用于供应光致抗蚀剂的系统和用于管理光致抗蚀剂的方法与流程

用于供应光致抗蚀剂的系统和用于管理光致抗蚀剂的方法
1.相关申请的交叉引用
2.本技术要求2021年12月2日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请no.10-2021-0171320的优先权和利益，其全部内容通过引用并入本文。
技术领域
3.本发明涉及一种用于供应光致抗蚀剂的系统和用于在该系统中管理光致抗蚀剂的方法。


背景技术：

4.在光致抗蚀剂的供应系统中，根据储存光致抗蚀剂的化学液体瓶和临时储存光致抗蚀剂的捕集罐之间的设施布局，存在压头损失差。压头损失差高达1540mm。因此，当供应系统中形成负压时，管道中可能产生微气泡。
5.此外，当替换化学液体瓶时产生的气泡向上流入捕集罐，并且结果，存在与光致抗蚀剂一起排出的气泡影响泵和工艺性能的问题。


技术实现要素：

6.本发明的一个目的是提供一种用于供应光致抗蚀剂的系统和一种用于管理光致抗蚀剂的方法，其可以最小化在光致抗蚀剂供应系统中可能产生的气泡。
7.本发明的一个目的是提供一种用于供应光致抗蚀剂的系统和一种用于管理光致抗蚀剂的方法，其可以解决由于压头损失差而在供应系统中产生的负压。
8.本发明的一个目的是提供一种用于供应光致抗蚀剂的系统和一种用于管理光致抗蚀剂的方法，其可以有效地管理气泡，特别是在高粘度光致抗蚀剂中。
9.本发明要解决的问题不限于上述问题，并且本领域技术人员将从本说明书和附图中清楚地理解未提及的问题。
10.本发明的实施例提供了一种用于供应光致抗蚀剂的系统。在实施例中，一种用于供应光致抗蚀剂的系统包括压力调整容器，其被设置到从化学液体瓶连接到第一罐的供应管线，并且压力调整容器包括在其中形成有空间的壳体、将壳体的空间分隔成第一空间和第二空间的分隔器、使光致抗蚀剂流入第一空间的流入端口、从第一空间排出光致抗蚀剂的排出端口(discharge port)，以及向第二空间供应加压流体的加压流体流入端口，并且第一空间的体积根据加压流体的供应而变化。
11.在实施例中，第一罐可以位于比化学液体瓶高的位置。
12.在实施例中，供应管线可以连接到比化学液体瓶高的位置。
13.在实施例中，在压力调整容器的上游可以设置打开/关闭流动路径的开闭阀。
14.在实施例中，排放管线(drain line)可以连接到供应管线中的连接压力调整容器和化学液体瓶的供应管线。
15.在实施例中，第一罐可以是捕集罐。
16.在实施例中，该系统还可以还包括控制器，并且当光致抗蚀剂从化学液体瓶传输到第一罐或光致抗蚀剂未传输时，控制器可以控制加压流体供应到第二空间以将由供应管线形成的流动路径维持在正压。
17.在实施例中，该系统还可以还包括：开闭阀，其被设置在压力调整容器的上游，并且打开/关闭光致抗蚀剂在其中流动的流动路径；以及控制器，并且当光致抗蚀剂从化学液体瓶传输到第一罐时，控制器可以控制第一空间以具有第一体积，并且当光致抗蚀剂从化学液体瓶到第一罐的传输停止时，控制器可以关闭开闭阀，并通过控制加压流体的供应来控制第一空间以具有第二体积，并且第二体积可以大于第一体积。
18.在实施例中，第二体积可以是用于将由供应管线形成的流动路径维持在正压的体积。
19.在实施例中，空气泡传感器可以被设置到供应管线中的连接压力调整容器和化学液体瓶的供应管线。
20.在实施例中，该系统还可以还包括：排放管线，其被设置到连接压力调整容器和化学液体瓶的供应管线，并且连接到空气泡传感器的下游；以及控制器，其从空气泡传感器收集数据并打开/关闭排放管线，并且当由空气泡传感器感测到的空气泡等于或大于设定值时，控制器可以打开排放管线。
