保持磁记录介质以用于膜厚度测量的盘毂的制作方法

1.本公开总体上涉及一种信息储存装置，并且特别地涉及一种用于在表征磁记录介质上的润滑剂膜的过程期间保持磁记录介质的盘毂。


背景技术：

2.计算机系统和各种电子装置可以使用磁储存装置以储存数据和信息。为了读取和/或写入数据，磁储存驱动器(例如，硬盘驱动器)可以采用记录头(例如，滑块)，其在磁记录介质的表面上方很接近地飞行。磁记录介质可以具有形成在介质表面上的润滑剂膜，以保护磁记录介质和记录头(例如，避免其间的潜在接触事件)。在一些示例中，润滑剂膜可以由润滑剂形成，诸如全氟聚醚(pfpe)类润滑剂。pfpe润滑剂可以为硬盘介质应用提供极佳的摩擦学和污染鲁棒性。润滑剂膜的厚度通常是磁记录介质制造过程(例如，润滑过程)中关注的参数。在一些示例中，将pfpe润滑剂膜厚度控制为十分之一埃规模水平可能是有帮助的。


技术实现要素：

3.以下提出了本公开的一些方面的简化概括，以提供这些方面的基本理解。本发明内容不是本公开所设想到的特征的广泛概览，并且也不意图标识本公开的全部方面的重要或关键元素，也不意图标示本公开的任意或全部方面的范围。其目的仅为，作为后面提出的更详细描述的序部，以简化形式提出本公开的一些方面的各种概念。
4.本公开的一方面提供用于保持磁记录介质的盘毂，磁记录介质包含环形形状和配置为用于磁记录的层。盘毂包含用于支撑磁记录介质的内径区域的基部板部分和基部板部分上的杆部分。杆部分包含基部板部分上的截头锥形部分和截头锥形部分上的顶部部分。杆部分的至少顶部部分包含硬度小于不锈钢的硬度的材料。
5.本公开的一方面提供用于表征用于数据储存装置的磁记录介质的设备。设备包含盘毂，盘毂配置为保持并允许磁记录介质旋转到一个或多个位置。盘毂包含用于支撑磁记录介质的内径区域的基部板部分。盘毂还包含基部板部分上的杆部分。杆部分包含基部板部分上的截头锥形部分和截头锥形部分上的顶部部分。杆部分的至少顶部部分包含硬度小于不锈钢的硬度的材料。设备还包含测量组件，配测量组件置为在一个或多个位置处测量磁记录介质的数据记录表面上的至少一个膜的厚度。
6.本公开的一方面提供了制造用于保持磁记录介质的盘毂的方法，磁记录介质包含环形形状和配置为用于磁记录的层。方法使用热塑性塑料聚合物通过提供用于支撑磁记录介质的内径的基部板部分并提供基部板部分上的杆部分来形成盘毂。杆部分包含基部板部分上的截头锥形部分和截头锥形部分上的顶部部分。
7.通过阅读后面的详细描述，将变得更完整地理解本公开的这些和其他方面。本公开的其他方面、特征和实现方式将对本领域普通技术人员更明显，通过结合附图阅读本公开的具体实现方式的以下描述。虽然相对于某些实现方式和以下附图讨论了本公开的特
征，但本公开的全部实现方式可以包含本文中所讨论的优点中的一个或多个。换言之，虽然一个或多个实现方式可能被讨论为具有某些有利特征，但这些特征中的一个或多个也可以根据本文中所讨论的本公开的各种实现方式使用。以相似方式，虽然某些实现方式可以在以下讨论为装置、系统或方法实现方式，应理解，这些实现方式可以实现为各种装置、系统和方法。
附图说明
8.图1是根据本公开的一方面的配置为用于磁记录的包含滑块和磁记录介质的盘驱动器的俯视示意图。
9.图2是根据本公开的一方面的图1的滑块和磁记录介质的侧视示意图。
10.图3是根据本公开的一方面的磁记录介质的侧视示意图。
11.图4是概念性地图示根据本公开的一方面的用于测量磁记录介质上的润滑剂层的膜厚度的设备框图。
12.图5是概念性地图示根据本公开的一方面的图4中所示的磁记录介质的表面的图示。
13.图6是提供根据本公开的一个或多个方面的盘毂的俯视示意图和侧视示意图的图示。
14.图7是图示根据本公开的一些方面的用于测量磁记录介质的润滑剂膜的厚度的过程的流程图。
15.图8是图示根据本公开的一些方面的制造盘毂的过程的流程图。
具体实施方式
