基板处理装置、基板处理方法以及存储介质与流程

1.本公开涉及一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。


背景技术：

2.在专利文献1中公开了如下一种技术：在对基板涂布涂布液的装置中，在进行基板组的切换时能够快速地转到下一组基板的处理。
3.现有技术文献
4.专利文献
5.专利文献1：日本特开2012-142381号公报


技术实现要素：

6.发明要解决的问题
7.本公开提供一种与针对基板的涂布液的涂布有关的便利性高的基板处理装置。
8.用于解决问题的方案
9.本公开的一个侧面所涉及的基板处理装置具备：旋转保持部，其保持基板并使基板旋转；杯，其以包围被保持于旋转保持部的基板的方式配置；涂布液喷嘴，其构成为能够对基板喷出涂布液；去除液喷嘴，其构成为能够对基板喷出用于去除该基板的周缘部的膜的去除液；喷嘴追踪摄像机，其通过安装于保持涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪涂布液喷嘴的方式移动，所述喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄涂布液喷嘴；以及处理空间用摄像机，其构成为能够拍摄旋转保持部上的处理空间。
10.发明的效果
11.根据本公开，能够提供一种与针对基板的涂布液的涂布有关的便利性高的基板处理装置。
附图说明
12.图1是本实施方式所涉及的抗蚀剂涂布装置的俯视图。
13.图2是示出图1所示的抗蚀剂涂布装置的概要结构的图。
14.图3是图1所示的抗蚀剂涂布装置的纵剖侧视图。
15.图4是图1所示的抗蚀剂涂布装置的纵剖侧视图。
16.图5是图1所示的抗蚀剂涂布装置的纵剖侧视图。
17.图6是说明从多个方向对涂布液喷嘴进行的拍摄的图。
18.图7是示出去除液喷嘴用待机槽和槽摄像机的概要结构的图。
19.图8是例示出控制部的硬件结构的示意图。
20.图9是说明与变形例所涉及的第二待机槽有关的结构的图。
21.图10是说明与变形例所涉及的第二待机槽有关的结构的图。
22.图11是说明与变形例所涉及的第二待机槽有关的结构的图。
23.图12是变形例所涉及的杯拉出构造的立体图。
24.图13是变形例所涉及的抗蚀剂涂布装置的俯视图。
25.图14是图13所示的抗蚀剂涂布装置的纵剖侧视图。
26.图15是示出变形例所涉及的杯更换的动作流程的图。
具体实施方式
27.图1是本实施方式所涉及的抗蚀剂涂布装置1的俯视图。抗蚀剂涂布装置1是对基板实施感光性覆膜的形成、该感光性覆膜的曝光、以及该感光性覆膜的显影的基板处理系统所包括的装置(基板处理装置)。关于作为处理对象的基板，能够列举半导体晶圆、玻璃基板、掩模基板或fpd(flat panel display平板显示器)等。基板也包括在预处理中在半导体晶圆等上形成有覆膜等的基板。抗蚀剂涂布装置1在由基板处理系统所包括的曝光装置(未图示)进行的曝光处理之前，进行在基板的表面形成抗蚀剂膜的处理。更具体地说，抗蚀剂涂布装置1向基板的表面供给用于形成抗蚀剂膜的涂布液来形成上述烘焙前抗蚀剂膜。另外，抗蚀剂涂布装置1在对基板的表面形成烘焙前抗蚀剂膜之后，通过向基板的周缘部供给去除液来去除烘焙前抗蚀剂膜的周缘部。
28.如图1所示，抗蚀剂涂布装置1具备两个涂布处理部1a、1b、喷嘴单元40、第一待机槽80(涂布液喷嘴用待机槽)以及移动机构3。并且，抗蚀剂涂布装置1具备两个去除液喷嘴50a、50b、两个第二待机槽90a、90b(去除液喷嘴用待机槽)、喷嘴追踪摄像机60以及两个处理空间用摄像机70a、70b。并且，抗蚀剂涂布装置1具备两个槽摄像机95a、95b、排气管道110以及控制部7(参照图2)。