21.在实施例中，当空气泡传感器的感测值等于或小于设定值时，排放管线可以关闭。
22.在实施例中，该系统还可以还包括：瓶接收容器，在该瓶接收容器中形成有内部空间，并且在该内部空间中具有化学液体瓶；加压气体流入端口，其连接到瓶接收容器的内部空间并将加压气体供应到内部空间；以及供应管道，其延伸到化学液体瓶的内部并连接到供应管线。
23.本发明的另一实施例提供了一种用于供应光致抗蚀剂的系统，该系统包括：容器，在该容器中形成有内部空间，并且在内部空间中具有化学液体瓶；加压气体流入端口，其连接到瓶接收容器的内部空间并将加压气体供应到内部空间；以及管道，其延伸到化学液体瓶的内部并将存储在化学液体瓶中的光致抗蚀剂排出到化学液体瓶的外部。
24.此外，本发明的又一实施例提供了一种用于管理光致抗蚀剂的方法。在实施例中，一种用于管理光致抗蚀剂的方法包括：其中在从化学液体瓶连接到设置在比化学液体瓶高的位置的第一罐的供应管线中，空间包括光致抗蚀剂在其中流动的第一空间和通过分隔器与第一空间分隔的第二空间，向第二空间供应填充第二空间的加压流体；以及通过供应加压流体来改变第一空间的体积，以将供应管线内的光致抗蚀剂维持在正压。
25.在实施例中，在压力调整容器的上游可以设置打开/关闭流动路径的开闭阀。
26.在实施例中，空气泡传感器可以被设置到供应管线中的连接由第二空间形成的区域和化学液体瓶的供应管线，排放管线可以连接到该区域的上游，该区域是空气泡传感器的下游并且由第二空间形成，并且当空气泡传感器的感测值等于或大于设定值时，可以打开排放管线。
27.在实施例中，打开/关闭流动路径的开闭阀可以被设置在由第二空间形成的区域的上游，并且当光致抗蚀剂从化学液体瓶到第一罐的传输停止时，开闭阀可以关闭，并且加压流体可以被供应到第二空间以相对减小第一空间的体积。
28.在实施例中，通过第一空间的体积的减小，供应管线的内部可以变成正压。
29.在实施例中，第一罐可以是捕集罐。
30.根据本发明的实施例，可以最小化在光致抗蚀剂供应系统中可能产生的气泡。
31.根据本发明的实施例，可以解决由于压头损失差而在供应系统中产生的负压。
32.根据本发明的实施例，可以有效地管理气泡，特别是在高粘度光致抗蚀剂中。
33.本发明的效果不限于上述效果，并且本领域技术人员将从本说明书和附图中清楚地理解未提及的效果。
附图说明
34.图1图示了根据本发明的实施例的用于供应光致抗蚀剂的系统。
35.图2是根据本发明的实施例的压力调整容器的截面图。
36.图3是用于描述根据按照本发明的实施例的用于供应光致抗蚀剂的系统的操作的第一方面的图。
37.图4是用于描述压力调整容器在图3中描述的阶段中的操作的图。
38.图5是用于描述根据按照本发明的实施例的用于供应光致抗蚀剂的系统的操作的第二方面的图。
39.图6是用于顺序描述压力调整容器在图5中描述的阶段中的操作的图。
40.图7是用于描述根据按照本发明的实施例的用于供应光致抗蚀剂的系统的操作的第三方面的图。
41.图8是用于描述根据按照本发明的实施例的用于供应光致抗蚀剂的系统的操作的第四方面的图。
具体实施方式
42.在下面的详细描述中，仅通过说明的方式示出和描述了本发明的实施例。如本领域技术人员将认识到的，可以以各种不同的方式修改所描述的实施例，所有这些都不脱离本发明的精神或范围。此外，在详细描述本发明的优选实施例时，如果确定相关联的已知功能或构造不必要地使本发明的要点不清楚，则将省略对它们的详细描述。此外，在所有附图中相同的附图标记用于执行类似功能和类似动作的部分。
