彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置与流程

1.本公开属于显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板、彩膜基板的制作方法、显示面板及显示装置。


背景技术：

2.屏下感光技术(例如：屏下摄像技术或屏下指纹技术)是实现手机等显示装置全面屏的关键，但与感光元件(例如：摄像头或指纹传感器)对应的显示面板的透光性难以满足高清摄像和高精指纹识别需求，致使屏下感光技术差，容易出现摄像头成像质量差或指纹识别不灵敏的情况。


技术实现要素：

3.本公开的目的在于提供一种彩膜基板、彩膜基板的制作方法、显示面板及显示装置，能够在实现全面屏的同时，可提高屏下感光效果。
4.本公开第一方面提供了一种彩膜基板，包括衬底，所述衬底的显示区包括与感光元件对应的感光显示区，所述感光显示区具有多个间隔设置的色阻区及位于相邻所述色阻区之间的间隔区，所述感光显示区的色阻区上设置有色阻部，
5.所述感光显示区的至少部分间隔区为调整间隔区，所述调整间隔区设置有调整结构，且所述彩膜基板还包括平坦层，所述平坦层形成在所述色阻部和所述调整结构远离所述衬底的一侧；
6.所述调整间隔区包括水平排布的第一区和第二区，所述调整结构包括位于所述第一区的第一电极和至少部分位于所述第二区的遮光磁性流体，所述遮光磁性流体在所述第二区的填充厚度小于所述平坦层和所述衬底之间的厚度；
7.其中，在所述第一电极处于断电状态时，所述遮光磁性流体完全覆盖所述第二区；在所述第一电极处于通电状态时，所述遮光磁性流体受到所述第一电极的磁场作用以进行流动，使得至少部分所述第二区未被所述遮光磁性流体覆盖。
8.本公开第二方面提供了一种前述任一项的彩膜基板的制作方法，所述制作方法包括：
9.提供衬底，所述衬底的显示区包括用于与感光元件相对的感光显示区，所述感光显示区具有多个间隔设置的色阻区及位于相邻所述色阻区之间的间隔区，所述感光显示区的至少部分间隔区为调整间隔区，所述调整间隔区包括水平排布的第一区和第二区；
10.在所述调整间隔区上形成电极组，所述电极组至少包括位于所述第一区的第一电极；
11.在未形成有所述电极组的间隔区上形成有遮光部；
12.在所述调整间隔区上形成有遮光磁性流体，所述遮光磁性流体的至少部分位于所述第二区；
13.在所述色阻区上形成色阻部；
14.在所述色阻部、所述遮光部、所述第一电极及所述遮光磁性流体远离所述衬底的一侧形成平坦层，所述平坦层与所述色阻部、所述遮光部、所述第一电极相接触，并与所述遮光磁性流体之间具有间隔。
15.本公开第三方面提供了一种显示面板，包括上述任一项所述的彩膜基板及与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板。
16.本公开第四方面提供了一种显示装置，包括前述所述的显示面板及感光元件，所述感光元件设于所述阵列基板背离所述彩膜基板的一侧，并与所述感光显示区对应设置。
17.本公开方案具有以下有益效果：
18.本公开通过对调整结构的第一电极的状态(包括通电状态和未通电状态，未通电状态即为断电状态)进行调整，从而可改变遮光磁性流体在调整间隔区的位置，继而使得调整间隔区的第二区在遮光和透光状态之间进行调整，以适配感光元件的工作状态，比如，在感光元件启动时，第一电极处于通电状态，遮光磁性流体在第一电极所产生的磁场作用下发生聚集，这样使得第二区的至少部分未被遮光磁性流体覆盖，未被遮光磁性流体覆盖的第二区可允许光线透过，这样增加了屏下感光元件启动时对应区域的透光率，确保屏下感光效果，且在感光元件未启动时，第一电极处于断电状态，则遮光磁性流体完全覆盖第二区，以避免光线从第二区透过，这样提高了屏下感光元件未启动时对应区域的遮光效果，从而可提高整体显示效果。
19.此外，本方案的调整结构通过利用电极与遮光磁性流体之间磁性配合关系，来调整遮光磁性流体在调整间隔区之间的位置，这种磁性配合方式在实现遮光和透光之间切换的同时，还可简化调整结构的设计，降低设计成本。
20.本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。
21.应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。
附图说明
22.此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
23.图1为本公开实施例一提到的彩膜基板中各区的位置关系示意图。
24.图2为本公开实施例一提到的彩膜基板的截面示意图。
25.图3为本公开实施例一提到的彩膜基板中各结构的平面排布示意图。
26.图4为本公开实施例提到的阵列基板与集成电路和柔性电路板的位置关系示意图。
27.图5为本公开实施例包括实施例一所提到的彩膜基板的显示装置在感光元件未启动时的截面示意图。
28.图6为本公开实施例包括实施例一所提到的彩膜基板的显示装置在感光元件启动时的截面示意图。
29.图7为本公开实施例一所提到的彩膜基板与阵列基板在非显示区的连接关系示意图。
30.图8为本公开实施例二所提到的彩膜基板的制作方法的流程示意图。
31.图9至图13分别为本公开实施例二中执行完不同步骤后的结构示意图。
32.图14为本公开实施例三提到的彩膜基板在第一电极处于断电状态时的截面示意图。
33.图15为本公开实施例三提到的彩膜基板在第一电极处于通电状态时的截面示意图。
34.图16为本公开实施例包括实施例三所提到的彩膜基板的显示装置在感光元件未启动时的截面示意图。
35.图17为本公开实施例包括实施例三所提到的彩膜基板的显示装置在感光元件启动时的截面示意图。
36.图18为本公开实施例四中执行完步骤s1092之后的结构示意图。
37.图19和图20分别为本公开实施例五提到的不同方案下的彩膜基板在第一电极处于断电状态时的截面示意图。
38.图21和图22分别为本公开实施例包括实施例五所提到的不同方案下的彩膜基板的显示装置在感光元件未启动时的截面示意图。
