一种磁铁制造用镀膜装置的制作方法

未命名 07-13 阅读:137 评论:0


1.本技术涉及金属电镀技术领域,尤其涉及一种磁铁制造用镀膜装置。


背景技术:

2.磁铁在生产制造的过程中,需要对其进行电镀处理,在磁铁的表面镀上一薄层,对磁铁本身进行保护,其中,电镀的主要过程,是将磁铁放置在悬挂架上,将载有磁铁的悬挂架放入电镀液中,此时电镀液中存在的镀层金属离子,主要是通过接阳极的镀覆金属形成金属离子进入电镀液,而载有磁铁的悬挂架使磁铁接阴极,在电位差的作用下,使金属离子镀覆在磁铁表面上。
3.为了提高磁铁表面镀层的均匀性和电镀的效率,一般会对电镀液进行搅动,提高单位时间内电镀液与磁铁的接触量,但是这种方式,依然无法改变磁铁与悬挂架的接触部位,无法直接与电镀液接触的问题,导致磁铁与悬挂架的接触部位电镀的效果差,同时,在电镀的过程中,电镀液中会逐渐产生杂质结晶(电镀液中添加的辅助原料和金属化学反应等所产生的杂质),这使得电镀液中的杂质浓度会不断升高,影响电镀液中有效金属离子与磁铁的直接接触,减弱电镀效果。


技术实现要素:

4.本技术提出了一种磁铁制造用镀膜装置,具备循环泵间歇性启闭带动电镀液间歇性快速流动、快速流动的电镀液冲击水轮带动中心辊转动、电镀液流动性差时中心辊回转、往复转动的中心辊通过齿轮带动传动条做直线往复运动、传动条通过变位凸起改变支撑块ⅰ和支撑块ⅱ的高度、支撑块ⅰ和支撑块ⅱ与磁铁的间歇性接触、磁铁与支撑块ⅰ和支撑块ⅱ的接触点能直接接触电镀液进行电镀、磁铁在支撑块ⅰ和支撑块ⅱ的带动下进行上下往复运动、磁铁配合弹簧带动搅动板晃动、搅动板搅动周围的沉积杂质使杂质快速排走的优点,用以解决磁铁与悬挂架的接触部位无法获得电镀液的直接电镀以及电镀液中的杂质沉积导致电镀效果差的问题。
5.为达到上述目的,本技术采用如下技术方案:一种磁铁制造用镀膜装置,包括基座,所述基座内开设有液池,所述液池内设有阳极金属,所述液池内填充有电镀液,所述液池的一端开设有进液口,另一端开设有排液口,用于对液池内的电镀液进行循环,所述基座的一侧设有循环泵,所述循环泵进行间歇性启闭,用于提供流动的电镀液的动力并改变电镀液的流动性,所述循环泵上连接有流通管,所述流通管的一侧与排液口接通,所述流通管的另一侧设有连接管,所述连接管的顶端设有布液管,所述布液管与进液口接通,用于对液池内的电镀液进行循环,所述液池的上方设有两个对称的置物座,所述置物座内开设有电镀池,所述布液管上设有两个对称的输送管与电镀池接通,用于向电镀池内输送电镀液,所述置物座的底部开设有均布的泄漏孔,用于连接电镀池与液池内的电镀液,所述电镀池内设有支撑装置,所述支撑装置上设有均布的磁铁,用于支撑磁铁进行电镀,所述置物座上设有动力装置,用于吸收流动的电镀液的动力并进行传递,所述动力装置与支撑装置进行传
动连接,用于支撑装置接收动力并进行转化。
6.优选的,所述动力装置包括贯穿两个置物座的中心辊,所述中心辊与置物座之间设有扭簧,用于对中心辊进行复位,所述中心辊上设有三个水轮,所述水轮的底部位于液池的电镀液内,用于接收流动的电镀液的动力,所述中心辊上设有四个齿轮,用于向支撑装置传递动力。
7.优选的,所述支撑装置包括传动条,所述传动条的顶端设有均布的齿与齿轮啮合,用于接收动力装置传递的动力,所述传动条的顶端两侧设有两组对称的变位凸起,所述变位凸起上设有结构相同的支撑块ⅰ和支撑块ⅱ,用于改变支撑块ⅰ和支撑块ⅱ与磁铁的接触时间。
8.优选的,一组所述变位凸起由两个相接的等腰三角体构成,一个所述等腰三角体的两个倾斜边上分别与支撑块ⅰ和支撑块ⅱ的底端贴合,当支撑块ⅰ处于倾斜边的底部时,支撑块ⅱ处于倾斜边的顶部,用于改变支撑块ⅰ与支撑块ⅱ的高度,形成支撑块ⅰ与支撑块ⅱ相反的动作条件。
