陶瓷素坯自动施釉装置的制作方法

1.本发明涉及陶瓷件生产领域，具体为陶瓷素坯自动施釉装置。


背景技术：

2.陶瓷制造业已经成为了一个重要的工业领域，陶瓷制品广泛应用于建筑、家居、餐饮等领域。其中，釉面处理是陶瓷制品生产过程中最重要的步骤之一，它不仅可以提高陶瓷制品的美观度和质感，还可以增强其防水性和抗污性。
3.传统的施釉方式包括刷釉、喷涂、浸泡和雾化等。其中，浸泡式上釉：将陶瓷器皿浸泡在釉料中，使其吸收足够的釉料后取出晾干，这种方式可以一次性处理大量陶瓷件，上釉较快，但是这种上釉方式难以保证釉面均匀，易在底部出现流釉现象，在对陶瓷外壁进行充分进釉的同时也会造成内壁的污染，无法实现完全的机械化生产。为此，我们提出一种陶瓷素坯自动施釉装置。


技术实现要素：

4.本发明的目的在于提供了陶瓷素坯自动施釉装置,实现了浸泡式上釉的全机械化生产，且避免了流釉和内壁污染问题。
5.本发明所解决的技术问题为：
6.(1)如何通过设置旋转施釉平台并在其上安装四个相同工位，将上料、浸釉、擦拭以及下料整个流程在同一套设备系统中完成，解决了现有技术中无法实现全自动化或自动化产线过长占用场地的问题；
7.(2)如何通过设置角度偏转机构并将其与升降结构和旋转结构配合，使整个浸釉过程平稳有序，解决水平浸釉易发生溅液导致污染的问题；
8.(3)如何通过设置防滴漏装置对浸釉后陶瓷件的底部进行擦拭和吸附，并对吸水海绵进行清洗和脱水，解决陶瓷件底部的流釉和滴漏导致施釉效果差以及污染后续输送带的问题。
9.本发明可以通过以下技术方案实现：陶瓷素坯自动施釉装置,包括旋转施釉平台，旋转施釉平台上设有升降结构和旋转结构，且在旋转圆周内设有多个相同工位，在旋转结构上的每个工位中设置有用于带动陶瓷件发生角度变化的角度偏转机构。
10.本发明的进一步技术改进在于：多个相同工位设置有四个，沿工旋转施釉平台的工作旋转方向依次设置有上料输送带、储釉箱、防滴釉装置和下料输送带。
11.本发明的进一步技术改进在于：角度偏转机构包括与旋转结构边缘铰接的角度调节板，旋转结构的中心位置安装有调节盘，所述调节盘内均匀设有四个受控滑动的调节滑块，调节滑块与角度调节板之间设置有连接柱，连接柱的两端分别与调节滑块和角度调节电板转动连接。
12.本发明的进一步技术改进在于：角度调节板的一侧固定有安装板，安装板上均匀转动连接有多个安装柱，每个安装柱底部浮动安装有真空吸盘，多个安装柱外侧均固定有
同步带轮并通过同步带驱动旋转。
13.本发明的进一步技术改进在于：每个安装柱的外侧均滑动设置有吹气圆盘，吹气圆盘的外侧均匀开设有多个出气孔。
14.本发明的进一步技术改进在于：防滴釉装置设有通过电机驱动的链状结构，所述链状结构包括多个相互铰接的链板，每个链板的外侧固定贴装有吸水海绵，防滴釉装置底部设有清洗槽，且清洗槽的依次设置有对吸水海绵脱水的挤压辊。
15.本发明的进一步技术改进在于：升降结构采用升降油缸，旋转结构采用旋转分度盘。
16.本发明的进一步技术改进在于：调节盘中心位置转动设置有旋转圆盘，调节滑块靠近旋转圆盘的一端固定连接有延伸杆，延伸杆远离调节滑块的一端顶部转动安装有随动滚轮，在旋转圆盘上旋转对称开设有四个弧槽，随动滚轮设置在弧槽内并与弧槽滚动配合。
17.与现有技术相比，本发明具备以下有益效果：
18.1、通过设置旋转施釉平台并在其上安装四个相同工位，将上料、浸釉、擦拭以及下料整个流程在同一套设备系统中利用同一动作进行完成，从而可以进行连续的不间断施釉操作，实现了全自动化生产加工且避免自动化产线过长占用场地；
19.2、通过设置角度偏转机构并将其与升降结构和旋转结构配合，使陶瓷件在进入到釉液过程中是以倾斜的姿态进入，这样不易产生溅液，整个浸釉过程平稳有序，在对外壁进行施釉的同时保证其内壁不会发生污染；