43.除非明确相反地描述，否则“包含”一词和诸如“包含了”或“包含有”的变体应理解为暗示包括所述元素，但不排除任何其他元素。具体地，应当理解，术语“包括”或“具有”指示存在说明书中描述的特征、数量、步骤、操作、部件、部分或其组合，但不排除预先存在或添加一个或多个其他特征、数量、步骤、操作、部件、部分或者其组合的可能性。
44.如果上下文中没有明确相反的含义，则单数形式包括复数形式。此外，为了更清楚地解释，附图中的元素的形状、大小等可以被夸大。
45.术语“和/或”包括对应的列出项目中的任何一个以及一个或多个项目的所有组合。此外，在本说明书中，除了构件a和构件b直接连接的情况之外，术语“连接”还指构件c被插入构件a与构件b之间以间接连接构件a和b的情况。
46.本发明的实施例可以以各种形式修改，并且不应解释为本发明的范围限于以下描述的实施例。提供这些实施例是为了向本领域技术人员更全面地描述本发明。因此，为了强调更明确的描述，夸大了附图中的元素的形状。
47.图1图示了根据本发明的实施例的用于供应光致抗蚀剂的系统。将参考图1描述用于供应光致抗蚀剂的系统。
48.光致抗蚀剂供应系统1000包括化学液体瓶210、压力调整容器100、捕集罐300以及泵400。
49.化学液体瓶210具有内部空间。光致抗蚀剂被接收并被提供在化学液体瓶210的内部空间215中。化学液体瓶210被接收并被设置在瓶接收容器220中。瓶接收容器220设置封闭的内部空间225，并且化学液体瓶220被接收在内部空间225中。化学液体瓶210的内部空间215与瓶接收容器220的内部空间225连通。
50.瓶接收容器220的内部空间225连接到加压气体供应管线710。加压气体通过加压气体供应管线710被施加到瓶接收容器220的内部空间225。施加的加压气体将内部空间225的压力升高到预定压力。化学液体瓶210连接到第一供应管线610。化学液体瓶210通过第一供应管线610、第二供应管线620和第三供应管线640连接到捕集罐300。接收在化学液体瓶210中的光致抗蚀剂由于加压气体的相对压力差而通过第一供应管线610传递。在实施例中，加压气体可以是氮气。作为另一示例，加压气体可以是惰性气体。
51.如在本发明的实施例中，与直接对化学液体瓶210的内部空间215加压的方案相比，通过对瓶接收容器220的内部空间225加压的方案，可以施加的内部压力增加三倍，并且可以通过使用高内部压力来缩短充注时间。
52.加压气体供应管线710连接到加压气体供应源720。阀713和调节器715安装在加压气体供应管线710上。阀713打开和关闭由加压气体供应管线710形成的流动路径。调节器715将供应的加压气体的压力调整到设定压力。
53.压力调整容器100安装在将捕集罐300连接在化学液体瓶210中的第一供应管线610上。
54.图2是根据本发明的实施例的压力调整容器的截面图。将参照图2描述压力调整容器的实施例。
55.压力调整容器100包括壳体110和分隔器120。壳体110形成内部空间215。分隔器120将内部空间215分隔成第一空间112和第二空间115。由于作为在其中传递光致抗蚀剂的空间的第一空间112是连接到第一供应管线610和第二供应管线620的空间。第二空间115是加压气体被供应到的并且在其中填充加压气体的空间。
56.分隔器120可以被设置为柔性材料片。此外，分隔器120是弹性变形的并且其面积可以改变的材料。分隔器120可以是耐腐蚀的。