39.图23和图24分别为本公开实施例包括实施例五所提到的不同方案下的彩膜基板的显示装置在感光元件启动时的截面示意图。
40.图25为本公开实施例五提到的彩膜基板中各结构的平面排布示意图。
41.图26为本公开实施例五所提到的彩膜基板与阵列基板在非显示区的连接关系示意图。
42.图27为本公开实施例六中执行完步骤s1022之后的结构示意图。
43.附图标记说明：
44.1、彩膜基板；10、衬底；11、色阻部；12、遮光部；13、遮光磁性流体；14、第一电极；140、第一转接部；15、平坦层；16、导电胶；17、透光流体；18、第二电极；180、第二转接部；19、各向异性导电胶；2、感光元件；3、阵列基板；31、导电连接点；310、第一导电连接点；311、第二导电连接点；32、电极信号线；4、集成电路；5、柔性电路板；6、磁性驱动件；7、封框胶；8、背光模组；91、上偏光片；92、下偏光片；a、显示区；a1、感光显示区；a2、主显示区；b、非显示区；b1、绑定区；y、第一方向；x、第二方向；s、空腔、z、厚度方向。
具体实施方式
45.现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施方式使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。
46.此外，所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而没有特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下，不详细示出或描述公知方
法、装置、实现或者操作以避免模糊本公开的各方面。
47.下面结合附图和具体实施例对本公开作进一步详述。在此需要说明的是，下面所描述的本公开各个实施例中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本公开，而不能理解为对本公开的限制。
48.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本公开的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
49.在本公开中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。
50.实施例一
51.本公开实施例提供了一种彩膜基板，可以应用于液晶显示面板中，但不限于此，也可应用于coe技术(即：滤色片放置在薄膜封装上的技术)的面板中，视具体情况而定。
52.结合图1和图2所示，本实施例的彩膜基板1可包括衬底10和色阻层，衬底10可包括显示区a和环绕显示区a设置的非显示区b，进一步地，衬底10的显示区a可包括多个间隔设置的色阻区以及位于相邻色阻区之间的间隔区，色阻层可包括多个间隔设置的色阻部11，每个色阻部11对应形成在一色阻区上，此色阻部11用于使得包括本实施例彩膜基板1的显示面板实现彩色显示。
53.举例而言，彩膜基板1的多个色阻部11可包括多种颜色，例如：红色、绿色、蓝色等等，但不限于此，可根据实际显示需求设计色阻部11的颜色。
54.其中，由于彩膜基板1在第一方向y(可理解为列方向)上相邻两行色阻区之间的间隔区通常用于与阵列基板3(如图4所示)上的行间隙(图中未示出)对应，在第二方向x(可理解为行方向)上相邻两列色阻区之间的间隔区通常用于与阵列基板3上的列间隙(图中未示出)对应，此行间隙主要用于排布扫描线和晶体管(图中未示出)等结构，列间隙主要用于排布数据线(图中未示出)等结构，因此，阵列基板3的列间隙小于其行间隙，对应地，参考图3所示，彩膜基板1中在第一方向y上相邻两行色阻区之间的间隔h1大于在第二方向x上相邻两列色阻区之间的间隔h2。
55.应当理解的是，第一方向y与第二方向x相交，进一步地，可相互垂直。
56.具体地，在第一方向y上相邻两行色阻区之间的间隔h1与在第二方向x上相邻两列色阻区之间的间隔h2比值为10倍左右，比如：在第一方向y上相邻两行色阻区之间的间隔h1可为100μm级，在第二方向x上相邻两列色阻区之间的间隔h2可为10um级，但应当理解的是，在第一方向y上相邻两行色阻区之间的间隔h1不限于100μm级，在第二方向x上相邻两列色阻区之间的间隔h2不限于10um级，可在其取值左右进行浮动，只要能够实现显示面板的设计需求即可。
57.在本实施例中，为了实现全面屏，可采用屏下感光技术，结合图1、图3和图5所示，
可将衬底10的显示区a中与感光元件2对应的区域定义为感光显示区a1，此感光显示区a1具有多个间隔设置的色阻区及位于相邻色阻区之间的间隔区，感光显示区a1的色阻区上设置有色阻部11，也就是说，此感光显示区a1除了用于实现感光功能，还可用于实现显示功能。
58.此外，结合图1、图3和图5所示，衬底10的显示区a中未与感光元件2对应的区域可定义为主显示区a2，主显示区a2可与感光显示区a1相邻，主显示区a2也具有多个间隔设置的色阻区及位于相邻色阻区之间的间隔区，且主显示区a2的色阻区上也设置有色阻部11，也就是说，此主显示区a2用于实现显示功能。
59.其中，主显示区a2中色阻部11的分布密度可与感光显示区a1中色阻部11的分布密度相等，这样在保证显示区a整体显示均匀的同时，还可降低设计成本。
60.此外，如图1所示，主显示区a2可环绕感光显示区a1整圈设置，但不限于此，也可感光显示区a1的至少部分边界与非显示区b相接，其余部分边界与主显示区a2相接等，具体视显示产品需求而定。
61.应当理解的是，主显示区a2的显示面积通常大于感光显示区a1的显示面积，以在实现屏下感光技术的同时，提高整个显示区a的显示效果。
62.在本实施例中，为了增加屏下感光元件2启动时对应区域(感光显示区a1)处的透光率，结合图2和图3所示，可在感光显示区a1的至少部分间隔区上设置有调整结构，设置有调整结构的间隔区可定义为调整间隔区；应当理解的是，主显示区a2的间隔区以及感光显示区a1中未设置有调整结构的间隔区均设置有遮光部12，此遮光部12的材料可为绝缘树脂材料，具体可为黑色绝缘树脂材料。
