一种薄型硅片连续转运装置的制作方法

1.本发明涉及硅片生产设备的技术领域，尤其是涉及一种薄型硅片连续转运装置。


背景技术：

2.目前，硅片的生产流程为：将硅料依次经过酸洗、配比以及拉制后形成长方体的柱状结构，然后再将该长方体的柱状结构粘接到料座上，再通过线切车间处理为1mm左右的薄型硅片，再对硅片进行预清洗，以去除薄型硅片上的硅泥和硅粉，清洗后的薄型硅片经过加热脱胶处理，将形成的薄型硅片从料座上脱下，然后将取下的薄型硅片放置在清洗设备的内部，进行最终清洗，再将清洗后的薄型硅片通过转运装置传输至下一工序中；由于硅片的厚度较薄，而现有的薄型硅片转运通过夹持组件，实现对硅片夹持转运的作用，但是，在利用现有的夹持组件夹持转运硅片时，夹持组件的夹持部与硅片之间的接触部容易受力不均，在硅片转运过程中，容易发生碎裂。


技术实现要素：

3.本技术提供一种薄型硅片连续转运装置，具有降低硅片破损率的作用。
4.本技术提供的一种薄型硅片连续转运装置，采用如下的技术方案：一种薄型硅片连续转运装置，包括转运平台，所述转运平台上表面设有底板，所述底板的上表面设有若干个侧板，所述底板和相邻两组所述侧板之间形成水流通道，水流通道的内部设有水流路径，水流穿过水流路径的始端，并沿着水流路径转运硅片，所述水流通道内且靠近水流路径的末端处设有转运架，所述转运架的内部设有承托板，当水流将硅片转运至承托板上时，通过设置在承托板上的透水孔，用于分离承托板上的水流和硅片。
5.通过采用上述技术方案，由于硅片的厚度较薄，在利用常规的夹持组件夹持转运硅片时，夹持组件的夹持部与硅片之间的接触部容易粘附杂质，因此，通过在转运平台上设有水流通道，利用水流通道内水流的浮动，一方面用于冲刷硅片表面的杂质，另一方面，将硅片转运至转运架上，并坐落在承托板上，利用转运架将硅片输送至硅片的下一工序，通过水流转运硅片的方式，从而实现对硅片的无损转运作用，具有降低硅片破损率的作用。
6.优选的，所述转运架转动设于转运平台内，且承托板围绕转运架的转动中心等角度设置。
7.通过采用上述技术方案，为了可持续转运硅片，因此，通过在转运架上设置有若干个承托板，能有效给若干个硅片提供搁置平台，并借助转运架的转动，使硅片按照转运架的转动方向，依次搁置在承托板上，以保证硅片转运的连续性。
8.优选的，所述转运架上设有用于容纳承托板的凹槽，且凹槽的顶部敞开，所述凹槽的一侧设有开口，且开口与底板上表面处于同一水平面上。
9.通过采用上述技术方案，由于承托板为平面结构，伴随转运架的离心转动，会造成承托板脱离承托板，因此通过在转运架上设有凹槽，凹槽的侧壁能在硅片的侧面形成侧向阻挡，在硅片的转运过程中，硅片在底板的上表面滑动，并穿过凹槽的开口，坐落在承托板
上，能有效的避免硅片从承托板上滑落，增强硅片转运的稳定性。
10.优选的，所述凹槽的内部上下滑动设有调节板。
11.通过采用上述技术方案，由于承托板在转运架的水平方向上设置的数量有限，为了提高转运架在纵向上对硅片的转运效率，因此在凹槽的内部设有可上下滑动的调节板，通过控制调节板与底板之间的水平位移差，从而利用水流将硅片持续性的层层叠放在凹槽内，大大提高了凹槽内待转运硅片的数量，进而提高转运架在纵向上对硅片的转运效率。
12.优选的，所述底板上且靠近水流路径的末端位置处设有导向组件，所述导向组件用于将水流中的硅片导向至承托板上。
13.通过采用上述技术方案，由于凹槽的开口与水流路径的末端尺寸不一，在利用水流转运硅片过程中，硅片会在底板上发生倾斜，使硅片卡在凹槽的开口位置处，难以保证硅片的连续性转运，因此，通过设置有导向组件，用于纠正水流中的硅片，并将其导送至凹槽内的承托板上，进一步保证硅片转运的连续性。