9.优选的,所述电镀池的底端开设有两个对称的滑动槽,所述传动条位于滑动槽内,用于限制传动条的运动状态。
10.优选的,所述电镀池的两侧壁上开设有均布的对称的限位槽,所述支撑块ⅰ的两端插入与支撑块ⅰ处于同一直线上的限位槽内,所述支撑块ⅱ的两端插入与支撑块ⅱ处于同一直线上的限位槽内,所述限位槽的高度值大于支撑块ⅰ的高度值,所述限位槽的宽度值等于支撑块ⅰ的宽度值,用于限制支撑块ⅰ和支撑块ⅱ的运动状态。
11.优选的,所述支撑块ⅰ和支撑块ⅱ一侧上均铰接有铰接杆,所述支撑块ⅰ上的铰接杆背离支撑块ⅰ的一侧设有搅动板,所述搅动板上带有磁性,与磁铁相吸,用于配合磁铁改变搅动板的位置,所述搅动板的底端设有弹簧,所述弹簧的底端与支撑块ⅰ正对搅动板的一侧连接,用于带动搅动板进行摆动。
12.优选的,所述支撑块ⅱ上的铰接杆背离支撑块ⅱ的一侧设有搅动板,所述搅动板上带有磁性,与磁铁相吸,所述搅动板的底端设有弹簧,所述弹簧的底端与支撑块ⅱ正对搅动板的一侧连接,用于改变搅动板的位置,搅动周围的电镀液。
13.本技术具备如下有益效果:本技术提供的一种磁铁制造用镀膜装置,通过循环泵间歇性的带动电镀液快速流动,使电镀液在快速流动时推动水轮旋转,此时扭簧蓄能,在电镀液流动性差时将无法推动水轮旋转,此时扭簧将带动水轮回转,从而带动中心辊和齿轮同步旋转,使齿轮啮合传动条上的齿,推动传动条移动,使变位凸起与支撑块ⅰ和支撑块ⅱ的相对位置改变,从而使磁铁做上下往复运动,提高单位时间内磁铁与电镀液的接触量,提高电镀效果。
14.同时,在支撑块ⅰ下移时,支撑块ⅰ上的磁铁下移,同时支撑块ⅱ上抬,至支撑块ⅱ的顶端与磁铁的底端接触,此时支撑块ⅰ继续下移,支撑块ⅱ将带动磁铁上抬,在支撑块ⅰ上抬时,支撑块ⅱ下移,此时支撑块ⅱ上的磁铁下移,至支撑块ⅰ顶端与磁铁的底端接触,此时支撑块ⅰ推动磁铁继续上抬,支撑块ⅱ继续下移,从而使磁铁在上下往复运动时,磁铁底端被支撑的接触部位不断改变,使磁铁底端被支撑的接触部位也能直接接触电镀液,进行高效的电镀。
15.同时,在支撑块ⅰ支撑磁铁下移时,支撑块ⅰ上的搅动板受到磁铁的吸引而保持向
上偏转倾斜的状态,当支撑块ⅱ逐渐靠近磁铁与磁铁的底端接触时,支撑块ⅱ上的搅动板受到磁铁的吸引,向上偏转,对周围的电镀液进行一定程度的搅动,此时,支撑块ⅱ将带动磁铁上抬,而支撑块ⅰ继续下移,使磁铁对支撑块ⅰ上的搅动板的吸引逐渐减弱,使支撑块ⅰ上的搅动板在此处搅动板下方的弹簧的带动下进行弹动,使搅动板搅动周围的电镀液,此时支撑块ⅰ上的搅动板靠近电镀池的池底,使搅动板周围沉积的杂质在搅动下飘动,跟随此时通过泄漏孔排出的电镀液排出电镀池,从而减少电镀池内的杂质沉积量(支撑块ⅱ下移,支撑块ⅰ上抬时同理,区别在于支撑块ⅱ下移时输送管依然在向电镀池内输送电镀液,支撑块ⅰ在下移时,输送管停止向电镀池内输送电镀液,停止输送电镀液后,电镀池内的电镀液的流动性将变差,此时搅动沉积的杂质,利于排出)。
附图说明
16.构成说明书的一部分的附图描述了本技术公开的实施例,并且连同说明书一起用于解释本技术公开的原理。
17.参照附图,根据下面的详细描述,可以更加清楚地理解本技术,其中:图1为本发明立体结构示意图;图2为本发明液池结构示意图;图3为本发明置物座结构位置示意图;图4为本发明置物座内部结构示意图;图5为本发明支撑装置结构示意图;图6为本发明图5中a处结构均布放大示意图。