63.在本实施例中，调整间隔区可包括水平排布的第一区和第二区，结合图2和图3所示，调整结构可包括遮光磁性流体13及第一电极14，第一电极14位于第一区，遮光磁性流体13的至少部分位于第二区，其中，遮光磁性流体13具有流动性，为了避免遮光磁性流体13从彩膜基板1流出，还可在制作完调整结构之后制作一层平坦层15，如图2所示，也就是说，彩膜基板1还可包括平坦层15，此平坦层15形成在色阻部11和调整结构远离衬底10的一侧。
64.参考图2所示，遮光磁性流体13在第二区的填充厚度小于平坦层15和衬底10之间的厚度，以能够使得遮光磁性流体13在平坦层15和衬底10之间进行流动。其中，第一电极14具有通电和断电状态，如图5所示，遮光磁性流体13用于在第一电极14处于断电状态时完全覆盖第二区，如图6所示，遮光磁性流体13还用于在第一电极14处于通电状态时受到来自第一电极14的磁场作用以进行流动，使得第二区的至少部分未被遮光磁性流体13覆盖。
65.本公开通过对调整结构中第一电极14的状态(包括通电状态和未通电状态，未通电状态即为断电状态)进行调整，从而可改变遮光磁性流体13在调整间隔区的位置，继而使得调整间隔区的第二区在遮光和透光状态之间进行调整，以适配感光元件2的工作状态，比如，如图6所示，在感光元件2启动时，第一电极14处于通电状态，遮光磁性流体13在第一电极14所产生的磁场作用下发生聚集，这样使得第二区的至少部分未被遮光磁性流体13覆盖，未被遮光磁性流体13覆盖的第二区可允许光线透过，这样增加了屏下感光元件2启动时对应区域的透光率，确保屏下感光效果，且如图5所示，在感光元件2未启动时，第一电极14处于断电状态，则遮光磁性流体13完全覆盖第二区，以避免光线从第二区透过，这样提高了屏下感光元件2未启动时对应区域的遮光效果，从而可提高整体显示效果。
66.此外，本方案的调整结构通过利用电极与遮光磁性流体13之间磁性配合关系，来
调整遮光磁性流体13在调整间隔区之间的位置，这种磁性配合方式在实现遮光和透光之间切换的同时，还可简化调整结构的设计，降低设计成本。
67.在本实施例中，第一电极14可完全覆盖第一区，即：第一区可理解为调整间隔区中用于形成第一电极14的区域，遮光磁性流体13完全位于第二区并能够在第二区上流动，即：第二区可理解为调整间隔区中用于填充遮光磁性流体13的区域。
68.其中，第一电极14可为非透明导电体，这样可保证在感光元件2未开启时的遮光效果，即：调整结构中除了被遮光磁性流体13覆盖的区域可实现遮光功能，第一电极14所在的位置也实现遮光功能。
69.举例而言，在第一电极14通电产生磁场时，如图6所示，遮光磁性流体13可向靠近第一电极14的方向聚集，也就是说，第一电极14在通电时与遮光磁性流体13之间产生有磁吸力，以吸引遮光磁性流体13向其所在方向聚集。且第一电极14可为金属导电体，比如：铁、铜、铝等非透明导电体中的一种，以增强其在处于通电状态时产生的磁场，从而更好地向第一电极14所在的位置聚集，以使第二区中尽可能多的区域未被遮光磁性流体13覆盖，从而可提高透光率，继而可提高感光元件2的感光效果。
70.在本实施例中，在第一电极14处于断电状态时：如图2所示，遮光磁性流体13与平坦层15之间为空腔s，以保证遮光磁性流体13的流动性，应当理解的是，在将图2所示的彩膜基板1倒置并与阵列基板3对盒后，若第一电极14处于断电状态，则遮光磁性流体13在自身重力的作用下会积聚在平坦层15上，如图5所示，此时，遮光磁性流体13与衬底10之间为空腔s；且在第一电极14处于通电状态时：第二区未被遮光磁性流体13覆盖的区域与平坦层15之间为空腔s，此空腔s无遮光物，应当理解的是，在将图2所示的彩膜基板1倒置并与阵列基板3对盒后，若第一电极14处于通电状态，则在自身重力作用下积聚在平坦层15上的遮光磁性流体会向靠近第一电极14侧聚集，使得第二区的部分和平坦层之间无遮光磁性流体13填充，即：未填充遮光磁性流体13的区域为空腔s，如图6所示，可以更好地使光线穿过，进而达到增加透光率的目的，以保证屏下感光元件2的感光质量，例如，在感光元件2为摄像头时，可提高屏下摄像头的成像质量。
71.其中，由于前述提到在第一方向y上相邻两行色阻区之间的间隔h1大于在第二方向x上相邻两列色阻之间的间隔h2，因此，为了降低调整结构的加工难度，可将调整结构设置在感光显示区a1中在第一方向y上相邻两行色阻区之间的间隔区上，也就是说，调整间隔区位于在第一方向y上相邻两行色阻区之间。
72.此外，由于在第一方向y上相邻两行色阻区之间的间隔较大，因此，可将调整间隔区中较大的面积设计为供遮光磁性流体13流动的区域，即：可设计更大面积的第二区，这样在感光元件2启动时，还可使得调整结构能够形成更大面积的透光区域(即：在感光元件2启动时第二区中未被遮光磁性流体13覆盖的区域)，从而可提高调整结构的透光率，继而提高感光元件2的感光效果。
73.示例地，结合图2和图3所示，调整结构中第一电极14与遮光磁性流体13在第一方向y上水平排布，也可理解为，调整间隔区的第一区与第二区在第一方向y上水平排布，这样可增大第一电极14的面积，以在第一电极14通电时能够产生更强的磁场，从而能够驱动遮光磁性流体13快速且稳定地聚集到指定位置，保证感光效果。
74.进一步地，结合图2和图3所示，第二区在第一方向y上的相对两侧均设置有第一
区，每个第一区上均形成有第一电极14，位于第二区在第一方向y上相对两侧的第一电极14与位于第二区在第二方向x上相对两侧的遮光部12围成用于容纳遮光磁性流体13的腔体，通过利用遮光部12与第一电极14共同围成用于容纳遮光磁性流体13的腔体，这样可适当减少电极的面积，从而可降低在感光元件2启动时的电损耗。
75.但应当理解的是，本实施例不限于仅在第二区的第一方向y上相对两侧设置第一区，第一区也可环绕第二区的四周设置，换言之，第一电极14也可为环状电极，环状电极完全环绕第二区，以形成用于容纳遮光磁性流体13的腔体，此腔体密封性更好，此外，这样在制作完第一电极14时，即可直接向第一电极14自身围成的腔体内填充遮光磁性流体13。