14.优选的，所述导向组件包括设于底板上的导向块，所述导向块设有两组，两组导向块之间形成导向通道，所述导向通道入口处的截面面积大于导向通道出口处的截面面积，且截面面积均匀变化，所述导向通道的内壁上设有若干个导向滚轮，经导向滚轮的滚动，用于将硅片导向至凹槽的开口内。
15.通过采用上述技术方案，通过设置的导向块在硅片的两侧形成限位，使得硅片在穿过导向通道入口的位置时，通过逐渐缩小导向通道的截面尺寸，逐渐限位并校正硅片的方位，并通过导向滚轮的滚动，使得硅片与导向滚轮的表面接触，将硅片传动至凹槽的内部，用于导向并微调硅片，使硅片能顺利的进入到导向通道内。
16.优选的，所述导向组件的外侧设有用于二次冲洗硅片的冲洗组件。
17.通过采用上述技术方案，为了进一步取出硅片表面的杂质，通过利用冲洗组件，实现对硅片表面的杂质的冲洗，使硅片在层层叠放时，表面处于洁净状态，避免杂质夹杂在硅片之间，造成硅片的损伤。
18.优选的，所述冲洗组件包括水箱和设于转运平台上的支撑架，所述支撑架上设有水泵，所述水箱的输出端与水泵的输入端之间连接，所述水泵的输出端连接有冲洗喷头。
19.通过采用上述技术方案，通过水泵抽取水箱中的水，并利用冲洗喷头喷射在硅片的表面，实现对硅片表面的杂质的冲洗，结构简单，易于实现，且方便实施。
20.优选的，所述冲洗喷头在支撑架上设有若干个，且冲洗喷头转动设于支撑架上。
21.通过采用上述技术方案，通过调整冲洗喷头的转动角度，合理控制经冲洗喷头喷射处的水柱与硅片之间的夹角，控制清理范围。
22.优选的，所述侧板上设有纠偏组件，所述纠偏组件用于纠正水流中的硅片。
23.通过采用上述技术方案，为了在硅片的转运过程中，校正硅片的角度，通过在水流通道的内部设置有纠偏组件，能有效的避免硅片在水流通道内发生大幅度的偏移，使硅片顺利进入到导向通道的入口位置处。
24.综上所述，本技术具有以下有益效果：1.通过在转运平台上设有水流通道，利用水流通道内水流的浮动，一方面用于冲刷硅片表面的杂质，另一方面，将硅片转运至转运架上，并坐落在承托板上，通过转运架将硅片输送至硅片的下一工序，从而实现对硅片的转运作用，在上述硅片的转运过程中，全程
中并未有人工以及夹持机械设备对硅片进行干预，能有效避免转运后的硅片表面二次脏污，另外通过水流转运硅片的方式，一方面用于二次清洗硅片，另一方面，能有效对硅片进行无损转运。
25.2.通过设置在转运架上的若干个承托板，能有效给若干个硅片提供搁置平台，并借助转运架的转动，使硅片按照转运架的转动方向，依次搁置在承托板上，以保证硅片转运的连续性，承托板安装在凹槽的内部，且凹槽的内部设有可上下滑动的调节板，通过控制调节板与底板之间的水平位移差，从而利用水流将硅片持续性的层层叠放在凹槽内，大大提高了凹槽内待转运硅片的数量，进而提高转运架在纵向上对硅片的转运效率。
附图说明
26.图1是本实施例中转运装置的整体结构示意图；图2是本实施例中转运架的整体结构示意图；图3是本实施例中调节板与转运架之间的连接结构示意图；图4是本实施例中转运平台的剖面图；图5是本实施例中防护套的整体结构示意图；图6是本实施例中防护套的剖面图。
27.附图标记说明：1、转运平台；2、底板；3、侧板；4、转运架；5、承托板；6、透水孔；7、凹槽；8、调节板；9、导向组件；901、导向块；902、导向滚轮；10、冲洗组件；1001、水箱；1002、水泵；1003、支撑架；1004、冲洗喷头；11、纠偏组件；1101、防护套；1102、蠕动面；1103、驱动组件；110301、传动带；110302、主动轮；110303、偏心杆；110304、限位滚轮。
具体实施方式
