具有排水及补强结构的基板容器的制作方法

1.本技术有关于一种用于收纳如半导体基材的容器，尤指一种具有排水及补强结构的基板容器。


背景技术：

2.按，现有半导体产业中，所使用的基板大多为玻璃或硅芯片等易碎片状或板状物。因此，在生产或加工等制造的过程中，通常需要透过如卡匣、容置盒或运载盒等容器作收纳后，再视制程的需求作运载或储存等。
3.而为了确保所收纳的基板不受到污染，上述容器在供基板容纳并作运载前，通常会经过一道清洗及烘干程序，以确保容器本身的洁净度不会污染基板。然而，也由于一般容器于其顶面上，往往也会设有突起的肋条作为防止其变形的补强结构，故在进行上述清洗的过程中，容易使得清洁的液体受到该等肋条的阻挡而囤积于容器顶面，也容易延长所需的烘干时间，以致能源及时间等成本的增加。
4.有借于此，本技术人为改善并解决上述的缺失，乃特潜心研究并配合学理的运用，终于提出一种设计合理且有效改善上述缺失的本技术。


技术实现要素：

5.本技术的主要目的，在于可提供一种具有排水及补强结构的基板容器，其进一步使设于基板容器顶部的肋条等补强结构，对水等液体具有一定的引导作用，以提供排水效果来降低清洗液体的囤积或残存量。
6.为了达成上述的目的，本技术提供一种具有排水及补强结构的基板容器，其具有底部、相对于底部的顶部、以及两个包围于底部与顶部之间的侧壁，以于基板容器前端形成开口，并于基板容器后端处形成后盖；其中，基板容器的顶部上设有补强结构，补强结构包括两个分别邻近于任一侧壁的第一肋条、以及两个或两个以上与第一肋条依序间距设置的第二肋条，第一肋条与第二肋条皆由基板容器的开口朝向后盖的方向延伸，且第一肋条与第二肋条于邻近开口的一端的高度大于邻近后盖的一端的高度。
7.上述概述仅仅是为了说明书的目的，并不意图以任何方式进行限制。除上述描述的示意性的方面、实施方式和特征之外，通过参考附图和以下的详细描述，本技术进一步的方面、实施方式和特征将会是容易明白的。
附图说明
8.在附图中，除非另外规定，否则贯穿多个附图相同的附图标记表示相同或相似的部件或元素。这些附图不一定是按照比例绘制的。应该理解，这些附图仅描绘了根据本技术公开的一些实施方式，而不应将其视为是对本技术范围的限制。
9.图1为本技术的立体外观图。
10.图2为本技术另一个视角的立体外观图。
11.图3为本技术的俯视平面图。
12.图4为本技术的侧视局部示意图。
13.图5为本技术的后视局部视意图。
14.附图标记说明：
15.1：基板容器；
16.10：底部；
17.11：顶部；
18.110：第一肋条；
19.110a：辅助肋条；
20.111：第二肋条；
21.112：横肋；
22.112a：延伸肋；
23.113：短肋；
24.12：侧壁；
25.13：开口；
26.130：外缘；
27.14：后盖；
28.2：基板；
29.d：间距；
30.d：间距；
31.h：高度；
32.h：高度；
33.s：间隙。
具体实施方式
34.为了能更进一步揭露本技术的特征及技术内容，请参阅以下有关本技术的详细说明与附图，然而所附图式仅提供参考与说明用，并非用来对本技术加以限制。
35.请参阅图1及图2，分别为本技术的立体外观图及另一个视角的立体外观图。本技术提供一种具有排水及补强结构的基板容器1，该基板容器1具有底部10、相对于该底部10的顶部11、以及两个包围于该底部10与顶部11之间的侧壁12，以于该基板容器1前端形成开口13，以供一个或两个或两个以上基板2可通过该开口13而叠置于基板容器1内部，并作为收纳基板2所需。此外，该基板容器1于其后端处还具有后盖14，以连接基板容器1的底部10、顶部11与两个侧壁12间而封闭于开口13的后端处。
36.请一并参阅图3所示，本技术主要为于上述基板容器1的顶部11上设有补强结构。所述补强结构包括两个分别邻近于任一侧壁12的第一肋条110、以及两个或两个以上与该第一肋条110依序间距设置的第二肋条111，所述第一肋条110与所述第二肋条111皆由该基板容器1的开口13朝向后盖14的方向延伸，且所述第一肋条110与其所相邻的所述第二肋条111间，于邻近开口13的一端的间距d大于邻近后盖14的一端的间距d；换言之，所述间距设置由开口13至后盖14的方向呈由大变小。而各第二肋条111间的间距设置亦采用前述由开
口13至后盖14的方向呈由大变小的方式作配置。
37.承上所述，上述第一肋条110于邻近侧壁12的侧面上设有两个或两个以上间距且朝向后盖14呈倾斜状的辅助肋条110a，以与第一肋条110及该等第二肋条111分布于顶部11大部分的表面上而提高结构强度。此外，为增加顶部11于邻近开口13处的强度，各第一肋条110与其所相邻的所述第二肋条111于邻近开口13的一端处分别以斜向的横肋112连接，并于基板容器1的开口13外形成的外缘130，而横肋112则以延伸肋112a朝向该外缘130延伸并连接，从而补强第一肋条110与第二肋条111的强度。另外，由该外缘130相对于顶部11处亦可延伸出两个或两个以上与该延伸肋112a间隔设置的短肋113，但短肋113末端并不连接至横肋112上，以与横肋112间维持间隙s，如此方可便于水或液体排出而避免囤积于此。而在本技术所举的实施例中，上述第一肋条110、辅助肋条110a、第二肋条111、横肋112、延伸肋112a与短肋113，于顶部11上呈左右对称的型态。
38.如图4及图5所示，本技术主要为使上述补强结构的第一肋条110、辅助肋条110a与第二肋条111，于邻近开口13的一端的高度h大于邻近后盖14的一端的高度h；换言之，所述第一肋条110、辅助肋条110a与第二肋条111的上缘由开口13至后盖14的方向呈由高变低。如此，附着于顶部11上的水或液体，不仅可以顺着所述第一肋条110、辅助肋条110a与第二肋条111的延伸方向而被引到至侧壁12或后盖14而流出外，水或液体在接触至所述第一肋条110、辅助肋条110a与第二肋条111上缘时，将可产生由开口13至后盖14的方向作自然流动，从而可兼具排水的功效，并能降低囤积的状况，以减少所需的烘干时间。
39.是以，借由上述的构造组成，即可得到本技术具有排水及补强结构的基板容器。
40.因此，借由本技术具有排水及补强结构的基板容器，其可进一步使设于基板容器1顶部11的肋条等补强结构，对水等液体具有一定的引导作用，以提供排水效果来降低清洗液体的囤积或残存量。从而使该基板容器1于进入烘干等程序时能缩短所需烘干的时间，进而降低能源与时间成本。
41.综上所述，本技术实为不可多得的新型申请产品，其确可达到预期的使用目的，而解决习知的缺失，因此具新颖性及创造性。
42.惟以上所述仅为本技术的较佳可行实施例，非因此即拘限本技术的专利范围，故举凡运用本技术说明书及图式内容所为的等效结构变化，均同理皆包含于本技术的范围内，合予陈明。