29.两个涂布处理部1a、1b以彼此相邻的方式排列配置。涂布处理部1a构成为包括旋转保持盘12a(旋转保持部)和杯21a等。涂布处理部1b构成为包括旋转保持盘12b(旋转保持部)和杯21b等。涂布处理部1a、1b被设为彼此相同的结构，因此，下面，参照图2仅列举涂布处理部1a为例来进行说明。
30.如图2所示，涂布处理部1a具备旋转保持盘12a，该旋转保持盘12a是吸附基板w的背面中央部来将基板w水平地保持、并且使基板w旋转的旋转保持部。旋转保持盘12a经由旋转轴13a来与旋转驱动机构14a连接。旋转保持盘12a构成为经由旋转驱动机构14a以保持基板w的状态绕铅垂轴旋转自如，并被设定为基板w的中心位于其旋转轴上。旋转驱动机构14a接收来自控制部7的控制信号来控制旋转保持盘12a的旋转速度。
31.在旋转保持盘12a的周围以包围旋转保持盘12a上的基板w的方式设置有杯21a，该杯21a在上方侧具备开口部20a。杯21a的侧周面上端侧形成向内侧倾斜的倾斜部22a。在杯21a的底部侧设置有例如呈凹部状的液接收部23a。液接收部23a的靠基板w的周缘下方侧通过隔壁24a被遍及整周地划分为外侧区域和内侧区域。在外侧区域的底部设置有用于将积存的抗蚀剂等排出的排液口25a，在内侧区域的底部设置有用于对处理气氛气体进行排气的排气口26a。
32.在排气口26a连接有排气管道110的一端，排气管道110的另一端经由排气缓冲器来与工厂的排气源(参照图1)连接。像这样，排气管道110与杯21a的排气口26a连接，并且与排气源连接。
33.在杯21a内设置有三根升降销15a(在图2中，方便起见仅示出两根)。升降销15a能
够通过升降机构16a进行升降，由此在向抗蚀剂涂布装置1搬送基板w的未图示的基板搬送机构与旋转保持盘12a之间进行基板w的交接。
34.在此，如图3所示，详细地说，杯21a具有杯基部21y以及可动杯部21x。杯基部21y是支承可动杯部21x的部分。可动杯部21x也能够以取下的状态载置于杯基部21y。可动杯部21x构成为通过杯拉出构造120被拉出。
35.杯拉出构造120具有杯升降机121、构成滑动导轨的第一导轨122和第二导轨123、以及杯定位部125。杯升降机121是通过在上下方向上移动来使滑动导轨和杯定位部125上下移动、从而使保持于滑动导轨的可动杯部21x进行升降的结构。杯定位部125是位于被保持于滑动导轨的可动杯部21x的上方且进行可动杯部21x的定位的结构。第一导轨122和第二导轨123是构成为能够保持可动杯部21x并通过向规定方向(详细地说，作业者区域侧)延伸来将可动杯部21x拉出和推入的滑动导轨。第一导轨122是直接保持可动杯部21x的结构。第二导轨123是保持第一导轨122的结构。杯定位部125具有在处于拉出前的位置(通常位置)的可动杯部21x的外侧周向上与可动杯部21x接触的圆弧状的接触部。除了可动杯部21x，也可以在第一导轨122和第二导轨123设置有能够牢固地固定可动杯部21x的杯固定机构(未图示)。该杯固定机构例如是将第一导轨122与第二导轨相对地固定的机构，可以是闩锁这样的物理方式的固定构件、使用了电磁铁等的基于电气控制的固定构件。在存在该杯固定机构的情况下，在进行推入可动杯部21x的作业时，通过杯定位部的圆弧状的接触来对可动杯大致规定水平方向和高度方向上的位置。而且，在推入后成为使用杯固定机构使可动杯部21x最终固定的状态。也就是说，由与其它构件的干扰导致的破损这样的担心减少，容易推入杯来进行设置。