57.第二空间115连接到与加压流体供应管线740连接的流入端口。流入端口连接到加压流体供应管线740。加压流体供应管线740连接到加压流体供应源750。加压流体可以是氮气。然而，尽管不限于此，但加压流体也可以是空气。此外，加压流体不限于气体，并且也可以是液体。阀743和调节器745安装在加压流体供应管线740上。阀743打开和关闭由加压流体供应管线740形成的流动路径。调节器745将供应的加压流体的压力调整到设定压力。调节器745将加压流体的供应压力调整到将存在于由在其中压力调整容器100连接到捕集罐300的供应管线形成的流动路径中的光致抗蚀剂维持到设定压力的压力。例如，由调节器745进行的压力调整可以是由在其中压力调整容器100连接到捕集罐300的供应管线形成的流动路径上提供的压力维持到正压的压力。在另一示例中，例如，调节器745进行的压力调
整可以在由在其中压力调整容器100连接到捕集罐300的供应管线形成的流动路径上设置流体压力传感器，并且可以基于流体压力传感器的测量值进行反馈控制。
58.第二空间115连接到排气管线746，在排气管线746中，提供阀747，该阀747打开和关闭由排气管线746形成的流动路径。
59.第一空间112的体积根据通过加压流体供应管线740供应的加压流体的量而改变。当加压流体的量大时，第一空间112体积减小，同时分隔器120变形。在加压流体从第二空间115排出的状态下，第一空间112的体积增大。由于第一空间112是光致抗蚀剂在其中流动的流动路径的一部分，因此当第一空间112的体积减小时，光致抗蚀剂被加压。光致抗蚀剂被加压以变为正压。当光致抗蚀剂维持正压时，由于化学液体瓶210和捕集罐300之间的压头损失差而在供应管线中产生的负压可以被消除并维持到正压，因此可以防止由负压产生气泡。
60.将通过返回参考图1来描述用于供应光致抗蚀剂的系统。
61.空气泡传感器615被设置到连接压力调整容器100和化学液体瓶210的第一供应管线610。空气泡传感器615被设置到连接压力调整容器100和化学液体瓶210的第一供应管线630。排放管线630被安装在空气泡传感器615的下游。由空气泡传感器615提供的测量值被输送到控制单元(未图示)。当由空气泡传感器615测量的空气泡等于或大于测量值时，控制单元(未图示)打开阀633以打开排放管线630。当由空气泡传感器615测量的空气泡等于或小于测量值时，控制单元(未图示)关闭阀633以关闭排放管线630。通过应用空气泡传感器615和排放管线630，可以去除包含在第一供应管线610或化学液体瓶210中的空气泡或在替换化学液体瓶210时产生的空气泡。
62.所提供的光致抗蚀剂临时存储在捕集罐300中。水位传感器(未图示)安装在捕集罐300的一侧，并感测光致抗蚀剂的水位，以将光致抗蚀剂连续充注至适当的水位。捕集罐300位于比化学液体瓶210高的位置。例如，当化学液体瓶220被设置在装备的第一层(1f)时，捕集罐200可以被设置在装备的第二层(2f)。
63.排放管线630连接到捕集罐300的上端。排放管线630去除收集在捕集罐300的上端的空气泡。第四供应管线650连接到捕集罐300。第四供应管线650连接到泵400的流入端口。
64.泵400通过由抽吸和排出操作产生的流动压力以固定量供应储存在捕集罐300中的光致抗蚀剂。泵400和喷嘴500通过第五供应管线660连接。泵400将用于一个晶片的光致抗蚀剂从捕集罐300抽吸到泵室(未图示)，并在施加处理后以恒定压力和恒定流两将光致抗蚀剂排出到喷嘴500。在该实施例中，泵400可以是液体计量泵。