18.附图标记:1、基座;2、液池;3、排液口;4、进液口;5、循环泵;6、流通管;7、回流孔;8、连接管;9、布液管;10、输送管;11、阳极金属;12、阴极架;13、置物座;14、电镀池;15、泄漏孔;16、滑动槽;17、限位槽;18、传动条;19、变位凸起;20、支撑块ⅰ;21、支撑块ⅱ;22、磁铁;23、中心辊;24、水轮;25、齿轮;26、铰接杆;27、搅动板;28、弹簧。
具体实施方式
19.下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
20.实施例一
21.请参阅图1至图3,一种磁铁制造用镀膜装置,包括基座1,基座1内开设有液池2,液池2的底端呈倾斜状,使液池2内的电镀液能在液池2的高度差下加快流动速度,从而提高快速流动的电镀液对水轮24的冲击力,液池2倾斜向上的一端开设有进液口4,另一端开设有排液口3,使通过循环泵提供动力的电镀液从进液口4排入液池2内,然后通过液池2内高度差的影响,再次加速向排液口3的方向流动,提高液池2内电镀液的流动性,液池2的底端固定连接有阳极金属11,阳极金属11靠近进液口4,使阳极金属11形成的金属离子能快速的融入电镀液内。
22.参阅图1至图3,基座1的外侧壁上固定连接有循环泵5,循环泵5通过现有的智控程序控制,循环泵5在控制下进行间歇性启闭,使循环泵5在启动时,能对电镀液施加动力,使液池2内快速流动的电镀液对水轮24进行冲击,使水轮24和中心辊23能进行转动,使扭簧蓄能,当循环泵5关闭后,液池2内的电镀液流动性差,此时水轮24受到的冲击力减弱,此时中心辊23与置物座13之间蓄能的扭簧将带动水轮24和中心辊23回转,循环泵5上连接有流通管6,流通管6上可加设过滤装置,用于将循环的电镀液中的杂质进行过滤,流通管6的两端均插入基座1内,流通管6位于排液口3下方的部位开设有回流孔7,且回流孔7与排液口3接通,使液池2内的电镀液能通过排液口3以及回流孔7进入流通管6内,然后通过流通管6进入循环泵5,流通管6位于进液口4下方的部位上固定连接有连接管8,连接管8的顶端固定连接有布液管9,布液管9正对进液口4的一侧开口,且布液管9开口的一侧与进液口4接通,使循环泵5能将吸入的电镀液,再通过流通管6和连接管8输入布液管9内,然后通过进液口4再次输入液池2内,布液管9上固定连接有两个对称的输送管10,使电镀液能通过布液管9进入输送管10内,然后通过输送管10将电镀液输送至电镀池14内,排液口3、进液口4、布液管9的长度值均与液池2的宽度值相同,提高电镀液输入和输出液池2的速率。
23.参阅图1至图5,液池2的上方设有阴极架12,阴极架12的底端固定连接有两个对称的置物座13,置物座13内开设有电镀池14,输送管10的一端开口与电镀池14接通,电镀池14和液池2内均填充有电镀液,且液池2内的电镀液液面位于置物座13的下方,置物座13的底端开设有均布的泄漏孔15,使电镀液在通过输送管10送入电镀池14内后,能通过泄漏孔15排出电镀池14,使排出的电镀液回落至液池2内,使电镀池14内的电镀液通过排出泄漏孔15的电镀液,与液池2内的电镀液连接,使液池2内的电镀液内的电流,通过排出泄漏孔15的电镀液传递给电镀池14内的电镀液,同时使电镀池14内的电镀液在通过泄漏孔15排出电镀池14后,回落的电镀液中包含的杂质,始终与液池2内电镀液的液面部分接触,减少杂质在液池2内的沉积,电镀池14的底端开设有两个对称的滑动槽16,电镀池14的两侧壁上开设有均布的对称的限位槽17。