16.在以下详细描述中，参考了附图，其形成详细描述的一部分。除上述说明性方面、方面和特征之外，通过参考附图和以下详细描述，其他方面、方面和特征将变得明显。每个附图中的元素的描述可以指代在前的附图中的元素。相同附图标记可以在多个附图中指代相同元素，包含相同元素的替代方面。
17.本公开在一些方面中涉及用于保持和定位磁记录介质的盘毂，以及用于使用盘毂表征磁记录介质上的膜的方法。磁记录介质可以用于各种数据储存装置(例如，硬盘驱动器)中。
18.图1是根据本公开的一个或多个方面的配置为用于磁记录的包含滑块108和磁记录介质102的数据储存装置100(例如，盘驱动器或磁记录装置)的俯视示意图。数据储存装置100可以包含一个或多个盘/介质102以储存数据。盘/介质102位于主轴组件104上，主轴组件104安装到驱动器壳体106。数据可以沿着盘102的磁记录层中的轨道储存或记录。读取和写入数据用记录头108(滑块)完成，记录头108可以具有写入元件(例如，写入器108a)和读取元件(例如，读取器108b)两者。写入元件108a被用于修改盘102的磁记录层的性质并从而向其写入信息。在一方面，头108可以具有用于读取的基于磁阻(mr)元件(诸如隧穿磁阻(tmr)元件)以及具有线圈的写入极，线圈可以被充能以写入。在操作中，主轴电机(未示出)旋转主轴组件104，并且从而将盘102旋转以将头108定位在沿着期望盘轨道107的特定位置。头108相对于盘102的定位可以由控制电路110(例如，微控制器)控制。数据储存装置100
的一些实施例为hamr(热辅助磁记录)、eamr(能量辅助磁记录)或非eamr磁数据记录系统，包含垂直磁记录(pmr)和叠瓦式磁记录(shingled magnetic recording，smr)盘驱动器或磁带驱动器。
19.图2是根据本公开的一个或多个方面的图1的滑块108和磁记录介质102的侧视示意图。磁记录介质102可以具有润滑剂层(例如，图3所示的润滑剂层316)。滑块108包含沿着滑块的空气轴承表面(abs)108c定位的写入元件(例如，写入器)108a和读取元件(例如，读取器)108b，以分别写入信息到介质102并从介质102读取信息。
20.图3是根据本公开的一方面的磁记录介质300的侧视示意图。在一些实施例中，磁记录介质300可以被配置为用于pmr。在其他实施例中，本文中所描述的(测量润滑剂厚度的)结构、系统和/或方法可以与其他介质类型一起使用，包含配置为用于smr、mamr或hamr的介质。磁记录介质300具有堆叠结构，堆叠结构具有在底部/基部层处的衬底302、衬底302上的非晶软磁底层(sul)304、sul 304上的籽层306、籽层306上的中间层308、中间层308上的底层310、底层310上的磁记录层(mrl)312、mrl 312上的上覆层314。在一些实施例中，介质300可以具有在上覆层314上的润滑剂层316。在一些方面，衬底302可以由一种或多种材料制成，诸如al合金、nip镀覆的al、玻璃、玻璃陶瓷，和/或其组合。在一个实施例中，衬底302可以是坚硬衬底(例如，玻璃或陶瓷)。
21.在一些方面，非晶sul 304可以由具有高透磁率、高饱和磁化强度和低矫顽力的材料(诸如cofe)以及选自由mo、nb、ta、w、b、zr及其组合构成的组的一种或多种元素制成。在一些方面，籽层306可以由本领域已知的任意适当材料制成。籽层306具有可以确定生长/沉积在籽层306上的(例如，中间层308)的结晶学取向的某些晶格结构和结晶学取向。在一个实施例中，籽层306可以由ni合金制成。在一些方面，mrl 312可以在有或没有附加的其他元素或氧化物的情况下由copt合金制成。在一些方面，mrl 312可以由fept或选自feptx的合金制成，其中x是选自cu、ni及其组合的材料。在一些示例中，mrl 312的结晶学取向可以促进pmr、smr、mamr或hamr。在一些方面，上覆层314可以由碳制成。
22.如本文中所使用，术语“上方”、“下方”、“上”和“之间”是指一层关于其他层的相对位置。因此，一层沉积或设置在另一层上、上方或下方可以是与其他层直接接触或可以具有一个或多个介于中间的层。此外，一层沉积或设置在多层之间可以与所述多层直接接触，或者可以具有一个或多个介于中间的层。