65.图3是用于描述根据按照本发明的实施例的用于供应光致抗蚀剂的系统的操作的第一方面的图。图4是用于描述压力调整容器在图3中描述的阶段中的操作的图。图5是用于描述根据按照本发明的实施例的用于供应光致抗蚀剂的系统的操作的第二方面的图。图6是用于描述压力调整容器在图5中描述的阶段中的操作的图。图7是用于描述根据按照本发明的实施例的用于供应光致抗蚀剂的系统的操作的第三方面的图。图8是用于描述根据按照本发明的实施例的用于供应光致抗蚀剂的系统的操作的第四方面的图。将参考图3至图8描述根据本发明的实施例的光致抗蚀剂供应系统的操作方法。在描述下面将要描述的实施例之前，提到了下面要描述的实施例只是一个示例，但本发明不限于下面要描述的实施例。
66.参考图3，当加压气体通过加压气体供应管线710被传递到内部空间215以将内部
空间215调整到第一压力时，加压气体对光致抗蚀剂加压，并且由于压力的相对差，加压光致抗蚀剂沿着连接到排出端口的第一供应管线610排出。储存在化学液体瓶210中的光致抗蚀剂沿着第一供应管线610流过压力调整容器100。穿过压力调整容器100的光致抗蚀剂通过第二供应管线620穿过阀645，并沿着第三供应管线640被临时接收在捕集罐300中。水位传感器(未图示)被设置到捕集罐。光致抗蚀剂被提供到捕获罐300，直到由水位传感器(未图示)感测到的光致抗蚀剂的接收量达到设定水位。进一步参考图4。在光致抗蚀剂被提供到捕集罐300的状态下，压力调整容器100的第一空间112可以具有第一体积。第一体积可以是当光致抗蚀剂在未向第二空间115施加加压流体的状态下流动时自然形成的体积。当水位传感器(未图示)感测到的光致抗蚀剂的接收量达到设定水位时，停止供应光致抗蚀剂。
67.可以通过阀645执行传递到捕集罐300的光致抗蚀剂的供应停止。此外，可以通过停止供应通过压力气体供应管线710供应的加压气体来执行传递到捕集罐300的光致抗蚀剂的供应停止。
68.当光致抗蚀剂的供应停止时，由于化学液体瓶210和捕集罐300之间的位置差，即压头损失差，连接化学液体瓶200和捕集罐300的供应管线的流动路径可能变为负压。当流动路径变为负压时，可能产生细气泡。参考图5和图6。根据本发明的实施例，当停止光致抗蚀剂的供应时，第二供应管线620和第三供应管线630之间的阀645处于锁定状态，并且第一供应管线610的阀623处于锁定状态。此外，加压流体被施加到压力调整容器100的第二空间115。第一空间112的体积被调整到第二体积。第二体积是小于第一体积的体积。当第一空间112减小到第二体积时，由第一供应管线610中的阀623的下游和阀645的上游的第二供应管线620形成的流动路径的压力可以变为正压。因此，尽管化学液体瓶210和捕集罐300的压头损失差，供应管线的流动路径仍可以变为正压，并且可以防止细气泡的产生。此外，为了将供应管线的流动路径维持在正压，可以不通过经过加压气体供应管线710定期供应加压气体来加压光致抗蚀剂。当光致抗蚀剂通过定期供应加压气体而处于加压状态时，存在加压气体与光致抗蚀剂相遇的可能性，这导致细气泡，但根据该实施例，由于执行利用加压气体进行的非接触式加压，因此不存在为将供应管线维持在正压而由加压气体产生的细气泡的问题。
69.参考图7。根据本发明的方面，穿过第一供应管线610的设定量的光致抗蚀剂可以通过排放管线630排出。空气泡传感器615测量光致抗蚀剂中包括的空气泡。当空气泡传感器615测量的空气泡等于或大于设定量时，控制器可以控制包括空气泡的光致抗蚀剂通过排放管线630排出。当替换化学液体瓶210时可能产生空气泡，并且存在产生的气泡流入捕集罐300的问题。当包括空气泡的光致抗蚀剂通过排放管线630排放时，可以解决该问题。参考图8。排放包括空气泡的光致抗蚀剂，并且当空气泡传感器615测量的空气泡等于或小于设定
70.量时，锁定阀630以停止排放。此外，阀623和阀645被打开以将光致抗蚀剂5传递到捕集罐300。