20.3、通过设置防滴漏装置对浸釉后陶瓷件的底部进行擦拭和吸附，并对吸水海绵进行清洗和脱水，避免了陶瓷件底部的流釉和滴漏导致施釉效果差以及污染后续输送带的问题，也避免了吸水海绵被使用后对陶瓷件造成二次污染的问题；
21.4、在整个过程中，特别是在浸釉工序中，驱动电机通过同步带轮和同步带带动安装柱旋转，可以使整个陶瓷件的外壁表面与釉液发生充分接触，从而更加均匀致密的进行施釉，施釉效果好。
附图说明
22.为了便于本领域技术人员理解，下面结合附图对本发明作进一步的说明。
23.图1为本发明的整体结构立体示意图；
24.图2为本发明的旋转施釉平台结构示意图；
25.图3为本发明的图2中a处的局部放大图；
26.图4为本发明的安装柱和真空吸盘连接结构示意图；
27.图5为本发明的调节盘内部连接结构示意图；
28.图6为本发明的防滴釉装置内部结构示意图；
29.图7为本发明的图6中b处的局部放大图。
30.图中：1、上料输送带；2、旋转施釉平台；3、下料输送带；4、储釉箱；5、防滴釉装置；6、釉液；201、升降油缸；202、旋转分度盘；203、承载板；204、铰接基座；205、角度调节板；206、安装板；207、驱动电机；208、安装柱；209、吹气圆盘；210、真空吸盘；211、压缩弹簧；212、连接柱；213、调节盘；214、调节滑槽；215、调节滑块；216、旋转圆盘；217、弧槽；218、随动滚轮；51、链板；52、吸水海绵；53、清洗槽；54、安装支架；55、浮动安装块；56、挤压弹簧；
57、挤压辊。
具体实施方式
31.为更进一步阐述本发明为实现预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下。
32.请参阅图1-7所示，陶瓷素坯自动施釉装置，包括旋转施釉平台2，旋转施釉平台2的相邻两侧分别设置有分别用于陶瓷件上料和下料的上料输送带1和下料输送带3，旋转施釉平台2的旋转工作方向在俯视状态设置为逆时针，则在上料输送带1的工位方向上旋转九十度的一侧设置有储釉箱4，储釉箱4内盛装有液面高度始终不变的釉液6，上料输送带1的相对一侧设置有防滴釉装置5；
33.其中，旋转施釉平台2包括用于整体升降动作的升降油缸201，升降油缸201的顶部安装有旋转分度盘202，旋转分度盘202的正上方同轴设置有承载板203，承载板203与旋转分度盘202之间通过若干根均匀竖直安装的支撑柱固定连接，承载板203的顶部的四个工位方向分别用于真空或气动控制的电磁阀和气泵；
34.旋转分度盘202的边缘位置均匀固定有对应四个工位方向的铰接基座204，铰接基座204的一侧转动连接角度调节板205，角度调节板205远离铰接基座204的一侧底部垂直本体安装有安装板206，安装板206呈t字型设置，在其竖直部分安装有驱动电机207，在其横向部分均匀安装有若干同步带轮，在本实施例中同步带轮的个数设置为三个，驱动电机207的输出端贯穿安装板206且端部固定安装有驱动同步带轮，上述驱动同步带轮和三个同步带轮之间通过同步带进行传动连接；
35.三个同步带底部同轴固定安装有安装柱208，安装柱208的底部浮动安装有真空吸盘210；具体地，安装柱208的底部开设有安装槽，安装槽内设置有压缩弹簧211，压缩弹簧211的顶部与安装柱208固定连接，压缩弹簧211的底部与真空吸盘210固定连接，且真空吸盘210与安装槽滑动连接且被限位在安装槽内无法脱出；
36.更多地，安装柱208的外周还套设有吹气圆盘209，且吹气圆盘209在安装柱208上的竖直高度可以滑动调节，吹气圆盘209的外侧均匀开设有多个出气孔；