36.在图4中示出了通过构成滑动导轨的第一导轨122和第二导轨123延伸而将可动杯部21x拉出到作业者区域侧的状态。此外，作业者区域是指俯视时的靠作业者侧的区域(前侧区域)，是进行基板w的搬送处理的区域即搬送区域(后侧区域)的相反侧的区域。如图4所示，在拉出可动杯部21x的情况下，最初，杯升降机121在收纳有可动杯部21x的状态下上升，接下来，第二导轨123向作业者区域侧延伸。并且，通过第一导轨122向作业者区域侧延，来将可动杯部21x拉出到作业者区域侧。像这样，通过第一导轨122和第二导轨123分两个阶段地延伸，能够将可动杯部21x拉出到更近前处(靠作业者区域侧)，从而能够使与可动杯部21x的拉出有关的作业性提高。
37.喷嘴单元40安装于后述的移动机构3的喷嘴臂133的前端部。如图2所示，喷嘴单元40具有多个涂布液喷嘴41，所述多个涂布液喷嘴41构成为能够对基板w喷出多种(例如10种)抗蚀剂。另外，喷嘴单元40具有处理液喷嘴42，所述处理液喷嘴42构成为能够喷出使抗蚀剂容易在基板w上扩散的处理液(例如稀释剂)。涂布液喷嘴41和处理液喷嘴42具有朝向铅垂下方开口的喷出口。从涂布液喷嘴41和处理液喷嘴42喷出的药液通过利用离心力向基板w的周缘部延展的所谓的旋转涂覆而被涂布到基板w的整个表面。
38.如图2所示，涂布液喷嘴41和处理液喷嘴42从药液供给单元43接受药液的供给。药液供给单元43具有抗蚀剂供给机构44，该抗蚀剂供给机构44具备：罐，其用于积存向涂布液喷嘴41供给的药液；以及送液机构，其用于将罐内进行加压并向涂布液喷嘴输送该罐内的药液。抗蚀剂供给机构44设置有与涂布液喷嘴41相同的数量。另外，药液供给单元43具有稀释剂供给机构6，该稀释剂供给机构6具备：罐，其用于积存向处理液喷嘴42供给的药液；以
及送液机构，其用于将罐内进行加压并向处理液喷嘴42输送该罐内的药液。
39.以如下方式设置有药液供给线路45：该供给线路45将涂布液喷嘴41与抗蚀剂供给机构44连接，并且将处理液喷嘴42与稀释剂供给机构6连接。在药液供给线路45中设置有包括阀46的流量控制部47。通过根据来自控制部7的控制信号对各阀46进行开闭控制，来向基板w切换地供给各种抗蚀剂和稀释剂。
40.在涂布液喷嘴41和处理液喷嘴42的一次侧，在喷嘴头34内从喷出侧起按照喷出阀v、回吸阀sv的顺序串联设置有喷出阀v和回吸阀sv。喷出阀v和回吸阀sv例如以空气压为动力进行动作。喷出阀v在各药液供给线路45与各涂布液喷嘴41及处理液喷嘴42之间利用空气压进行流路的开闭。回吸阀sv能够通过利用空气压进行动作的活塞机构来调整容积和药液压力。
41.此外，如图3所示，在比喷嘴臂133靠作业者区域侧设置有涂布液喷嘴41用的配管缠绕线缆裸区域(日语：配管這
いまわしケーブルベア
領域)160和辅机搭载区域150。在辅机搭载区域150配置有供给系统用阀、小型电气件。
42.在共用一个排气源来对多个处理空间进行排气的情况下，特别是考虑到排气性能，排气管道110需要一定程度的截面积。如果排气管道110相对于杯在与喷嘴的移动机构3相同的一侧沿水平方向排列配置，则存在以下问题：杯拉出构造120进行杯拉出所需要的行程延伸，需要该机构本身的大型化、进一步的强度改善设计。当将排气管道110与喷嘴的移动机构或者辅机搭载区域150在纵向上排列配置时，由于干扰或接近杯拉出所需要的路径，会导致损害杯拉出的作业性。这是在使内部空间紧凑而难以通过手动作业直接维护其内部的基板处理装置中为了使所需要的作业成立而想要极力避免的问题。也就是说，在本基板处理装置中，通过在隔着杯21a与喷嘴的移动机构3相反的一侧配置有排气管道110，来消除上述这样的问题。