24.参阅图3至图5,滑动槽16内活动套接有传动条18,传动条18的顶端中心设有均布的齿,传动条18的顶端两侧固定连接有两组对称的变位凸起19,一组变位凸起19由两个相接的等腰三角体构成,一个等腰三角体的两个倾斜边上分别设有支撑块ⅰ20和支撑块ⅱ21,支撑块ⅰ20和支撑块ⅱ21的底端均开设有倾斜边与等腰三角体的倾斜边贴合,支撑块ⅰ20与支撑块ⅱ21结构相同,底端的倾斜边方向相反,当支撑块ⅰ20处于其中一个倾斜边的底部时,支撑块ⅱ21处于另一个倾斜边的顶部,使传动条18在滑动槽16内进行往复运动时,能通过等腰三角体的倾斜边推动支撑块ⅰ20(支撑块ⅱ21),从等腰三角体倾斜边的底部向顶部移动,使支撑块ⅰ20(支撑块ⅱ21)上抬,此时,等腰三角体的倾斜边对支撑块ⅱ21(支撑块ⅰ20)的支撑力减弱,使支撑块ⅱ21(支撑块ⅰ20)下移,从而使支撑块ⅰ20在上抬(下移)时,支撑块ⅱ21能进行相反动作的下移(上抬)。
25.参阅图4至图6,支撑块ⅰ20的两端插入与支撑块ⅰ20处于同一直线上的限位槽17内,支撑块ⅱ21的两端插入与支撑块ⅱ21处于同一直线上的限位槽17内,限位槽17的高度值大于支撑块ⅰ20的高度值,限位槽17的宽度值等于支撑块ⅰ20的宽度值,使限位槽17对支撑块ⅰ20和支撑块ⅱ21进行限位,使支撑块ⅰ20和支撑块ⅱ21只能进行上下移动,一个等腰三角体上的支撑块ⅰ20相对于支撑块ⅱ21更靠近进液口4,一组变位凸起19内的两个等腰三
角体上的支撑块ⅰ20的顶端设有均布的磁铁22,使磁铁22能在支撑块ⅰ20的支撑下悬浮于电镀池14内的电镀液内,进行电镀,当支撑块ⅰ20下移,支撑块ⅱ21上抬时,磁铁22将跟随支撑块ⅰ20下移,直至支撑块ⅱ21与磁铁22接触,此时支撑块ⅱ21支撑磁铁22,带动磁铁22上抬,而支撑块ⅰ20继续下移,同理,当支撑块ⅱ21下移时,磁铁22跟随支撑块ⅱ21下移,此时支撑块ⅰ20上抬,直至支撑块ⅰ20与磁铁22接触,使支撑块ⅰ20支撑磁铁22,带动磁铁22上抬,而支撑块ⅱ21继续下移,从而使磁铁22做上下往复运动,增大磁铁22与电镀液的接触,提高电镀效果,同时,在支撑块ⅰ20和支撑块ⅱ21分别支撑磁铁22时,支撑块ⅰ20与支撑块ⅱ21与磁铁22的接触点不同,从而使磁铁22与支撑块ⅰ20和支撑块ⅱ21的接触点也能直接接触电镀液,进行电镀。
26.参阅图1至图5,两个置物座13的中心活动套接有贯穿的中心辊23,中心辊23与置物座13之间设有扭簧,中心辊23上固定套接有三个水轮24,其中一个水轮24位于两个置物座13之间,另外两个水轮24分别位于置物座13与液池2的两侧壁之间,水轮24的底部与液池2内的电镀液接触,使液池2内的电镀液在快速流动时,能推动水轮24,使水轮24带动中心辊23进行旋转,此时扭簧蓄能,当液池2内的电镀液失去循环泵5的动力导致流动性差时,蓄能的扭簧能带动中心辊23和水轮24回转,以此往复,从而使中心辊23进行往复转动。
27.参阅图4至图5,中心辊23上固定套接有四个齿轮25,齿轮25与传动条18上的齿啮合,使中心辊23带动齿轮25做往复转动运动,从而使齿轮25往复啮合传动条18上的齿,带动传动条18在滑动槽16内做往复直线运动,从而使变位凸起19不断的改变支撑块ⅰ20和支撑块ⅱ21的高度,带动磁铁22做上下往复运动。
28.实施例二
29.请参阅图5至图6,在实施例一的基础上,支撑块ⅰ20和支撑块ⅱ21一侧上均铰接有铰接杆26,支撑块ⅰ20上的铰接杆26背离支撑块ⅰ20的一侧设有搅动板27,搅动板27上带有磁性,与磁铁22相吸,搅动板27的底端固定连接有弹簧28,弹簧28的底端与支撑块ⅰ20正对搅动板27的一侧固定连接,在支撑块ⅰ20支撑磁铁22下移时,支撑块ⅰ20上的搅动板27受到磁铁22的吸引而保持向上偏转倾斜的状态,当支撑块ⅱ21逐渐靠近磁铁22与磁铁22的底端接触时,支撑块ⅱ21上的搅动板27受到磁