技术特征：
1.一种具有排水及补强结构的基板容器，其特征在于，该基板容器具有底部、相对于该底部的顶部、以及两个包围于该底部与该顶部之间的侧壁，以于该基板容器前端形成开口，并于该基板容器后端处形成后盖；其中，该基板容器的顶部上设有补强结构，所述补强结构包括两个分别邻近于任一侧壁的第一肋条、以及两个或两个以上与该第一肋条依序间距设置的第二肋条，所述第一肋条与所述第二肋条皆由该基板容器的开口朝向该后盖的方向延伸，且所述第一肋条与所述第二肋条于邻近该开口的一端的高度大于邻近该后盖的一端的高度。2.根据权利要求1所述的具有排水及补强结构的基板容器，其中所述第一肋条与所述第二肋条的上缘由该开口至该后盖的方向呈由高变低。3.根据权利要求1所述的具有排水及补强结构的基板容器，其中所述第一肋条与其所相邻的所述第二肋条间，于邻近该开口的一端的间距大于邻近该后盖的一端的间距。4.根据权利要求1所述的具有排水及补强结构的基板容器，其中所述第一肋条与其所相邻的所述第二肋条的间距由该开口至该后盖的方向呈由大变小。5.根据权利要求4所述的具有排水及补强结构的基板容器，其中各所述第二肋条间的间距亦由该开口至该后盖的方向呈由大变小。6.根据权利要求1所述的具有排水及补强结构的基板容器，其中所述第一肋条于邻近该侧壁的侧面上还设有两个或两个以上间距且朝向该后盖呈倾斜状的辅助肋条。7.根据权利要求6所述的具有排水及补强结构的基板容器，其中所述辅助肋条由该开口至该后盖的方向呈由高变低。8.根据权利要求1所述的具有排水及补强结构的基板容器，其中所述第一肋条与其所相邻的所述第二肋条于邻近该开口的一端处分别以斜向的横肋连接。9.根据权利要求8所述的具有排水及补强结构的基板容器，其中所述横肋以延伸肋朝向该开口的外缘处延伸并连接。10.根据权利要求9所述的具有排水及补强结构的基板容器，其中所述补强结构于该顶部上还设有两个或两个以上与该延伸肋间隔设置的短肋，且所述短肋末端与该横肋间维持间隙。

技术总结
一种具有排水及补强结构的基板容器，具有底部、顶部与两个侧壁，以于基板容器前端形成开口，并于基板容器后端处形成后盖；基板容器的顶部上设有补强结构，补强结构包括两个分别邻近于任一侧壁的第一肋条、以及两个或两个以上与第一肋条依序间距设置的第二肋条，第一肋条与第二肋条皆由开口朝向后盖的方向延伸，且第一肋条与第二肋条于邻近开口的一端的高度大于邻近后盖的一端的高度。大于邻近后盖的一端的高度。大于邻近后盖的一端的高度。


技术研发人员：赵荣昌
受保护的技术使用者：中勤实业股份有限公司
技术研发日：2023.01.17
技术公布日：2023/7/20