43.如图1和图5所示，第一待机槽80是设置于包括涂布液喷嘴41的喷嘴单元40的待机区域的待机用的槽。第一待机槽80例如设置于两个涂布处理部1a、1b之间的区域(参照图1)。如图5所示，第一待机槽80的上表面的高度与被收纳的状态的可动杯部21x的上表面的高度大致相同或者比被收纳的状态的可动杯部21x的上表面的高度稍微高。另外，第一待机槽80的上表面的高度低于两个杯21a、21b间的喷嘴单元40的移动路径的高度。由此，能够缩短喷嘴单元40的升降行程，从而能够抑制抗蚀剂涂布装置1的高度方向的空间。
44.移动机构3是保持喷嘴单元40并使喷嘴单元40移动的结构。如图1所示，移动机构3具有喷嘴移动轴131、喷嘴驱动部132、喷嘴臂133以及水平移动部134。
45.喷嘴臂133是保持包括涂布液喷嘴41的喷嘴单元40的保持构件。喷嘴臂133在其前端保持有喷嘴单元40。如图3等所示，喷嘴臂133被设为能够通过气缸/马达等在上下方向上进行升降。水平移动部134设置于喷嘴臂133的基端，构成为能够沿喷嘴移动轴131进行水平移动。喷嘴移动轴131在作业者区域侧沿两个涂布处理部1a、1b的排列方向延伸。喷嘴移动轴131通过对水平移动部134的水平移动进行引导，来对从该水平移动部134延伸的喷嘴臂133的移动进行引导。喷嘴驱动部132例如是马达等，使水平移动部134沿喷嘴移动轴131移动。喷嘴驱动部132根据来自控制部7的控制信号来控制水平移动部134的移动。
46.如图1所示，喷嘴移动轴131如上述那样配置于作业者区域侧，与此相对地，排气管道110配置于作业者区域的相反侧的搬送区域侧。即，排气管道110和喷嘴移动轴131分开配
置于搬送区域侧和作业者区域侧。由此，能够抑制抗蚀剂涂布装置1的高度方向的空间。此外，排气管道110和喷嘴移动轴131的位置关系也可以是彼此相反。即，排气管道110配置于作业者区域侧和搬送区域侧中的一方、且喷嘴移动轴131配置于作业者区域侧和搬送区域侧中的另一方即可。另外，排气管道110不限于图1所示的结构，例如也可以是，在搬送侧区域从与杯21a、21b各自的中央相向的位置处分支并朝向各杯延伸的管道分支部(未图示)与各杯的排气口26a连接。另外，也可以是，在一个杯设置有多个该排气口26a，以与该排气口26a的个数相对应的方式从管道分支部进一步分支出的部分与多个排气口26a分别连接。
47.如图1所示，喷嘴追踪摄像机60为以如下方式构成的摄像机：通过安装于喷嘴臂133来以追踪包括涂布液喷嘴41的喷嘴单元40的方式移动，从而能够拍摄涂布液喷嘴41和处理液喷嘴42。此外，在喷嘴臂133的前端设置有喷嘴追踪摄像机60用的照明61(参照图3)。喷嘴追踪摄像机60构成为能够拍摄与涂布液喷嘴41及处理液喷嘴42相对于第一待机槽80的位置有关的信息，并且构成为能够拍摄与涂布液喷嘴41及处理液喷嘴42的液体行为有关的信息。喷嘴追踪摄像机60也可以具有液体透镜，该液体透镜能够使焦点对准作为喷嘴单元40一体地移动的涂布液喷嘴41和处理液喷嘴42这两方。
48.如图1所示，处理空间用摄像机70a是设置于搬送区域侧且构成为能够拍摄旋转保持盘12a上的处理空间的摄像机。如图1所示，处理空间用摄像机70b是设置于搬送区域侧且构成为能够拍摄旋转保持盘12b上的处理空间的摄像机。