71.在上述实施例中，高粘度光致抗蚀剂用于高半导体集成。气泡管理在高粘度光致抗蚀剂中是重要的，并且本发明的实施例在传输高粘度光致抗蚀剂的光致抗蚀剂供应系统中可能更有效。
72.上述未图示的控制器可以控制基板处理装置1000的整体操作。控制器(未0图示)
可以包括中央处理单元(cpu)、只读存储器(rom)和随机存取存储器(ram)。cpu根据存储在cpu、rom和ram的存储区域中的各种配方执行期望的处理，诸如蚀刻处理等。
73.用于工艺条件的装置的控制信息被输入到配方中。同时，表示处理条件的程序或配方也可以存储在非暂时性计算机可读介质中。非暂时性计算机可读介5质不是在其中暂时存储数据的介质，诸如寄存器、高速缓存、内存等，而是指
74.在其中半永久地存储数据并且由计算机可读的介质。具体地，上述各种应用或程序可以存储并提供在非暂时性计算机可读介质中，诸如压缩盘(cd)、数字多功能盘(dvd)、硬盘、蓝光盘、通用串行总线(usb)、内存卡、只读存储器(rom)等。
75.0上述详细描述图示了本发明。此外，上述内容示出并描述了用于实施本发
76.明的技术精神的优选或各种实施例，并且本发明可以用于各种其他组合、修改和环境中。也就是说，上述内容可以在本说明书中公开的本发明的概念的范围内、与本公开的范围等效的范围内和/或本领域的技术或知识的范围内进行修改
77.或校正。因此，以上对本发明的详细描述不是旨在将本发明限制于所公开的实5施例。此外，所附权利要求应被解释为也包括其他实施例。从本发明的技术精神或前景来看，不应个体上理解修改的实施例。

技术特征：
1.一种用于供应光致抗蚀剂的系统，所述系统包括：压力调整容器，其被设置到从化学液体瓶连接到第一罐的供应管线，其中，所述压力调整容器包括：壳体，在所述壳体中形成有空间；分隔器，其将所述壳体的所述空间分隔成第一空间和第二空间；流入端口，其使光致抗蚀剂流入所述第一空间；排出端口，其从所述第一空间排出所述光致抗蚀剂；以及加压流体流入端口，其向所述第二空间供应加压流体，并且所述第一空间的体积根据所述加压流体的供应而变化。2.根据权利要求1所述的用于供应光致抗蚀剂的系统，其中，所述第一罐位于比所述化学液体瓶高的位置。3.根据权利要求1所述的用于供应光致抗蚀剂的系统，其中，所述供应管线连接到比所述化学液体瓶高的位置。4.根据权利要求1所述的用于供应光致抗蚀剂的系统，其中，在所述压力调整容器的上游设置打开/关闭流动路径的开闭阀。5.根据权利要求1所述的用于供应光致抗蚀剂的系统，其中，排放管线连接到所述供应管线中的连接所述压力调整容器和所述化学液体瓶的供应管线。6.根据权利要求1所述的用于供应光致抗蚀剂的系统，其中，所述第一罐是捕集罐。7.根据权利要求1所述的用于供应光致抗蚀剂的系统，还包括：控制器，其中，当所述光致抗蚀剂从所述化学液体瓶传输到所述第一罐或所述光致抗蚀剂未传输时，所述控制器控制所述加压流体供应到所述第二空间以将由所述供应管线形成的所述流动路径维持在正压。8.根据权利要求1所述的用于供应光致抗蚀剂的系统，还包括：开闭阀，其被设置在所述压力调整容器的上游，并且打开/关闭供所述光致抗蚀剂在其中流动的流动路径；以及控制器，其中，所述控制器执行以下操作：当所述光致抗蚀剂从所述化学液体瓶传输到所述第一罐时，控制所述第一空间以具有第一体积；以及当所述光致抗蚀剂停止从所述化学液体瓶传输到所述第一罐时，关闭所述开闭阀，并通过控制所述加压流体的供应来控制所述第一空间以具有第二体积，并且所述第二体积大于所述第一体积。9.根据权利要求8所述的用于供应光致抗蚀剂的系统，其中，所述第二体积是用于将由所述供应管线形成的所述流动路径维持在正压的体积。10.根据权利要求1所述的用于供应光致抗蚀剂的系统，其中，空气泡传感器被设置到所述供应管线中的连接所述压力调整容器和所述化学液体瓶的供应管线。11.根据权利要求10所述的用于供应光致抗蚀剂的系统，还包括：排放管线，其被设置到连接所述压力调整容器和所述化学液体瓶的所述供应管线，并