23.润滑剂层316可以在读取/写入操作期间当滑块108在近距离(例如，小至约1nm)飞过磁记录介质300的表面之上时提供对磁记录介质300和/或滑块108的保护。在一些方面，润滑剂层316可以由聚合物基或液体润滑剂制成，例如，由线性全氟聚醚(pfpe)类润滑剂制成，其为磁记录介质提供极佳的摩擦学和污染鲁棒性。润滑剂层316(例如，pfpe润滑剂膜)的厚度可以是磁记录介质300的制造过程(例如，润滑过程)中的重要参数。例如，润滑剂层316的厚度可能需要被控制为小至十分之一埃规模水平。
24.存在几种技术可用于pfpe润滑剂膜厚度测量，诸如ftir(傅里叶变换红外光谱学)、esca(化学分析电子能谱)、xrr(x射线反射率)和椭圆测量法(ellipsometry)。ftir由于其易于处置、快读分析和严苛环境下的鲁棒性可以特别地适于磁介质生产。例如，ftir测试可以用于基于由ftir测试获得的光谱特性确定润滑剂层316(例如，pfpe润滑剂膜)的厚度。
25.图4是概念性地图示根据本公开的一方面的用于测量润滑剂层的膜厚度的设备400的框图。设备400可以包含盘毂402，盘毂402安装在ftir测试装置404上。磁记录介质406可以例如在润滑过程(例如，在用于制造磁记录介质(诸如图3的介质)的过程中的最后的步骤之一)之后装载在盘毂402上。在一个示例中，磁记录介质406可以与关于图3描述的磁记录介质300相同。ftir测试装置404可以具有红外(ir)源408，ir源408可以生成并朝向磁记录介质406的表面(例如，图4中的底表面)输出ir束410。ir束410被磁记录介质406的底表面(例如，或顶表面，其上设置有润滑剂层的任意表面)反射，并且可以被ir检测器412检测，以用于使用测量组件414(例如，ftir处理单元)信号处理和分析。磁记录介质300的底表面上的润滑剂层的膜厚度可以由反射的ir束410表征或测量，例如，正比于反射的ir束的强度。在一个示例中，ftir处理单元414可以基于ir反射与膜厚度之间的预先建立的校准曲线确定润滑剂层的膜厚度。
26.在一个示例中，可以收集介质表面上的多个位置(例如，在90度分开的四个点处收集)的膜厚度数据，以确定润滑剂层是否均匀地施加在磁记录介质406的表面上。为此，磁记录介质406可以在ftir测试期间绕盘毂402旋转，使得ir束410可以被从记录介质406的底表面上的不同位置反射。在一些示例中，盘毂402可以由适于洁净室操作的金属(例如，不锈钢)制成。然而，金属盘毂可能在ftir测试期间容易地划伤磁记录介质406的表面。例如，当介质绕盘毂旋转时，划痕可以形成在记录介质406的底表面上。测试结果已经显示，不锈钢盘毂可能导致ftir测量的介质上的不期望地高表面划痕率(例如，百分之10至25)。
27.图5是图示当介质安装在图4中所描述的盘毂402上时磁记录介质406的底表面的图示。在一些示例中，磁记录介质406具有环形形状和配置为用于磁记录的层(例如，mrl 312)。当金属(例如，不锈钢)盘毂在ftir测试期间被用于固定和保持磁记录介质406时，表面损伤(例如，划痕)可能发生在介质表面上。划痕通常发生在开口502的内直径(id)与磁记录介质的中间直径(md)之间的内径区域中。md可以位于磁记录介质的id与外直径(od)之间的任意位置处。另外，划痕或损伤可能发生在磁记录介质的id与od之间的任何位置处。表面损伤可以由当磁记录介质安装在盘毂402上时磁记录介质406与盘毂402之间的偶然表面接触造成。此外，磁记录介质406绕盘毂402的任何旋转可能在磁记录介质406的盘到毂接触区域(例如，图5中的区域504)中引入划痕(例如，环形划痕)。划痕可能产生微小颗粒，其降低磁记录介质406的可靠性。
