一种微型波片清洗装置的制作方法

1.本实用新型公开一种微型波片清洗装置，属于光学材料加工设备技术领域。


背景技术：

2.波片是能使互相垂直的两光振动间产生附加光程差(或相位差)的光学器件，通常由具有精确厚度的石英、方解石或云母等双折射晶片做成，其光轴与晶片表面平行，由于波片用于光学器件上所以精度要求较高，而波片在生产时表面会附着一些污渍，所以在出厂前一般会使用超声波清洗装置进行清洗，而在生产微型的波片时，由于波片太小在清洗时容易堆叠、上浮导致清洗不到位。
3.因此需要提出一种新的方案来解决这个问题。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的是为了解决上述的问题而提供一种微型波片清洗装置，具有防止微型波片在进行清洗时堆叠、上浮导致清洗不到位的效果。
5.本实用新型通过以下技术方案实现上述目的，包括基座和盖板，所述基座开设有清洗槽，所述清洗槽的底部设有若干个贯穿基座底部的通孔，所述清洗槽的底部在通孔的上端设有用于波片移入的放置槽，所述通孔的直径小于波片的直径，所述放置槽的最大直径大于波片直径，所述基座于清洗槽上端开设有盖板槽，所述盖板可活动设置于盖板槽内，所述盖板移入盖板槽时盖板可封闭清洗槽的上端。
6.通过采用上述技术方案，通过通孔的设置使超声波清洗机内的液体可以进入清洗槽内，通过放置槽的设置，当一个波片在振动的作用移入放置槽后其余波片无法在移入同一个放置槽，有效的避免了波片堆叠现象的出现，同时盖板和盖板槽的设置可以封闭清洗槽的上端，防止波片在清洗过程中上浮，导致波片清洗不到位而影响产品质量。
7.作为优选，所述放置槽为圆台状且小圆一端与通孔相连接。
8.通过采用上述技术方案，圆台状的结构使波片可以更容易的移入放置槽内，提高防止波片堆叠的效果。
9.作为优选，所述清洗装置还包括有清洗架，所述清洗架设置于基座外侧且与基座活动连接，所述清洗架下端设置有若干支撑腿。
10.通过采用上述技术方案，通过清洗架和支撑腿的设置，使基座不会直接与超声波清洗机抵接，防止基座底部通孔被封闭，进而影响清洗效果。
11.作为优选，所述清洗架转动连接有两个固定杆，两个所述固定杆对称设置且可转动至盖板上端与盖板相抵触。
12.通过采用上述技术方案，通过固定杆的设置，可以固定住盖板防止盖板由于振动而无法封闭清洗槽上端导致波片上浮，同时两个固定杆为对称设置，提高了固定杆的固定效果。
13.作为优选，所述清洗槽内侧其中两个相对的侧面上贯穿设置有第一导流孔，所述
第一导流孔直径小于波片直径，所述清洗架上开设有与第一导流孔相连通的第二导流孔。
14.通过采用上述技术方案，通过第一导流孔和第二导流孔的设置，使清洗槽内液体可以产生对流，提高清洗效果。
15.作为优选，所述基座上端开设有凹槽，所述凹槽与盖板槽相连通。
16.通过采用上述技术方案，通过凹槽的设置，当要取出盖板时可以伸入凹槽内将盖板取出，使盖板的取出更加便捷。
17.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
18.其一，放置槽的直径使波片无法同时进入同一个放置槽内，从而使波片通过放置槽互相分离，避免波片堆叠导，同时盖板封闭了清洗槽的上端可以防止波片上浮，从而有效的避免波片清洗不到位的情况的出现；
19.其二，支撑腿的设置，防止基座直接与超声波清洗机抵接，导致通孔被封闭而影响清洗效果；
20.其三，固定杆可以固定住盖板，提高装置的稳定性，防止盖板由于振动而无法保持封闭清洗槽的上端，进而导致波片上浮；
21.其四，第一导流孔和第二导流孔使清洗槽内的液体可以产生对流，进而提高清洗效果。
附图说明
22.图1为一种微型波片清洗装置的基座结构示意图；
23.图2为一种微型波片清洗装置的整体结构示意图。
24.附图标记：1、基座；2、清洗槽；3、通孔；4、放置槽；5、盖板槽；6、盖板；7、清洗架；8、支撑腿；9、固定杆；10、第一导流孔；11、第二导流孔；12、凹槽。
具体实施方式
25.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
26.一种微型波片清洗装置，如图1-图2所示，包括基座1和盖板6，基座1开设有清洗槽2，清洗槽2的底部设有若干个贯穿基座1底部的通孔3，通孔3使超声波清洗机内的液体可以进入清洗槽2内，清洗槽2的底部在通孔3的上端设有用于波片移入的放置槽4，当一个波片移入放置槽4内时波片可以覆盖放置槽4，从而使其余波片无法移入同一个放置槽4，有效的避免出现波片重叠的情况，通孔3的直径小于波片的直径，防止了波片通过通孔3掉出基座1外，放置槽4的最大直径大于波片直径，直径较大的放置槽4使玻片更容易移入放置槽4内，基座1于清洗槽2上端开设有盖板槽5，盖板6可活动设置于盖板槽5内，盖板6移入盖板槽5时
盖板6可封闭清洗槽2的上端，将波片批量的放入清洗槽2内进行清洗时，盖下盖板6使盖板6封闭清洗槽2上端，防止盖板6在清洗过程中上浮，同时在清洗时玻片在振动作用下会移入放置槽4内，而由于放置槽4的尺寸使波片不会堆叠在同一个放置槽4内，从而使波片的清洗更加干净。
27.放置槽4为圆台状且小圆一端与通孔3相连接，圆台状的放置槽4使波片可以更容易的移入放置槽4内，清洗装置还包括有清洗架7，清洗架7设置于基座1外侧且与基座1活动连接，清洗架7下端设置有若干支撑腿8，当要进行清洗时，将基座1安装于清洗架7上，支撑腿8使基座1不会与超声波清洗机直接接触，防止基座1底部的通孔3被堵住而影响清洗效果，清洗架7转动连接有两个固定杆9，两个固定杆9对称设置且可转动至盖板6上端与盖板6相抵触，固定杆9可以固定住盖板6，防止盖板6在清洗时产生振动而导致无法封闭清洗槽2的上端，从而导致波片上浮影响波片的清洗效果。
28.清洗槽2内侧其中两个相对的侧面上贯穿设置有第一导流孔10，第一导流孔10直径小于波片直径，清洗架7上开设有与第一导流孔10相连通的第二导流孔11，第一导流孔10和第二导流孔11使清洗槽2内的液体可以与外界产生对流，从而提高清洗效果和清洗效率，基座1上端开设有凹槽12，凹槽12与盖板槽5相连通，当要取出盖板6时可以伸入凹槽12内将盖板6取出，使盖板6的取出和移入更加方便。
29.当对波片进行清洗时，将波片放入清洗槽2后盖上盖板6，然后将基座1安装在清洗架7上，转动固定杆9固定盖板6即可放入超声波清洗机内进行清洗，在清洗过程中波片在振动下移入放置槽4内，同时由于放置槽4的尺寸无法容纳两个波片从而避免了波片堆叠的情况，而盖板6封闭了清洗槽2的上端使波片无法上浮，从而提高了波片的清洗效果，当清洗完成后转动固定杆9即可将基座1从清洗架7上取下，最后通过凹槽12取出盖板6即可，有效的防止清洗波片的过程中波片不会堆叠、上浮，同时也使装置的使用更加便捷。
30.对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
31.此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