37.在旋转分度盘202的中心位置固定安装有调节盘213，调节盘213内的中心位置设置有通过旋转气缸或电机驱动旋转的旋转圆盘216，且调节盘213内部对应四个工位方向开设有调节滑槽214，调节滑槽214内滑动设置有调节滑块215，调节滑块215的顶部固定安装有连接座，在对应的连接座和角度调节板205之间设置有连接柱212，连接柱212的两端分别与连接座和角度调节板205的一侧顶部转动连接；
38.调节滑块215靠近旋转圆盘216的一端固定连接有延伸杆，延伸杆远离调节滑块215的一端顶部转动安装有随动滚轮218，在旋转圆盘216上旋转对称开设有四个弧槽217，随动滚轮218设置在弧槽217内并与弧槽217滚动配合。
39.在防滴釉装置5内部，设置有通过电机驱动的链状结构，链状结构由多个相互铰接的链板51组成，每个链板51的外侧固定贴装有吸水海绵52，在链状结构的底部设置有清洗槽53，位于最下方的链板51可以浸没在清洗槽53内清洗液体中，清洗槽53的一侧固定安装有安装支架54，安装支架54的端部设置有挤压槽，挤压槽内滑动安装有浮动安装块55，且浮动安装块55的一侧通过对称设置的挤压弹簧56与挤压槽的顶部相抵接，浮动安装块55的一
侧转动安装有用于对吸水海绵52进行挤压脱水的挤压辊57。
40.本发明在使用时，通过前级工序将待施釉的陶瓷件依次摆放在上料输送带1的表面，当传送到对应位置时，升降油缸201驱动旋转分度盘202下降，并通过真空吸盘210吸附住待施釉陶瓷件，待吸附固定完成后，升降油缸201驱动旋转分度盘202上升，且在上升过程中旋转圆盘216发生转动，从而带动四个调节滑块215相互靠近，在连接柱212的拉动下角度调节板205发生角度偏转，从而使安装柱208与竖直方向形成一定角度；
41.随后旋转分度盘202转动一个工位角度，升降油缸201驱动旋转分度盘202下降且当待施釉陶瓷件开始浸入到储釉箱4内的釉液6中时，旋转圆盘216反向转动，带动四个调节滑块215相互远离，在连接柱212的推动下角度调节板205发生角度偏转，从而使安装柱208恢复竖直状态，这样做的好处是使待施釉陶瓷件侧向进入到液面下，避免接触面积过大产生溅液，导致待施釉陶瓷件施釉不均匀或者内壁污染的问题，在待施釉陶瓷件的外壁完全浸没在釉液6中时，安装柱208正好恢复竖直状态，此时吹气圆盘209向外吹气，防止釉液6进入到内壁中；
42.完成浸釉后，重复上述升降油缸201的抬升操作和安装柱208的角度偏转操作，旋转分度盘202继续转动一个工位角度，重复升降油缸201的下降操作和安装柱208的角度偏转操作，使完成施釉的陶瓷件底部与位于防滴釉装置5最上方的吸水海绵52接触，将流淌积累在陶瓷件底部的釉液擦干吸收；
43.完成釉液擦干吸收后，重复升降油缸201的抬升操作和安装柱208的角度偏转操作，继续转动一个工位角度，随后重复升降油缸201的下降操作和安装柱208的角度偏转操作，将完成施釉和釉液擦干的陶瓷件放置在下料输送带3的表面完成下料。
44.需要说明的是，每旋转一个工位，对应工位在同一抬升(或下降)动作以及角度偏转操作中执行不同的工序，在各个工序的执行过程中，每个工位的驱动电机207一直保持工作状态，使安装柱208一直处于旋转状态；
45.需要说明的是，每旋转一次工位，电机带动防滴釉装置5内链状结构转动一个链板51所在角度，从而使一块新的链板51保持在顶部水平位置，在链状结构循环传动过程中，位于最底部的链板51经过清洗且被挤压辊57挤压脱水。
46.以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭示如上，然而并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