28.下面结合附图对本技术作进一步详细描述，有必要在此指出的是，以下具体实施方式只用于对本技术进行进一步的说明，不能理解为对本技术保护范围的限制，该领域的技术人员可以根据上述申请内容对本技术作出一些非本质的改进和调整。
29.实施例：本发明公开一种薄型硅片连续转运装置，如图1所示，包括转运平台，转运平台上表面设有底板，底板的上表面设有两组侧板，底板和两组侧板之间形成水流通道，由于硅片的厚度较薄，在利用常规的夹持组件夹持转运硅片时，夹持组件的夹持部与硅片之间的接触部容易粘附杂质，利用水流通道内水流的浮动，不仅可实现对硅片进行无损转运，另外可冲刷掉硅片表面的杂质，水流通道的内部设有水流路径，水流穿过水流路径的始端，并沿着水流路径转运硅片，水流通道内且靠近水流路径的末端处设有转运架，转运架的内部设有承托板，水流沿着水流路径，将硅片转运至转运架上，并坐落在承托板上，通过转运架将硅片输送至硅片的下一工序，从而实现对硅片的转运作用，值得进一步说明的是，通过合理控制水流的流动速率，控制硅片在水流中的转运速率，保证硅片在水流中转运的稳定性，从而能有效的避免硅片的外边缘撞击侧板，用于起到保护硅片的作用；当水流将硅片转运至承托板上时，通过设置在承托板上的透水孔，用于分离承托板上的水流和硅片，硅片转运至承托板上，而水流穿过承托板内的透水孔，并滴落在设于转运平台内的集水箱内；在上述硅片的转运过程中，全程中并未有人工以及夹持机械设备对硅片进行干预，能有效避免转运后的硅片表面二次脏污，另外通过水流转运硅片的方式，一方面用于二次清洗硅片，另
一方面，能有效对硅片进行无损转运。
30.如图2所示，为了可持续转运硅片，保证车间生产的连续性，因此，本发明通过在转运架上设置有若干个承托板，且承托板围绕转运架的转动中心等角度设置，能有效给若干个硅片提供搁置平台，且转运架的中心位置设置有驱动电机，使转运架转动设于转运平台内，借助转运架的转动，使硅片按照转运架的转动方向，依次搁置在承托板上，以保证硅片转运的连续性；由于承托板为平面结构，伴随转运架的离心转动，会造成承托板脱离承托板，因此，通过在转运架上设有用于容纳承托板的凹槽，且凹槽的顶部敞开，凹槽的一侧设有开口，且开口与底板上表面处于同一水平面上，凹槽的侧壁能在硅片的侧面形成侧向阻挡，在硅片的转运过程中，硅片在底板的上表面滑动，并穿过凹槽的开口，坐落在承托板上，能有效的避免硅片从承托板上滑落，增强硅片转运的稳定性；如图3所示，由于承托板在转运架的水平方向上设置的数量有限，为了提高转运架在纵向上对硅片的转运效率，因此在凹槽的内部设有可上下滑动的调节板，调节板与承托板之间设有电动伸缩杆，通过控制调节板与底板之间的水平位移差，从而利用水流将硅片持续性的层层叠放在凹槽内，大大提高了凹槽内待转运硅片的数量，进而提高转运架在纵向上对硅片的转运效率；调节板的侧边与凹槽的内壁之间形成缝隙，在两组硅片叠放过程中，伴随两组硅片相互靠近，使两组硅片之间的水流挤压至缝隙内，并穿过透水孔收集至集水箱内，由于硅片的表面氧化形成二氧化硅，属于亲水材料，在两组硅片相互靠近时，水会在两组硅片之间形成比较严密的水膜，使得空气不容易进入两组硅片之间，增强相邻两组硅片之间的作用力，使层层硅片之间形成整体，避免灰尘粘附在相邻两组硅片之间。