连接到所述空气泡传感器的下游；以及控制器，其从所述空气泡传感器收集数据并打开/关闭所述排放管线，其中，当由所述空气泡传感器感测到的空气泡等于或大于设定值时，所述控制器打开所述排放管线。12.根据权利要求11所述的用于供应光致抗蚀剂的系统，其中，当所述空气泡传感器的感测值等于或小于所述设定值时，所述排放管线关闭。13.根据权利要求1所述的用于供应光致抗蚀剂的系统，还包括：瓶接收容器，在所述瓶接收容器中形成有内部空间，并且在所述内部空间中具有所述化学液体瓶；加压气体流入端口，其连接到所述瓶接收容器的所述内部空间并将加压气体供应到所述内部空间；以及供应管道，其延伸到所述化学液体瓶的内部并连接到所述供应管线。14.一种用于供应光致抗蚀剂的系统，所述系统包括：容器，在所述容器中形成有内部空间，并且在所述内部空间中具有化学液体瓶；加压气体流入端口，其连接到瓶接收容器的所述内部空间并将加压气体供应到所述内部空间；以及管道，其延伸到所述化学液体瓶的内部并将存储在所述化学液体瓶中的所述光致抗蚀剂排出到所述化学液体瓶的外部。15.一种用于管理光致抗蚀剂的方法，所述方法包括：其中，在从化学液体瓶连接到设置在比所述化学液体瓶高的位置的第一罐的供应管线中，空间包括第一空间和通过分隔器与所述第一空间分隔的第二空间，光致抗蚀剂在所述第一空间中流动，向所述第二空间供应填充所述第二空间的加压流体；以及通过供应所述加压流体来改变所述第一空间的体积，以将所述供应管线内的所述光致抗蚀剂维持在正压。16.根据权利要求15所述的用于管理光致抗蚀剂的方法，其中，在压力调整容器的上游设置打开/关闭流动路径的开闭阀。17.根据权利要求15所述的用于管理光致抗蚀剂的方法，其中，空气泡传感器被设置到所述供应管线中的连接由所述第二空间形成的区域和所述化学液体瓶的供应管线，排放管线连接到所述区域的上游，所述区域是所述空气泡传感器的下游并且由所述第二空间形成，并且当所述空气泡传感器的感测值等于或大于设定值时，打开所述排放管线。18.根据权利要求15所述的用于管理光致抗蚀剂的方法，其中，打开/关闭流动路径的开闭阀被设置到由所述第二空间形成的所述区域的上游，并且当所述光致抗蚀剂从所述化学液体瓶到所述第一罐的传输停止时，所述开闭阀关闭，并且所述加压流体被供应到所述第二空间以相对减小所述第一空间的所述体积。19.根据权利要求18所述的用于管理光致抗蚀剂的方法，其中，通过所述第一空间的体积的减小，所述供应管线的内部变成正压。20.根据权利要求1所述的用于管理光致抗蚀剂的方法，其中，所述第一罐是捕集罐。

技术总结
提供了一种用于供应光致抗蚀剂的系统。在实施例中，一种用于供应光致抗蚀剂的系统包括压力调整容器，其被设置到从化学液体瓶连接到第一罐的供应管线，并且压力调整容器包括在其中形成有空间的壳体、将壳体的空间分隔成第一空间和第二空间的分隔器、使光致抗蚀剂流入第一空间的流入端口、从第一空间排出光致抗蚀剂的排出端口，以及向第二空间供应加压流体的加压流体流入端口，并且第一空间的体积根据加压流体的供应而变化。流体的供应而变化。流体的供应而变化。


技术研发人员：金海京 金大成 郑雨信
受保护的技术使用者：细美事有限公司
技术研发日：2022.12.02
技术公布日：2023/7/13