技术特征：
1.一种微型波片清洗装置，其特征在于：包括基座(1)和盖板(6)，所述基座(1)开设有清洗槽(2)，所述清洗槽(2)的底部设有若干个贯穿基座(1)底部的通孔(3)，所述清洗槽(2)的底部在通孔(3)的上端设有用于波片移入的放置槽(4)，所述通孔(3)的直径小于波片的直径，所述放置槽(4)的最大直径大于波片直径，所述基座(1)于清洗槽(2)上端开设有盖板槽(5)，所述盖板(6)可活动设置于盖板槽(5)内，所述盖板(6)移入盖板槽(5)时盖板(6)可封闭清洗槽(2)的上端。2.根据权利要求1所述的一种微型波片清洗装置，其特征在于：所述放置槽(4)为圆台状且小圆一端与通孔(3)相连接。3.根据权利要求1所述的一种微型波片清洗装置，其特征在于：所述清洗装置还包括有清洗架(7)，所述清洗架(7)设置于基座(1)外侧且与基座(1)活动连接，所述清洗架(7)下端设置有若干支撑腿(8)。4.根据权利要求3所述的一种微型波片清洗装置，其特征在于：所述清洗架(7)转动连接有两个固定杆(9)，两个所述固定杆(9)对称设置且可转动至盖板(6)上端与盖板(6)相抵触。5.根据权利要求3所述的一种微型波片清洗装置，其特征在于：所述清洗槽(2)内侧其中两个相对的侧面上贯穿设置有第一导流孔(10)，所述第一导流孔(10)直径小于波片直径，所述清洗架(7)上开设有与第一导流孔(10)相连通的第二导流孔(11)。6.根据权利要求1所述的一种微型波片清洗装置，其特征在于：所述基座(1)上端开设有凹槽(12)，所述凹槽(12)与盖板槽(5)相连通。

技术总结
本实用新型公开一种微型波片清洗装置，属于光学材料加工设备领域，包括基座和盖板，基座开设有清洗槽，清洗槽的底部设有若干个贯穿基座底部的通孔，清洗槽的底部在通孔的上端设有用于波片移入的放置槽，基座于清洗槽上端开设有盖板槽，盖板可活动设置于盖板槽内，盖板移入盖板槽时盖板可封闭清洗槽的上端，本实用新型通过通孔的设置使超声波清洗机内的液体可以进入清洗槽内，通过放置槽的设置，当一个波片在振动的作用移入放置槽后其余波片无法在移入同一个放置槽，有效的避免了波片堆叠现象的出现，同时盖板和盖板槽的设置可以封闭清洗槽的上端，防止波片在清洗过程中上浮，导致波片清洗不到位而影响产品质量。波片清洗不到位而影响产品质量。波片清洗不到位而影响产品质量。


技术研发人员：李万福 李鸿镗
受保护的技术使用者：泉州市友腾光电科技有限公司
技术研发日：2022.06.16
技术公布日：2023/7/14