76.举例而言，如图2所示，本实施例的第一电极14在厚度方向z上的两端分别与衬底10和平坦层15相接触，此时，第一电极14的厚度即可理解为整个调整结构的厚度。
77.其中，结合图3、图4及图7所示，第一电极14整体可在第二方向x上延伸，且第一电极14的一部分可延伸至衬底10的非显示区b并形成第一转接部140，此第一转接部140可通过导电胶16与阵列基板3上的导电连接点31相导通，导电连接点31可与阵列基板3上位于非显示区b外围的电极信号线32相接，最终通过阵列基板3上绑定区b1(此绑定区b1为非显示区b的一部分)的集成电路4或是fpc(柔性电路板5)等提供电压控制信号。
78.在本实施例中，第二区在第一方向y上的相对两侧的第一电极14可共同控制，以写入相同的电压，即：位于第二区在第一方向y上的这两个第一电极14可通过导电胶16与阵列基板3上的同一导电连接点31相导通，这样可降低阵列基板3的设计难度以及集成电路4和fpc的控制难度。
79.此外，位于第二区相对两侧的第一电极14共同控制，这样使得在感光元件2启动时调整结构中位于第二区相对两侧的第一电极14的电压可相同，产生相同的磁场，这样在感光元件2启动时遮光磁性流体13可分别向两侧的第一电极14移动，以使得调整结构的中间区域未被遮光磁性流体13覆盖，即：使得调整结构的中间区域为透光区，这样可使得光线更均匀地透过调整结构入射至感光元件2处，提高感光效果。
80.但不限于此，位于第二区在第一方向y上的这两个第一电极14也可独立控制，这两个第一电极14可写入相同的电压，也可写入不相同的电压，视具体情况而定；具体地，两个第一电极14的第一转接部140可通过各向异性导电胶与阵列基板3上的不同导电连接点31相导通，每个导电连接点31可分别与阵列基板3上位于非显示区b的一条电极信号线32相接。
81.此外，如图3所示，第一电极14和与其相邻且位于感光显示区a1的多个色阻部11相贴合，也就是说，调整结构在第二方向x上的尺寸可对应多个色阻部11，这样可增大感光元件2启动时调整结构的透光面积，从而提高透光率。
82.在本实施例中，遮光磁性流体13可为黑色磁性油墨，此黑色磁性油墨包括60％～80％的颜料、15％～35％的连接料、5％的添加料，进一步地，黑色磁性油墨由60％～80％的颜料、15％～35％的连接料、5％的添加料组成；黑色磁性油墨中颜料占主体，使得黑色磁性油墨呈现黑色及具有磁性，颜料占比过多会影响黑色磁性油墨整体的流动性，占比过少则黑色磁性油墨磁性特征不显著，导致电极通电后无法精确的控制黑色磁性油墨产生流动变化；混合连接料后使得颜料受到磁场影响后有较好的流动性，连接料占比过多，同比颜料占比下降，会导致黑色磁性油墨无法被磁场控制，连接料占比过少，使得黑色磁性油墨在去除
磁场后无法快速的流动恢复至初始状态。添加料起到润滑作用，和连接料一起使得颜料不出现团聚现象。
83.举例而言，黑色磁性油墨中的颜料为氧化铁黑(fe3o4)或氧化铁棕(fe2o3)的一种，该颜料为磁性颜料，其颗粒为小于1um的针状结晶，该颜料可在磁场中均匀排列；连接料为醇酸树脂、聚氨基甲酸醋、环氧树脂、丙烯酞胺、聚醋酸乙烯醋、氯乙烯一醋酸共聚物、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯乙醚、硝基纤维素、聚氨醋树脂等合成树脂中的一种，用于保证黑色磁性油墨的流动性和附着力；添加料为硅烷或铁酸脂类物质的一种，用于保证磁性颜料在连接料中均匀的分散。
84.在本公开实施例中，如图2所示，遮光磁性流体13在调整间隔区中第二区的填充厚度d1与平坦层15和衬底10之间厚度d的比值范围为1/3～2/3，换言之，遮光磁性流体13在制作过程中的填充厚度d1与第一电极14的厚度d的比值范围为1/3～2/3，比如：1/3、1/2、2/3等，其中，遮光磁性流体13填充过少则使得调整结构无法在感光元件2未启动时起到良好的遮光效果，填充过多则会导致调整结构在感光元件2启动时透光面积较小的情况。
85.在本公开实施例中，如图2所示，第一电极14的宽度w范围可为0.5μm至2μm，比如：0.5μm、1μm、1.5μm、2μm等，这样在保证感光元件2启动时第一电极14所产生的磁场强度，以使遮光磁性流体13快速向靠近第一电极14所在的位置聚集，使得调整间隔区中第二区的至少部分未被遮光磁性流体13覆盖的同时，还可减少第一电极14占据调整间隔区过多的面积，即：减小调整间隔区中第一区的占比，增大第二区的占比，继而可提高第二区中未被遮光磁性流体13覆盖的区域面积，提高了调整结构在感光元件2启动时的透光率。
86.应当理解的是，本实施例的彩膜基板1主要应用状态为水平放置(即：与衬底10平行)状态或者小角度倾斜放置(与衬底10具有较小夹角)状态，以保证遮光磁性流体13在第一电极14未通电(即：处于断电状态)时能够完全覆盖第二区，从而保证在感光元件2未开启时调整结构具有良好的遮光性能。
87.实施例二
88.基于实施例一提到的彩膜基板1的结构，本实施例二提供了一种彩膜基板1的制作方法，应当理解的是，彩膜基板1的具体结构可参考实施一所描述的内容，在此不作重复限定。下面结合附图可对本实施例一的彩膜基板1的制作方法进行详细说明。
89.如图8所示，彩膜基板1的制作方法可包括：
90.步骤s100、提供衬底10；
91.步骤s102、在衬底10的调整间隔区上形成电极组，电极组至少包括位于第一区的第一电极14，参考图9所示；
92.步骤s104、在未形成有电极组的间隔区上形成有遮光部12，参考图10所示；
93.步骤s106、在调整间隔区上形成有遮光磁性流体13，遮光磁性流体13的至少部分位于第二区，参考图10所示；
94.步骤s108、在色阻区上形成色阻部11，参考图11所示；
95.步骤s110、在色阻部11、遮光部12、第一电极14及遮光磁性流体13远离衬底10的一侧形成平坦层15，平坦层15与色阻部11、遮光部12、第一电极14相接触，并与遮光磁性流体13之间具有间隔，参考图2所示。