技术特征：
1.陶瓷素坯自动施釉装置，其特征在于,包括旋转施釉平台(2)，所述旋转施釉平台(2)上设有升降结构和旋转结构，且在旋转圆周内设有多个相同工位，在旋转结构上的每个工位中设置有用于带动陶瓷件发生角度变化的角度偏转机构。2.根据权利要求1所述的陶瓷素坯自动施釉装置，其特征在于，多个所述相同工位设置有四个，沿工旋转施釉平台(2)的工作旋转方向依次设置有上料输送带(1)、储釉箱(4)、防滴釉装置(5)和下料输送带(3)。3.根据权利要求1所述的陶瓷素坯自动施釉装置，其特征在于，所述角度偏转机构包括与旋转结构边缘铰接的角度调节板(205)，旋转结构的中心位置安装有调节盘(213)，所述调节盘(213)内均匀设有四个受控滑动的调节滑块(215)，调节滑块(215)与角度调节板(205)之间设置有连接柱(212)，连接柱(212)的两端分别与调节滑块(215)和角度调节电板(205)转动连接。4.根据权利要求3所述的陶瓷素坯自动施釉装置，其特征在于，所述角度调节板(205)的一侧固定有安装板(206)，安装板(206)上均匀转动连接有多个安装柱(208)，每个安装柱(208)底部浮动安装有真空吸盘(210)，多个安装柱(208)外侧均固定有同步带轮并通过同步带驱动旋转。5.根据权利要求4所述的陶瓷素坯自动施釉装置，其特征在于，每个所述安装柱(208)的外侧均滑动设置有吹气圆盘(209)，吹气圆盘(209)的外侧均匀开设有多个出气孔。6.根据权利要求2所述的陶瓷素坯自动施釉装置，其特征在于，所述防滴釉装置(5)设有通过电机驱动的链状结构，所述链状结构包括多个相互铰接的链板(51)，每个链板(51)的外侧固定贴装有吸水海绵(52)，防滴釉装置(5)底部设有清洗槽(53)，且清洗槽(53)的依次设置有对吸水海绵(52)脱水的挤压辊(57)。7.根据权利要求1所述的陶瓷素坯自动施釉装置，其特征在于，所述升降结构采用升降油缸(201)，所述旋转结构采用旋转分度盘(202)。8.根据权利要求3所述的陶瓷素坯自动施釉装置，其特征在于，所述调节盘(213)中心位置转动设置有旋转圆盘(216)，调节滑块(215)靠近旋转圆盘(216)的一端固定连接有延伸杆，延伸杆远离调节滑块(215)的一端顶部转动安装有随动滚轮(218)，在旋转圆盘(216)上旋转对称开设有四个弧槽(217)，随动滚轮(218)设置在弧槽(217)内并与弧槽(217)滚动配合。

技术总结
本发明公开了陶瓷素坯自动施釉装置，涉及陶瓷件生产领域；包括旋转施釉平台，旋转施釉平台上设有升降结构和旋转结构，且在旋转圆周内设有多个相同工位，在旋转结构上的每个工位中设置有角度偏转机构；通过设置旋转施釉平台并在其上安装四个相同工位，将上料、浸釉、擦拭以及下料整个流程在同一套设备系统中利用同一动作进行完成，从而可以进行连续的不间断施釉操作，实现了全自动化生产加工且避免自动化产线过长占用场地；通过设置角度偏转机构并将其与升降结构和旋转结构配合，使陶瓷件在进入到釉液过程中是以倾斜的姿态进入，这样不易产生溅液，整个浸釉过程平稳有序，在对外壁进行施釉的同时保证其内壁不会发生污染。施釉的同时保证其内壁不会发生污染。施釉的同时保证其内壁不会发生污染。


技术研发人员：曹树龙 黄炳峰 张霞
受保护的技术使用者：合肥陶陶新材料科技有限公司
技术研发日：2023.05.09
技术公布日：2023/7/26