铁22的吸引,向上偏转,对周围的电镀液进行一定程度的搅动,此时,支撑块ⅱ21将带动磁铁22上抬,而支撑块ⅰ20继续下移,使磁铁22对支撑块ⅰ20上的搅动板27的吸引逐渐减弱,使支撑块ⅰ20上的搅动板27在此处搅动板27下方的弹簧28的带动下进行弹动,使搅动板27搅动周围的电镀液,此时支撑块ⅰ20上的搅动板27靠近电镀池14的池底,使搅动板27周围沉积的杂质在搅动下飘动,跟随此时通过泄漏孔15排出电镀池14的电镀液排出电镀池14,从而减少电镀池14内的杂质沉积量。
30.参阅图5至图6,支撑块ⅱ21上的铰接杆26背离支撑块ⅱ21的一侧设有搅动板27,搅动板27上带有磁性,与磁铁22相吸,搅动板27的底端固定连接有弹簧28,弹簧28的底端与支撑块ⅱ21正对搅动板27的一侧固定连接,在支撑块ⅱ21支撑磁铁22下移时,支撑块ⅱ21上的搅动板27受到磁铁22的吸引而保持向上偏转倾斜的状态,当支撑块ⅰ20逐渐靠近磁铁22与磁铁22的底端接触时,支撑块ⅰ20上的搅动板27受到磁铁22的吸引,向上偏转,对周围的电镀液进行一定程度的搅动,此时,支撑块ⅰ20将带动磁铁22上抬,而支撑块ⅱ21继续下移,使磁铁22对支撑块ⅱ21上的搅动板27的吸引逐渐减弱,使支撑块ⅱ21上的搅动板27在此处搅动板27下方的弹簧28的带动下进行弹动,使搅动板27搅动周围的电镀液,此时支撑
块ⅱ21上的搅动板27靠近电镀池14的池底,使搅动板27周围沉积的杂质在搅动下飘动,跟随此时通过泄漏孔15排出电镀池14的电镀液排出电镀池14,从而减少电镀池14内的杂质沉积量。

技术特征:
1.一种磁铁制造用镀膜装置,其特征在于,包括基座(1),所述基座(1)内开设有液池(2),所述液池(2)内设有阳极金属(11),所述液池(2)内填充有电镀液,所述液池(2)的一端开设有进液口(4),另一端开设有排液口(3),用于输入输出液池(2)内的电镀液;所述基座(1)的一侧设有循环泵(5),所述循环泵(5)进行间歇性启闭,用于提供流动的电镀液的动力并改变电镀液的流动性,所述循环泵(5)上连接有流通管(6),所述流通管(6)的一侧与排液口(3)接通,所述流通管(6)的另一侧设有连接管(8),所述连接管(8)的顶端设有布液管(9),所述布液管(9)与进液口(4)接通,用于对液池(2)内的电镀液进行循环;所述液池(2)的上方设有两个对称的置物座(13),所述置物座(13)内开设有电镀池(14),所述布液管(9)上设有两个对称的输送管(10)与电镀池(14)接通,用于向电镀池(14)内输送电镀液;所述置物座(13)的底部开设有均布的泄漏孔(15),用于连接电镀池(14)与液池(2)内的电镀液,所述电镀池(14)内设有支撑装置,所述支撑装置上设有均布的磁铁(22),用于支撑磁铁(22)进行电镀;所述置物座(13)上设有动力装置,用于吸收流动的电镀液的动力并进行传递,所述动力装置与支撑装置进行传动连接,用于支撑装置接收动力并进行转化。2.根据权利要求1所述的一种磁铁制造用镀膜装置,其特征在于,所述动力装置包括贯穿两个置物座(13)的中心辊(23),所述中心辊(23)与置物座(13)之间设有扭簧,用于对中心辊(23)进行复位,所述中心辊(23)上设有三个水轮(24),所述水轮(24)的底部位于液池(2)的电镀液内,用于接收流动的电镀液的动力,所述中心辊(23)上设有四个齿轮(25),用于向支撑装置传递动力。3.根据权利要求2所述的一种磁铁制造用镀膜装置,其特征在于,所述支撑装置包括传动条(18),所述传动条(18)的顶端设有均布的齿与齿轮(25)啮合,用于接收动力装置传递的动力,所述传动条(18)的顶端两侧设有两组对称的变位凸起(19),所述变位凸起(19)上设有结构相同的支撑块ⅰ(20)和支撑块ⅱ(21),用于改变支撑块ⅰ(20)和支撑块ⅱ(21)与磁铁(22)的接触时间。