96.其中，在步骤s102中，当仅在第二区的第一方向y上相对两侧形成第一电极14时，
可先执行步骤s104，以使遮光部12与第一电极14先围成用于容纳遮光磁性流体13的腔体，然后再执行步骤s106，即：向遮光部12与第一电极14围成的腔体内填充遮光磁性流体13。
97.应当理解的是，在步骤s102中，在第二区的四周形成环状且呈封闭状的第二电极时，可先执行步骤s104，再执行步骤s106，但不限于此，也可先执行步骤s106，再执行步骤s104，视具体情况而定。
98.此外，还需说明的是，步骤s108可在步骤s104和步骤s106之后执行，但不限于此，也可在步骤s104和步骤s106之前执行，视具体情况而定。
99.在本实施例中，在步骤s110之前，彩膜基板1的制作方法还包括：步骤s1091，在衬底10远离遮光磁性流体13的一侧设置磁性驱动件6，磁性驱动件6向遮光磁性流体13提供磁斥力，以驱动遮光磁性流体13向远离衬底10的方向移动，使得遮光磁性流体13移动至其远离衬底10的表面与第一电极14远离衬底10的表面相平齐，参考图12所示；应当理解的是，在执行步骤s110，以在色阻部11、遮光部12、第一电极14及遮光磁性流体13远离衬底10的一侧形成平坦层15时，磁性驱动件6未被撤除，磁性驱动件6仍然提供磁斥力以保持遮光磁性流体13处于悬浮状态，以与第一电极14远离衬底10的表面相平齐，参考图13所示。此外，在步骤s110之后，彩膜基板1的制作方法还包括：步骤s111，撤除磁性驱动件6的磁斥力，以形成如图2所示的彩膜基板。
100.通过此制作方式制作的彩膜基板1，可在第一电极14处于断电状态时：遮光磁性流体13与平坦层15之间为空腔s，以保证遮光磁性流体13的流动性；在第一电极14处于通电状态时：第二区未被遮光磁性流体13覆盖的区域与平坦层15之间为空腔s，此空腔s可以更好地使光线穿过，以提高感光效果。
101.其中，当遮光磁性流体13填充后，根据填充量可知其重力n的大小，磁性驱动件6加电对遮光磁性流体13产生斥力m，此m＞n，遮光磁性流体13整体便会克服所受重力呈上升状态，待遮光磁性流体13表面和第一电极14表面平齐时，更改磁性驱动件6的加电状况，使其对遮光磁性流体13产生斥力n，此时遮光磁性流体13便处于悬浮状态，以保持与第一电极14远离衬底10的表面相平齐，遮光磁性流体13上升速度及时间可由磁性驱动件6产生的不同斥力控制。
102.实施例三
103.实施三与实施例二的区别点在于：本实施例三中的调整结构除了包括第一电极14和遮光磁性流体13之外，调整结构还可包括透光流体17，在第一电极14处于断电状态时：遮光磁性流体13与平坦层15之间充满透光流体17，如图14所示；在第一电极14处于通电状态时：第二区未被遮光磁性流体13覆盖的区域与平坦层15之间充满透光流体17，如图15所示。
104.本实施例中，通过设置透光流体17可确保遮光磁性流体13在感光元件2处于开启状态时聚集在第一电极14侧，如图17所示，避免或缓解部分遮光磁性流体13未移动致使调整结构的第二区透过率下降的情况出现，此外，还可使得具有此调整结构的彩膜基板1的制备工艺更易实现，即：简化调整结构上平坦层15的制备工艺。
105.举例而言，本实施例的透光流体17可为透明树脂颗粒，此透明树脂颗粒主要成分为绝缘、透明状的聚碳酸酯颗粒，其质量轻于遮光磁性流体13。当感光元件2启动工作时，第一电极14通电，遮光磁性流体13受磁力影响向第一电极14侧聚集，透明树脂颗粒为绝缘物质不向两侧的第一电极14聚集，因遮光磁性流体13的移动致使透明树脂颗粒向第二区的中
间区移动，如图17所示，进而进一步推动遮光磁性流体13向两侧的第一电极14移动，达到增加透光率的目的，以保证屏下感光元件2的感光质量，例如，在感光元件2为摄像头时，可提高屏下摄像头的成像质量。当第一电极14不通电时，因为遮光磁性流体13的质量大于透明树脂颗粒，遮光磁性流体13下落至调整结构的底部，透明树脂颗粒移动至调整结构的顶部，以此实现应用彩膜基板1的显示面板正常工作状态下遮光的作用。
106.应当理解的是，由于透光流体17的质量轻于遮光磁性流体13，因此，在将彩膜基板1对盒设置在阵列基板3的上方时，具体地，在平坦层15位于衬底10靠近阵列基板3的一侧时，在第一电极14处于断电状态(即：感光元件2未启动)时，透光流体17会位于遮光磁性流体13与衬底10之间，如图16所示。
107.应当理解的是，本实施例三除了前面提到的与实施例一不同，其余均可参考实施例一的内容，在此不作重复限定。
108.实施例四
109.基于实施例三提到的彩膜基板1的结构，本实施例四提供了一种彩膜基板1的制作方法，应当理解的是，彩膜基板1的具体结构可参考实施三所描述的内容，在此不作重复限定。
110.此外，本实施例四的彩膜基板1的制作方法与本实施例二的彩膜基板1的制作方法的主要区别在于：本实施例四在步骤s110之前，彩膜基板1的制作方法不包括步骤s1091，而是包括：步骤s1092，在遮光磁性流体13远离衬底10的一侧填充透光流体17，如图18所示，透光流体17与第一电极14远离衬底10的表面相平齐，然后再制作平坦层15，这样制作完的平坦层15与色阻部11、遮光部12、第一电极14、透光流体17均相接触，参考图14所示。
111.本实施例通过先在遮光磁性流体13远离衬底10的一侧填充透光流体17，再制作平坦层15，这样可使得彩膜基板1的制备工艺更易实现，即：简化调整结构上平坦层15的制备工艺。
112.应当理解的是，本实施例四除了前面提到的与实施例二不同，其余均可参考实施例二的内容，在此不作重复限定。
113.实施例五
114.本实施例五与实施例一或实施例三的主要区别在于：参考图19或图20所示，本实施例五的调整结构还可包括第二电极18，此第二电极18位于第二区，且为透明导电体的第二电极18，第二电极18与第一电极14水平间隔排布，这样可使第一电极14和第二电极18可独立控制，其中，第二电极18形成在衬底10上，第二电极18的厚度小于第一电极14的厚度，遮光磁性流体13的至少部分填充在第二电极18与平坦层15之间。