28.图6是图示根据本公开的一个或多个方面的盘毂600的侧视图和俯视图的图示。盘毂600可以与关于图4描述的盘毂402相同。盘毂600具有可以在ftir测试和膜厚度测量期间减少磁记录介质上的表面损伤的某些特征。在一些示例中，盘毂600可以降低介质划痕率约百分之15(％)，导致产率增加约0.02％。
29.盘毂600在形状和材料上不同于典型的盘毂(例如，金属盘毂)，以降低在ftir测试期间对磁记录介质的潜在表面损伤。在一些实施例中，盘毂600可以具有约12mm与约30mm之间(含端值)的高度(图6中的h1)。在另一方面，盘毂600具有基部板部分602和在基部板部分602的顶侧上的杆部分604。杆部分604在高度方向上延伸，该高度方向实质上垂直于基部板部分602的顶侧。在一个实施例中，杆部分604具有顶部部分606和截头锥形部分608。顶部部分606具有顶表面610(例如，平坦表面)和在顶表面610与截头锥形部分608之间延伸的弯曲表面612。
30.在一个实施例中，杆部分604还包含基部板部分602上的圆柱形部分614。截头锥形部分608在顶部部分606与圆柱形部分614之间延伸。在一些实施例中，圆柱形部分614可以具有约0.5mm与约5mm之间(含端值)的高度(图6中的h2)。基部板部分602形成盘毂600的底部或基部，以在ftir测试期间支撑并保持磁记录介质。在一些实施例中，基部板部分602可以具有约1.1mm的厚度(图6中的h3)。在ftir测试和膜厚度测量期间，磁记录介质406位于基部板部分602上，且杆部分604穿过磁记录介质406的开口502(见图5)。
31.在另一方面，弯曲表面612由光滑斜坡边缘或具有适当半径(例如，在约5mm与约10mm之间(含端值))的倒角。弯曲表面612去除顶部部分上的锋利边缘，使得当磁记录介质在ftir测试期间意外地与盘毂的顶部部分606时，对介质表面的潜在损伤(例如，表面划痕)可以被减小或避免，因为弯曲表面612可以减少在磁记录介质上的冲击力。在一些实施例中，弯曲表面612可以由可以具有相同或不同半径的一个或多个光滑表面形成。在一些实施例中，弯曲表面612可以不具有固定的半径。在一些实施例中，弯曲表面612可以被连接在一起而不形成任何锐角的多个平坦表面替代。
32.在另一方面，截头锥形部分608可以在距基部板部分602不同距离处具有不同直径(或半径)。例如，截头锥形部分608在接近圆柱形部分614的第一端处具有第一直径，并且在接近顶部部分606(例如，弯曲表面612)的第二端处具有第二直径。截头锥形部分608的直径可以从第一直径逐渐改变到第二直径。第一直径(下直径)可能等于或大于第二直径(上直径)。圆柱形部分614可以具有固定直径(图6中的d1)，其等于截头锥形部分608的最大直径(例如，下直径)。
33.基部板部分602可以具有直径(图6中的d2)，其被适当地尺寸化以改善磁记录介质在ftir测试和膜厚度测量期间当磁记录介质旋转到不同角度或位置时的稳定性。在一个示例中，操作者可以使用夹钳(或类似物)来固定磁记录介质的外侧边缘，以便旋转磁记录介质。在一些实施例中，基部板部分602可以具有约27mm与约30mm之间(含端值)的直径。在一个示例中，基部板部分602的直径可以约为28.3mm。在一些实施例中，基部板部分602的直径d2可以比圆柱形部分614或截头锥形部分608的直径d1更大，例如，更大约2.2mm至约5.2mm。
34.为了进一步减小由于介质表面与盘毂之间的任何接触造成的潜在介质表面损伤，盘毂600由柔软且化学稳定的材料(例如，热塑性塑料聚合物)制成。当盘毂由比金属(例如，不锈钢)更软的材料制成时，由于盘毂与磁记录介质之间的接触造成的介质表面损伤可以被减小或避免。在一些实施例中，盘毂可以由例如可以被用于各种工程应用中的聚芳醚酮(paek)族中的热塑性塑料聚合物制成。paek族可以包含聚醚酮(pek)、聚醚酮酮(pekk)、聚醚醚酮酮(peekk)、聚醚酮醚酮酮(pekekk)，以及聚醚醚酮(peek)。在一个示例中，盘毂600可以由peek材料制成。与paek族中的其他材料相比，peek提供适于作为用于制造通常用于洁净室环境中的盘毂600的材料的性质组合。例如，peek具有抗疲劳和化学耐性的适当组合，且具有良好摩擦力以及耐磨性质。peek还具有低吸湿率、未定介电性(绝缘)性质、良好空间稳定性和固有低可燃性。另外，peek材料具有晶体性质，其是对于用于洁净室设置中的ftir测试中的盘毂是期望的性质。