4.根据权利要求3所述的一种磁铁制造用镀膜装置,其特征在于,一组所述变位凸起(19)由两个相接的等腰三角体构成,一个所述等腰三角体的两个倾斜边上分别与支撑块ⅰ(20)和支撑块ⅱ(21)的底端贴合,当支撑块ⅰ(20)处于倾斜边的底部时,支撑块ⅱ(21)处于另一个倾斜边的顶部,用于改变支撑块ⅰ(20)与支撑块ⅱ(21)的高度,形成支撑块ⅰ(20)与支撑块ⅱ(21)相反的动作条件。5.根据权利要求3所述的一种磁铁制造用镀膜装置,其特征在于,所述电镀池(14)的底端开设有两个对称的滑动槽(16),所述传动条(18)位于滑动槽(16)内,用于限制传动条(18)的运动状态。6.根据权利要求4所述的一种磁铁制造用镀膜装置,其特征在于,所述电镀池(14)的两侧壁上开设有均布对称的限位槽(17),所述支撑块ⅰ(20)的两端插入与支撑块ⅰ(20)处于同一直线上的限位槽(17)内,所述支撑块ⅱ(21)的两端插入与支撑块ⅱ(21)处于同一直线上的限位槽(17)内,所述限位槽(17)的高度值大于支撑块ⅰ(20)的高度值,所述限位槽(17)的宽度值等于支撑块ⅰ(20)的宽度值,用于限制支撑块ⅰ(20)和支撑块ⅱ(21)的运动状态。7.根据权利要求6所述的一种磁铁制造用镀膜装置,其特征在于,所述支撑块ⅰ(20)和
支撑块ⅱ(21)一侧上均铰接有铰接杆(26),所述支撑块ⅰ(20)上的铰接杆(26)背离支撑块ⅰ(20)的一侧设有搅动板(27),所述搅动板(27)上带有磁性,与磁铁(22)相吸,用于配合磁铁(22)改变搅动板(27)的位置,所述搅动板(27)的底端设有弹簧(28),所述弹簧(28)的底端与支撑块ⅰ(20)正对搅动板(27)的一侧连接,用于带动搅动板(27)进行摆动。8.根据权利要求7所述的一种磁铁制造用镀膜装置,其特征在于,所述支撑块ⅱ(21)上的铰接杆(26)背离支撑块ⅱ(21)的一侧设有搅动板(27),所述搅动板(27)上带有磁性,与磁铁(22)相吸,所述搅动板(27)的底端设有弹簧(28),所述弹簧(28)的底端与支撑块ⅱ(21)正对搅动板(27)的一侧连接,用于改变搅动板(27)的位置,搅动周围的电镀液。9.根据权利要求1所述的一种磁铁制造用镀膜装置,其特征在于,所述液池(2)的底端呈倾斜状,进液口(4)位于液池(2)倾斜向上的一端,排液口(3)位于液池(2)倾斜向下的一端,用于加快液池(2)内的电镀液的流动。

技术总结
本申请涉及金属电镀技术领域,公开了一种磁铁制造用镀膜装置,包括基座,基座内开设有液池,液池内填充有电镀液,液池上方设有置物座,置物座内开设有电镀池,置物座上设有动力装置,电镀池内设有支撑装置,支撑装置包括传动条,传动条上设有与动力装置啮合的齿,传动条上设有变位凸起,变位凸起上设有支撑块Ⅰ和支撑块Ⅱ,支撑块Ⅰ上设有磁铁。本发明通过电镀液的间歇性流动带动动力装置进行往复转动,使动力装置带动支撑装置往复移动,使支撑装置中的变位凸起挤压支撑块Ⅰ和支撑块Ⅱ,改变支撑块Ⅰ和支撑块Ⅱ的高度位置,带动磁铁进行上下往复移动,加大磁铁与更多的电镀液的接触,提高电镀效果。高电镀效果。高电镀效果。


技术研发人员:朱国栋 朱国辉 刘孝军
受保护的技术使用者:徐州远洋磁性材料有限公司
技术研发日:2023.06.09
技术公布日:2023/7/12
版权声明

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