115.本实施例的第二电极18能够在第一电极14处于断电状态时处于通电状态，第二电极18能够在第一电极14处于通电状态时处于断电状态，也就是说，在感光元件2未启动时，第一电极14处于断电状态，第二电极18处于通电状态，遮光磁性流体13在第二电极18处于通电状态时受到来自第二电极18的磁场作用以进行流动，使得遮光磁性流体13完全覆盖第二区，参考图21所示(或参考图22所示)；在感光元件2启动时，在感光元件2启动时，第一电极14处于通电状态，遮光磁性流体13在第一电极14所产生的磁场作用下发生聚集，这样使得第二区的至少部分未被遮光磁性流体13覆盖，参考图23所示(或参考图24所示)此外，由于第二电极18为透明导电体，未被遮光磁性流体13覆盖的第二区以及第二电极18可允许光
线透过，这样增加了屏下感光元件2启动时对应区域的透光率。
116.本实施例中，通过设置第二电极18可确保在感光元件2未启动(即：不工作)时，遮光磁性流体13在不同使用环境下均能够完全覆盖第二区，起到遮光作用，也就是说，本实施例的彩膜基板1的使用环境不限于水平放置、小角度倾斜等使用环境状态，也可使用在竖直使用环境或大角度倾斜使用环境，即：本实施例的彩膜基板1、具有此彩膜基板1的显示面板的适用范围更广泛。
117.举例而言，此遮光磁性流体13可在第二电极18产生的磁场驱动下向靠近第二电极18所在的位置聚集，使得第二电极18、第二电极18与第一电极14之间的间隙均被遮光磁性流体13完全覆盖，即：第二区完全被遮光磁性流体13覆盖，也就是说，第二电极18在通电时与遮光磁性流体13之间产生有磁吸力，以吸引遮光磁性流体13向其所在方向聚集。
118.此外，还需说明的是，在本实施例的彩膜基板1在处于水平放置或小角度倾斜等使用环境状态时，第二电极18在感光元件2未启动时也可不通电，此时，第二电极18、第二电极18与第一电极14之间的间隙在衬底10上的正投影均被遮光磁性流体13在衬底10上的正投影完全覆盖，在本实施例的彩膜基板1在处于竖直放置或大角度倾斜等使用环境状态时，第二电极18在感光元件2未启动时则需要通电，以保证第二电极18、第二电极18与第一电极14之间的间隙均被遮光磁性流体13完全覆盖。
119.其中，如图25所示，第一电极14与第二电极18之间的间隙h3范围为0.5μm至1.5μm，比如：0.5μm、0.75μm、1μm、1.25μm、1.5μm等，这样在保证第一电极14和第二电极18之间的间隙满足独立控制且容易加工的同时，还可在第二电极18通电时使得第二电极18与第一电极14之间的间隙被遮光磁性流体13完全覆盖，保证遮光效果。
120.示例地，第二电极18的厚度范围可为0.5μm至1μm，比如：0.5μm、0.6μm、0.7μm、0.8μm、0.9μm、1μm等，这样在保证其透光性的同时，还可保证在感光元件2未启动时第二电极18所产生的磁场强度，以使遮光磁性流体13快速向靠近第二电极18所在的位置聚集，使得第二电极18、第二电极18与第一电极14之间的间隙均被遮光磁性流体13完全覆盖，保证调整结构在感光元件2未启动时的遮光效果。
121.示例地，如图26所示，第二电极18的一部分可延伸至衬底10的非显示区b并形成第二转接部180，此第二电极18的第二转接部180和第一电极14的第一转接部140分别与阵列基板3中对应位置的导电连接点31连接，其中，第二转接部180和第一转接部140间隔设置，以使得第二转接部180和第一转接部140可相互独立控制。
122.其中，如图26所示，第一转接部140与第二转接部180的厚度可相等，以便于在彩膜基板1与阵列基板3对盒设置后，第一转接部140、第二转接部180可同时通过各向异性导电胶19与阵列基板3对应位置的第一导电连接点310、第二导电连接点311连接。
123.需要说明的是，如图25所示，第一电极14与第二电极18在第二方向x上整体的延伸长度可相等。
124.在本实施例中，第一电极14不限于实施例一中提到的非透明导电体，也可为可为透明导电体，此第一电极14可与本实施例的第二电极18同层设置，此同层设置指的是第一电极14与第二电极18采用相同的透明导电材料，并采用同一道掩膜工序制作而成，这样可减少掩膜工序，从而降低成本。
125.需要说明的是，由于第一电极14的宽度较小，在第一方向y上相邻两行色阻区之间
的间隔较大，具体参考实施例一中提到的第一电极14的宽度范围为0.5μm至2μm，在第一方向y上相邻两行色阻区之间的间隔可为100μm级，因此，在第一电极14为透明导电体时，第一电极14对调整结构的遮光性能的影响较小，可忽略不计。
126.应当理解的是，本实施例五除了前面提到的与实施例一和实施例三不同，其余均可参考实施例一或实施例三的内容，在此不作重复限定。
127.实施例六
128.基于实施例五提到的彩膜基板1的结构，本实施例六提供了一种彩膜基板1的制作方法，应当理解的是，彩膜基板1的具体结构可参考实施五所描述的内容，在此不作重复限定。
129.此外，本实施例六的彩膜基板1的制作方法与本实施例二和本实施例四的彩膜基板1的制作方法的主要区别在于：步骤s102具体包括：
130.步骤s1021，在调整间隔区的第一区上形成第一电极14；
131.步骤s1022，在调整间隔区的第二区上形成第二电极18，第二电极18与第一电极14间隔排布，参考图27所示。
132.其中，在第一电极14为非透明导电体，第二电极18为透明导电体时，可先执行步骤s1021，再执行步骤s1022；也可先执行步骤s1022，再执行步骤s1021。
133.此外，在第一电极14和第二电极18均为透明导电体时，步骤s1021与步骤s1022可同时执行，比如：可先在衬底10上形成透明导电层，然后对透明导电层进行图案化处理，以形成如图27所示的结构。
134.应当理解的是，本实施例六除了前面提到的与实施例二和实施例四不同，其余均可参考实施例二或实施例四的内容，在此不作重复限定。
135.实施例七
136.本公开实施例七提供了一种显示面板，其包括实施例一、实施例三或实施例五所描述的彩膜基板1以及与彩膜基板1对盒设置的阵列基板3。