31.如图4所示，由于凹槽的开口与水流路径的末端尺寸不一，在利用水流转运硅片过程中，硅片会在底板上发生倾斜，使硅片卡在凹槽的开口位置处，难以保证硅片的连续性转运，因此本发明通过在底板上且靠近水流路径的末端位置处设有导向组件，导向组件用于将水流中的硅片导向至承托板上；导向组件包括设于底板上的导向块，导向块设有两组，两组导向块之间形成导向通道，导向通道入口处的截面面积大于导向通道出口处的截面面积，且截面面积均匀变化，导向通道的内壁上设有若干个导向滚轮，经导向滚轮的滚动，用于将硅片导向至凹槽的开口内；通过设置的导向块在硅片的两侧形成限位，使得硅片在穿过导向通道入口的位置时，通过逐渐缩小导向通道的截面尺寸，逐渐限位并校正硅片的方位，并通过导向滚轮的滚动，使得硅片与导向滚轮的表面接触，将硅片传动至凹槽的内部，用于导向并微调硅片，使硅片能顺利的进入到导向通道内；因此，通过设置有导向组件，用于纠正水流中的硅片，并将其导送至凹槽内的承托板上，进一步保证硅片转运的连续性。
32.如图4所示，为了进一步取出硅片表面的杂质，本发明通过在导向组件的外侧设有用于二次冲洗硅片的冲洗组件；利用冲洗组件，实现对硅片表面的杂质的冲洗，使硅片在层层叠放时，表面处于洁净状态，避免杂质夹杂在硅片之间，造成硅片的损伤；其中，冲洗组件包括水箱和设于转运平台上的支撑架，支撑架上设有水泵，水箱的输出端与水泵的输入端之间连接，水泵的输出端连接有冲洗喷头，冲洗喷头在支撑架上设有若干个，且冲洗喷头转动设于支撑架上；通过调整冲洗喷头的转动角度，合理控制经冲洗喷头喷射处的水柱与硅片之间的夹角，控制清理范围；通过水泵抽取水箱中的水，并利用冲洗喷头喷射在硅片的表面，实现对硅片表面的杂质的冲洗，结构简单，易于实现，且方便实施。
33.如图4所示，为了在硅片的转运过程中，校正硅片的角度，因此，本发明通过在侧板
上设有纠偏组件，纠偏组件用于纠正水流中的硅片，使硅片顺利进入到导向通道的入口位置处，能有效的避免硅片在水流通道内发生大幅度的偏移；如图5所示，纠偏组件包括设于侧板上的防护套，防护套设置有两组，相对两组防护套的侧面的一面上形成蠕动面，两组蠕动面和底板的上表面之间形成供硅片和水流穿过的纠偏通道，当水流带着硅片滑动穿过纠偏通道时，通过仿“喉部肌肉收缩吞咽”的行为，使蠕动面发生不规则的蠕动，且伴随蠕动面与硅片侧边的接触，使硅片的转运方向始终处于微调状态，避免硅片发生较大尺寸的偏移，造成硅片堵住导向通道的入口；如图6所示，防护套的内部设有用于驱动蠕动面发生不规则蠕动的驱动组件，驱动组件包括传动带和若干个主动轮，若干个主动轮通过传动带发生转动，主动轮的底部且靠近其中心位置处设有偏心杆，偏心杆的一端与主动轮连接，偏心杆的另一端转动连接有限位滚轮，限位滚轮贴合蠕动面，利用传动带，驱动若干个主动轮发生转动，并带动偏心杆发生圆周转动，当偏心杆靠近蠕动面时，限位滚轮贴合并挤压蠕动面，使防护套的蠕动面发生向外形变，当偏心杆远离蠕动面时，偏心杆与蠕动面脱离连接，伴随着防护套的自然收缩，使蠕动面发生向内形变。
34.工作原理：使用时，使用者首先将清洗设备连接该转运装置，使清洗设备的出料端朝向水流路径的始端，通过人工或者机械手的方式，将清洗设备内的硅片连带水一同输入水流通道，水流穿过水流路径的始端，并沿着水流路径转运硅片。
35.然后通过两组蠕动面的不规则蠕动，并伴随蠕动面与硅片侧边的接触，使硅片的转运方向始终处于微调状态，避免硅片发生较大尺寸的偏移，以纠偏硅片的转运方向。
36.当硅片转运至导向通道入口位置处时，通过逐渐缩小导向通道的截面尺寸，逐渐限位并校正硅片的方位，并通过导向滚轮的滚动，使得硅片与导向滚轮的表面接触，起到导向硅片的作用；在硅片的导向过程中，利用冲洗组件，实现对硅片表面的杂质的冲洗，使硅片在下述层层叠放时，表面处于洁净状态，避免杂质夹杂在硅片之间，造成硅片的损伤。
37.当硅片穿过凹槽的开口并导向至凹槽内时，硅片坐落于调节板，然后利用电动伸缩杆，使调节板向下滑动，直至调节板上表面的硅片与底板的上表面平齐，从而利用水流将硅片持续性的层层叠放在凹槽内，待凹槽内叠放一定数量的硅片后，通过转动转运架，使硅片按照转运架的转动方向，依次层层叠放在凹槽内，以保证硅片转运的连续性；值得说明的是，水与硅片在凹槽的内部分离，其中，水穿过缝隙，并透过透水孔进入到集水箱内。