35.具有上述性质，peek盘毂可以在ftir测试应用中长时间提供稳定性能。例如，peek盘毂可以通过有效地消除或减少来自盘毂的腐蚀、磨损、摩擦和除气污染物而长时间保持ftir测量精度。在允许在不使用用于制造金属盘毂的劳动密集的后加工步骤的情况下形成
盘毂的复杂几何(例如，模塑)时，peek材料也是多用途的。这进而有助于降低制造peek盘毂的成本。
36.图7是图示使用根据本公开的一些方面的盘毂600测量磁记录介质的膜厚度的过程700的流程图。在一个示例中，过程700可以用于使用设备400测量磁记录介质300或406的润滑剂膜厚度。在框702，磁记录介质可以安装在ftir测试设备的盘毂上，并且磁记录介质具有介质表面上的至少一个膜(例如，润滑剂层316)。例如，测试设备可以是以上关于图4描述的ftir测量设备400。盘毂可以与关于图6描述的盘毂600相同。在一个示例中，盘毂可以由柔软材料(例如，peek材料)制成并具有光滑顶表面或形状，其可以降低在ftir测量过程和操纵期间对磁记录介质潜在的表面损伤。在框704，磁记录介质被旋转到一个或多个位置(例如，角度位置)。例如，磁记录介质可以被人或机器使用夹钳绕盘毂旋转以固定磁记录介质的外侧边缘。在框706，设备400可以在一个或多个位置处测量至少一个膜(例如，润滑剂膜)的厚度。
37.在一个实施例中，过程可以以不同顺序进行动作序列。在另一实施例中，过程可以跳过一个或多个动作。在其他实施例中，一个或多个动作可以同时进行。在一些实施例中，可以进行附加动作。
38.图8是图示制造根据本公开的一些方面的盘毂的过程800的流程图。过程800可以被用于制造上述的用于在ftir测试期间保持磁记录介质的盘毂600。在一个实施例中，方法可以使用柔软材料形成盘毂，例如，热塑性塑料聚合物(例如，peek)。在框802，方法制造盘毂以提供基部板部分，以用于支撑磁记录介质的内径区域。在框804，方法制造盘毂以提供基部板部分上的杆部分。杆部分包含基部板部分上的截头锥形部分和截头锥形部分上的顶部部分。在一些实施例中，盘毂可以由选自由pek、pekk、peekk、pekekk和peek构成的组的材料制成。
39.如本文中所使用的，术语“上方”、“下方”和“之间”是指一层关于其他层的相对位置。因此，一层沉积或设置在另一层上方或下方可以与其他层直接接触或可以具有一个或多个介于中间的层。此外，一层沉积或设置在多层之间可以与所述多层直接接触或可以具有一个或多个介于中间的层。
40.本领域技术人员鉴于本公开应理解，虽然本文中参考磁记录盘讨论了各种示例性制造方法，但有或没有修改的方法可以用于制造其他类型的记录盘，例如，光学记录盘(诸如紧凑盘(cd)和数字多功能盘(dvd))，或磁光记录盘，或铁电数据储存装置。
41.虽然以上描述包含了本发明的许多具体实施例，但这些不应被解释为对本发明范围的限制，而应作为其具体实施例的示例。因此，本发明的范围不是由所阐述的实施例确定，而是由所附权利要求及其等同确定。

技术特征：
1.一种用于保持磁记录介质的盘毂，所述磁记录介质包括环形形状和配置为用于磁记录的层，所述盘毂包括：基部板部分，用于支撑所述磁记录介质的内径区域；以及所述基部板部分上的杆部分，所述杆部分包括：所述基部板部分上的截头锥形部分；和所述截头锥形部分上的顶部部分，其中所述杆部分的至少所述顶部部分包括硬度小于不锈钢的硬度的材料。2.根据权利要求1所述的盘毂，其中所述材料包括热塑性塑料或聚芳醚酮(paek)聚合物。3.根据权利要求2所述的盘毂，其中所述材料选自由以下各项构成的组：聚醚酮(pek)、聚醚酮酮(pekk)、聚醚醚酮酮(peekk)、聚醚酮醚酮酮(pekekk)、聚醚醚酮(peek)及其组合。4.