137.应当理解的是，彩膜基板1的显示区a和非显示区b即可理解为整个显示面板的显示区a和非显示区b。
138.举例而言，此显示面板可为液晶显示面板，即：参考图5、图16、图21或图22所示，显示面板除了包括对盒设置的彩膜基板1、阵列基板3，还可包括填充在彩膜基板1和阵列基板3之间的液晶层(图中未示出)、环绕液晶层设置的封框胶7以及上偏光片91和下偏光片92，此封框胶7设于彩膜基板1和阵列基板3之间，并位于显示面板的非显示区b，此上偏光片91可位于彩膜基板1远离阵列基板3的一侧，下偏光片92可位于阵列基板3远离彩膜基板1的一侧。
139.下面以实施例五所描述的彩膜基板1为例进行说明。
140.如图26所示，在非显示区b中：阵列基板3设置有与第一电极14的第一转接部140对应的第一导电连接点310，与第二电极18的第二转接部180对应的第二导电连接点311，此第一导电连接点310和第二导电连接点311间隔设置，且第一导电连接点310和第二导电连接点311上可涂覆有各向异性导电胶19(各向异性导电胶19上下导通、左右不导通)，以与第一转接部140和第二转接部180电性连接。
141.参考图4所示，显示面板还可包括用于产生控制信号的柔性电路板5和集成电路4，
此柔性电路板5或集成电路4可与阵列基板3中位于非显示区b的绑定区b1进行绑定，其中，第一导电连接点310和第二导电连接点311分别通过独立的控制信号线与集成电路4或柔性电路板5连接，柔性电路板5、集成电路4产生的控制信号经由阵列基板3外围(位于非显示区b)的控制信号线传递至对应导电连接点31，实现对第一电极14和第二电极18的控制。
142.此外，若在调整结构的第一电极14设置两个且分别独立控制时，则阵列基板3上第一导电连接点310也可设置两个，并分别通过独立的控制信号线与集成电路4或柔性电路板5连接，若在调整结构的第一电极14设置两个且分别共同控制时，则阵列基板3上第一导电连接点310也可设置两个且串联，以通过同一条控制信号线与集成电路4或柔性电路板5连接。
143.实施例八
144.本公开实施例八还提供了一种显示装置，参考图5、图16、图21或图22所示，其包括实施例七所描述的显示面板及感光元件2，感光元件2设于阵列基板3背离彩膜基板1的一侧，并与感光显示区a1对应设置。
145.此感光元件2可为摄像头，但不限于此，也可为面部识别传感器或指纹识别传感器等等，视具体情况而定。
146.以感光元件2为摄像头为例进行说明，在摄像头启动时，通过第一电极14与遮光磁性流体13之间的配合(通过第二电极18、第一电极14及遮光磁性流体13之间的配合)，以使调整结构的大部分处于透光状态，这样增加了屏下摄像头启动时对应区域的透光率，确保屏下摄像头的成像质量，且在摄像头未启动时，通过第一电极14与遮光磁性流体13之间的配合(通过第二电极18、第一电极14及遮光磁性流体13之间的配合)，以使调整结构整体处于遮光状态，这样提高了屏下摄像头未启动时对应区域的遮光效果，从而可提高整体的显示效果。
147.应当理解的是，在此显示面板为液晶显示面板时，参考图5、图16、图21或图22所示，显示装置还可包括背光模组8，此背光模组8可位于阵列基板3远离彩膜基板1的一侧，以提供显示光源。
148.在本说明书的描述中，参考术语“示例地”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本公开的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
149.尽管上面已经示出和描述了本公开的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本公开的限制，本领域的普通技术人员在本公开的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型，故但凡依本公开的权利要求和说明书所做的变化或修饰，皆应属于本公开专利涵盖的范围之内。

技术特征：
1.一种彩膜基板，包括衬底，所述衬底的显示区包括与感光元件对应的感光显示区，所述感光显示区具有多个间隔设置的色阻区及位于相邻所述色阻区之间的间隔区，所述感光显示区的色阻区上设置有色阻部，其特征在于，所述感光显示区的至少部分间隔区为调整间隔区，所述调整间隔区设置有调整结构，且所述彩膜基板还包括平坦层，所述平坦层设置于所述色阻部和所述调整结构远离所述衬底的一侧；所述调整间隔区包括水平排布的第一区和第二区，所述调整结构包括位于所述第一区的第一电极和至少部分位于所述第二区的遮光磁性流体，所述遮光磁性流体在所述第二区的填充厚度小于所述平坦层和所述衬底之间的厚度；其中，在所述第一电极处于断电状态时，所述遮光磁性流体完全覆盖所述第二区；在所述第一电极处于通电状态时，所述遮光磁性流体受到所述第一电极的磁场作用以进行流动，使得至少部分所述第二区未被所述遮光磁性流体覆盖。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述调整间隔区设置在第一方向上相邻两行所述色阻区之间，其中，所述第一区与第二区在第一方向上水平排布，所述第一电极完全覆盖所述第一区，所述遮光磁性流体完全位于所述第二区并能够在所述第二区上流动。3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一电极的宽度范围为0.5μm至2μm；和/或所述第一电极和与其相邻且位于所述感光显示区的多个色阻部相贴合；和/或所述第二区在第一方向上的相对两侧均设置有所述第一区，每个所述第一区上均设置有所述第一电极，且各所述第一区上的第一电极共同控制或相互独立控制；和/或所述遮光磁性流体为黑色磁性油墨，所述黑色磁性油墨包括60％～80％的颜料、15％～35％的连接料、5％的添加料；和/或所述遮光磁性流体在所述第二区的填充厚度与所述平坦层和所述衬底之间厚度的比值范围为1/3～2/3。4.