38.以上均为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。

技术特征：
1.一种薄型硅片连续转运装置，其特征在于：包括转运平台(1)，所述转运平台(1)上表面设有底板(2)，所述底板(2)的上表面设有若干个侧板(3)，所述底板(2)和相邻两组所述侧板(3)之间形成水流通道，水流通道的内部设有水流路径，水流穿过水流路径的始端，并沿着水流路径转运硅片，所述水流通道内且靠近水流路径的末端处设有转运架(4)，所述转运架(4)的内部设有承托板(5)，当水流将硅片转运至承托板(5)上时，通过设置在承托板(5)上的透水孔(6)，用于分离承托板(5)上的水流和硅片。2.根据权利要求1所述的薄型硅片连续转运装置，其特征在于：所述转运架(4)转动设于转运平台(1)内，且承托板(5)围绕转运架(4)的转动中心等角度设置。3.根据权利要求1所述的薄型硅片连续转运装置，其特征在于：所述转运架(4)上设有用于容纳承托板(5)的凹槽(7)，且凹槽(7)的顶部敞开，所述凹槽(7)的一侧设有开口，且开口与底板(2)上表面处于同一水平面上。4.根据权利要求3所述的薄型硅片连续转运装置，其特征在于：所述凹槽(7)的内部上下滑动设有调节板(8)。5.根据权利要求1所述的薄型硅片连续转运装置，其特征在于：所述底板(2)上且靠近水流路径的末端位置处设有导向组件(9)，所述导向组件(9)用于将水流中的硅片导向至承托板(5)上。6.根据权利要求5所述的薄型硅片连续转运装置，其特征在于：所述导向组件(9)包括设于底板(2)上的导向块(901)，所述导向块(901)设有两组，两组导向块(901)之间形成导向通道，所述导向通道入口处的截面面积大于导向通道出口处的截面面积，且截面面积均匀变化，所述导向通道的内壁上设有若干个导向滚轮(902)，经导向滚轮(902)的滚动，用于将硅片导向至凹槽(7)的开口内。7.根据权利要求5所述的薄型硅片连续转运装置，其特征在于：所述导向组件(9)的外侧设有用于二次冲洗硅片的冲洗组件(10)。8.根据权利要求7所述的薄型硅片连续转运装置，其特征在于：所述冲洗组件(10)包括水箱(1001)和设于转运平台(1)上的支撑架(1003)，所述支撑架(1003)上设有水泵(1002)，所述水箱(1001)的输出端与水泵(1002)的输入端之间连接，所述水泵(1002)的输出端连接有冲洗喷头(1004)。9.根据权利要求8所述的薄型硅片连续转运装置，其特征在于：所述冲洗喷头(1004)在支撑架(1003)上设有若干个，且冲洗喷头(1004)转动设于支撑架(1003)上。10.根据权利要求1所述的薄型硅片连续转运装置，其特征在于：所述侧板(3)上设有纠偏组件(11)，所述纠偏组件(11)用于纠正水流中的硅片。

技术总结
本发明公开了一种薄型硅片连续转运装置，涉及硅片生产设备技术领域，包括转运平台，所述转运平台上表面设有底板，所述底板的上表面设有若干个侧板，所述底板和相邻两组所述侧板之间形成水流通道，水流通道的内部设有水流路径，水流穿过水流路径的始端，并沿着水流路径转运硅片，所述水流通道内且靠近水流路径的末端处设有转运架，所述转运架的内部设有承托板，当水流将硅片转运至承托板上时，通过设置在承托板上的透水孔，用于分离承托板上的水流和硅片。本发明具有降低硅片破损率的作用。本发明具有降低硅片破损率的作用。本发明具有降低硅片破损率的作用。


技术研发人员：刘伟
受保护的技术使用者：山西东明光伏科技有限公司
技术研发日：2023.07.20
技术公布日：2023/10/15