根据权利要求3所述的盘毂，其中所述材料包括peek。5.根据权利要求1所述的盘毂，其中所述基部板部分的直径在27mm与30mm之间，含端值。6.根据权利要求5所述的盘毂，其中所述基部板部分的直径为28.6mm，并且所述基部板部分的厚度为1.1mm。7.根据权利要求1所述的盘毂，其中所述杆部分还包括：在所述基部板部分与所述截头锥形部分之间的圆柱形部分。8.根据权利要求7所述的盘毂，其中所述圆柱形部分的直径小于所述基部板部分的直径。9.根据权利要求7所述的盘毂，其中所述截头锥形部分包括延伸到所述圆柱形部分的第一端和延伸到所述顶部部分的第二端，其中所述第一端的直径大于所述第二端的直径。10.根据权利要求1所述的盘毂，其中所述顶部部分包括顶表面和在所述顶表面与所述截头锥形部分之间延伸的弯曲表面。11.根据权利要求10所述的盘毂，其中所述弯曲表面的半径在5mm与10mm之间，含端值。12.一种表征用于数据储存装置的磁记录介质的设备，包括：盘毂，配置为保持并允许所述磁记录介质旋转到一个或多个位置，其中所述盘毂包括：基部板部分，用于支撑所述磁记录介质的内径区域；和所述基部板部分上的杆部分，所述杆部分包括：所述基部板部分上的截头锥形部分；和所述截头锥形部分上的顶部部分，其中所述杆部分的至少所述顶部部分包括硬度小于不锈钢的硬度的材料；以及测量组件，配置为测量所述一个或多个位置处的所述磁记录介质的数据记录表面上的至少一个膜的厚度。13.根据权利要求12所述的设备，其中所述材料包括热塑性塑料或聚芳醚酮(paek)聚合物。14.根据权利要求13所述的设备，其中所述材料选自由以下各项构成的组：聚醚酮(pek)、聚醚酮酮(pekk)、聚醚醚酮酮(peekk)、聚醚酮醚酮酮(pekekk)、聚醚醚酮(peek)及其组合。
15.根据权利要求14所述的设备，其中所述材料包括peek。16.根据权利要求12所述的设备，其中所述基部板部分的直径在27mm与30mm之间，含端值。17.根据权利要求16所述的设备，其中所述基部板部分的直径为28.6mm，并且所述基部板部分的厚度为1.1mm。18.根据权利要求12所述的设备，其中所述杆部分还包括：在所述基部板部分与所述截头锥形部分之间的圆柱形部分。19.根据权利要求18所述的设备，其中所述圆柱形部分的直径小于所述基部板部分的直径。20.根据权利要求18所述的设备，其中所述截头锥形部分包括延伸到所述圆柱形部分的第一端和延伸到所述顶部部分的第二端，其中所述第一端的直径大于所述第二端的直径。21.根据权利要求12所述的设备，其中所述顶部部分包括顶表面和在所述顶表面与所述截头锥形部分之间延伸的弯曲表面。22.根据权利要求21所述的设备，其中所述弯曲表面的半径在5mm与10mm之间，含端值。23.一种制造用于保持磁记录介质的盘毂的方法，所述磁记录介质包括环形形状和配置为用于磁记录的层，所述方法包括：使用热塑性塑料聚合物形成所述盘毂，包括，提供用于支撑所述磁记录介质的内径的基部板部分；和提供所述基部板部分上的杆部分，其中所述杆部分包括：所述基部板部分上的截头锥形部分；和所述截头锥形部分上的顶部部分。24.根据权利要求23所述的方法，其中所述热塑性塑料聚合物选自由以下各项构成的组：聚醚酮(pek)、聚醚酮酮(pekk)、聚醚醚酮酮(peekk)、聚醚酮醚酮酮(pekekk)、聚醚醚酮(peek)及其组合。25.根据权利要求24所述的方法，其中所述热塑性塑料聚合物包括peek。

技术总结
一种盘毂，被配置为保持磁记录介质，磁记录介质包含环形形状和配置为用于磁记录的层。盘毂包含基部板部分和基部板部分上的杆部分，基部板部分用于支撑磁记录介质的内径区域。杆部分包含基部板部分上的截头锥形部分和截头锥形部分上的顶部部分。杆部分的至少顶部部分包含硬度小于不锈钢的硬度的材料。盘毂可以减少介质测试期间的介质表面上的表面损伤(例如，划痕)。划痕)。划痕)。


技术研发人员：李凌云 张程 范骜
受保护的技术使用者：西部数据技术公司
技术研发日：2021.12.29
技术公布日：2023/7/13