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述衬底的显示区还包括与所述感光显示区相邻的主显示区，所述主显示区具有多个间隔设置的色阻区及位于相邻所述色阻区之间的间隔区，所述主显示区的色阻区上设置有色阻部，所述感光显示区中除了所述调整间隔区之外的其他间隔区以及所述主显示区的间隔区均设置有遮光部，其中，所述主显示区中色阻部的分布密度与所述感光显示区中色阻部的分布密度相等；和/或所述第二区在第一方向上的相对两侧均设置有所述第一区，每个所述第一区上均形成有所述第一电极，位于所述第二区在第一方向上相对两侧的第一电极与位于所述第二区在第二方向上相对两侧的遮光部围成用于容纳遮光磁性流体的腔体，所述第二方向与所述第一方向相交。5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，在所述第一电极处于断电状态时，所述遮光磁性流体与所述平坦层之间为空腔；在所述第一电极处于通电状态时，所述第二区未被所述遮光磁性流体覆盖的区域与所述平坦层
之间为空腔；或所述调整结构还包括透光流体，在所述第一电极处于断电状态时，所述遮光磁性流体与所述平坦层之间充满所述透光流体；在所述第一电极处于通电状态时，所述第二区未被所述遮光磁性流体覆盖的区域与所述平坦层之间充满所述透光流体。6.根据权利要求2至5中任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述调整结构还包括位于所述第二区且为透明导电体的第二电极，所述第二电极与所述第一电极水平间隔排布，所述第二电极形成在所述衬底上，所述第二电极的厚度小于所述第一电极的厚度，至少部分所述遮光磁性流体填充在所述第二电极与所述平坦层之间；其中，在所述第一电极处于断电状态时，所述第二电极处于通电状态，所述遮光磁流体完全覆盖所述第二电极；在所述第一电极处于通电状态时，所述第二电极处于断电状态。7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一电极为非透明导电体；或所述第一电极为透明导电体，所述第一电极与所述第二电极同层设置。8.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二电极的厚度范围为0.5μm至1μm；和/或所述第一电极与所述第二电极之间的间隙范围为0.5μm至1.5μm；和/或所述第一电极的一部分延伸至所述衬底的非显示区并形成第一转接部，所述第二电极的一部分延伸至所述衬底的非显示区并形成第二转接部，所述第一转接部与所述第二转接部间隔设置且厚度相等。9.一种如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：提供衬底，所述衬底的显示区包括用于与感光元件相对的感光显示区，所述感光显示区具有多个间隔设置的色阻区及位于相邻所述色阻区之间的间隔区，所述感光显示区的至少部分间隔区为调整间隔区，所述调整间隔区包括水平排布的第一区和第二区；在所述调整间隔区上形成电极组，所述电极组至少包括位于所述第一区的第一电极；在未形成有所述电极组的间隔区上形成有遮光部；在所述调整间隔区上形成有遮光磁性流体，所述遮光磁性流体的至少部分位于所述第二区；在所述色阻区上形成色阻部；在所述色阻部、所述遮光部、所述第一电极及所述遮光磁性流体远离所述衬底的一侧形成平坦层，所述平坦层与所述色阻部、所述遮光部、所述第一电极相接触，并与所述遮光磁性流体之间具有间隔。10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，在所述调整间隔区上形成电极组的步骤，包括：在所述调整间隔区的第一区上形成第一电极；在所述调整间隔区的第二区上形成第二电极，所述第二电极与所述第一电极间隔排布。11.根据权利要求9或10所述的制作方法，其特征在于，在所述色阻部、所述遮光部、所述第一电极及所述遮光磁性流体远离所述衬底的一侧形成平坦层的步骤之前，所述制作方法还包括：在所述衬底远离所述遮光磁性流体的一侧
设置磁性驱动件，所述磁性驱动件向所述遮光磁性流体提供磁斥力，以驱动所述遮光磁性流体向远离所述衬底的方向移动，使得所述遮光磁性流体移动至其远离所述衬底的表面与所述第一电极远离所述衬底的表面相平齐，且在所述色阻部、所述遮光部、所述第一电极及所述遮光磁性流体远离所述衬底的一侧形成平坦层的步骤之后，所述制作方法还包括：撤除所述磁性驱动件的磁斥力；或在所述色阻部、所述遮光部、所述第一电极及所述遮光磁性流体远离所述衬底的一侧形成平坦层的步骤之前，所述制作方法还包括在所述遮光磁性流体远离所述衬底的一侧填充透光流体，所述透光流体与所述第一电极远离所述衬底的表面相平齐。12.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1至8中任一项所述的彩膜基板及与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板。13.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求12所述的显示面板及感光元件，所述感光元件设于所述阵列基板背离所述彩膜基板的一侧，并与所述感光显示区对应设置。

技术总结
本公开涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示面板及装置，彩膜基板的感光显示区具有设置有色阻部的色阻区及位于相邻色阻区之间的间隔区，在感光显示区的至少部分间隔区为具有水平排布第一区和第二区的调整间隔区；第一区设置有第一电极，第二区设置有遮光磁性流体，遮光磁性流体的填充厚度小于平坦层和衬底之间的厚度；第一电极具有通电和断电状态，遮光磁性流体用于在第一电极处于断电状态时完全覆盖第二区，遮光磁性流体还用于在第一电极处于通电状态时受到来自第一电极的磁场作用以进行流动，使得第二区的至少部分未被遮光磁性流体覆盖。该方案可提高屏下感光效果。该方案可提高屏下感光效果。该方案可提高屏下感光效果。


技术研发人员：张建英 康报虹
受保护的技术使用者：惠科股份有限公司
技术研发日：2023.04.28
技术公布日：2023/7/27