处理能力。
26.以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点,对于
本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
27.此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。


技术特征：
1.一种半导体尾气处理设备管道限流装置，其特征在于：包括装置本体(1)，所述装置本体(1)包括限流板(2)和密封圈(3)，所述密封圈(3)套接在限流板(2)外侧；所述限流板(2)外侧设有安装凹槽(4)，所述安装凹槽(4)呈环状内凹状结构，所述安装凹槽(4)内部设有若干组呈环状等距方式分布的固定块(5)，所述固定块(5)呈长条状结构。2.根据权利要求1所述的一种半导体尾气处理设备管道限流装置，其特征在于：所述限流板(2)呈圆形结构，所述限流板(2)顶部开设有限流孔(6)，所述限流孔(6)呈贯通式结构。3.根据权利要求1所述的一种半导体尾气处理设备管道限流装置，其特征在于：所述限流板(2)为不锈钢材质。

技术总结
本实用新型公开了一种半导体尾气处理设备管道限流装置，包括装置本体，所述装置本体包括限流板和密封圈，所述密封圈套接在限流板外侧；所述限流板外侧设有安装凹槽，所述安装凹槽呈环状内凹状结构，所述安装凹槽内部设有若干组呈环状等距方式分布的固定块，所述固定块呈长条状结构。该种半导体尾气处理设备管道限流装置可以限制了气体通过量，在管道内经过缓冲，已相对稳定的流量经过限流装置，使限流装置后的气体压力稳定，提高了废气处理能力。提高了废气处理能力。提高了废气处理能力。


技术研发人员：崔汉博 崔汉宽
受保护的技术使用者：上海高笙集成电路设备有限公司
技术研发日：2023.04.13
技术公布日：2023/9/3