49.在此，在本实施方式所涉及的抗蚀剂涂布装置1中，在涂布液喷嘴41等喷嘴的定心调整中，使用由喷嘴追踪摄像机60拍摄得到的信息以及由处理空间用摄像机70a(或者处理空间用摄像机70b)拍摄得到的信息。在图6所示的例子中，喷嘴追踪摄像机60拍摄包括涂布液喷嘴41的喷嘴单元40，来作为与涂布液喷嘴41相对于旋转保持盘12a的定心有关的信息。另外，处理空间用摄像机70a从与喷嘴追踪摄像机60不同的角度拍摄包括涂布液喷嘴41的喷嘴单元40，来作为与涂布液喷嘴41相对于旋转保持盘12a的定心有关的信息。该情况下的拍摄角度的差例如可以被设为90度左右。像这样，通过喷嘴追踪摄像机60和处理空间用摄像机70a来从互不相同的角度拍摄涂布液喷嘴41，由此能够高精度地以三维的方式对涂布液喷嘴41进行定心调整。此外，俯视观察时，处理空间用摄像机70a、70b设置于从将作为拍摄对象喷嘴的涂布液喷嘴41与照明61连结的直线上偏离的位置。另外，如图1和图3所示，在抗蚀剂涂布装置1内以与相邻的涂布处理部1a、1b分别对应的方式设置的处理空间用摄像机70a、70b比喷嘴追踪摄像机60靠上方。处理空间用摄像机70a、70b设置于从杯21a、21b沿横向偏移的位置(杯的外侧的位置)。处理空间用摄像机70a、70b分别从上述的位置以斜下方向的视野对存在于对应的涂布处理部的基板进行拍摄。由于比喷嘴追踪摄像机60靠上方处于对应的杯21a或21b的外侧的位置，因此容易降低由处理引起的液体飞溅、由挥发后的液体的结露等引起的液体的附着的风险且容易配置在狭小的空间内。另外，能够使抗蚀剂涂布装置1紧凑。另外，处理空间用摄像机70a、70b位于基板上方位置时的针对涂布液喷嘴41的摄像视野与喷嘴追踪摄像机60的该摄像视野相比在铅垂方向面(例如在图3中进行观察时的面)内为不同的方向。因此，在利用双方的摄像机大致水平地进行拍摄的情况相比，容易捕捉涂布液喷嘴41的三维的位置/姿势的变化。也就是说，能够高精度地实施上述的定心调整。
50.上述的喷嘴的定心调整通过包括以下的第一工序～第三工序的基板处理方法来
实现。在第一工序中，通过喷嘴追踪摄像机60来从第一方向拍摄涂布液喷嘴41。在第二工序中，通过处理空间用摄像机70a(或者处理空间用摄像机70b)来从与第一方向不同的第二方向拍摄涂布液喷嘴41。在第三工序中，基于喷嘴追踪摄像机60的拍摄结果和处理空间用摄像机70a(或者处理空间用摄像机70b)的拍摄结果，来进行涂布液喷嘴41的定心调整。此外，也可以通过控制部7输出控制信号来自动进行第三工序。
51.如图1所示，去除液喷嘴50a、50b是构成为能够对基板w喷出用于去除基板w的周缘部的膜的去除液的喷嘴。去除液喷嘴50a与涂布处理部1a相对应地设置。去除液喷嘴50b与涂布处理部1b相对应地设置。
52.如图1所示，第二待机槽90a是设置于去除液喷嘴50a的待机区间的、去除液喷嘴50a的待机用的槽。第二待机槽90b是设置于去除液喷嘴50b的待机区间的、去除液喷嘴50b的待机用的槽。此外，去除液喷嘴50a的待机区间与向基板w喷出去除液的位置之间的移动不限于如图1的箭头所示的旋转移动，例如也可以设置用于进行直线移动的去除液喷嘴移动机构。另外，也可以是，去除液喷嘴移动机构能够进行升降移动。
53.如图1所示，槽摄像机95a是构成为能够拍摄位于第二待机槽90a的去除液喷嘴50a的摄像机。槽摄像机95b是构成为能够拍摄位于第二待机槽90b的去除液喷嘴50b的摄像机。
54.参照图7来说明第二待机槽90a和槽摄像机95a。此外，在图7中仅示出了第二待机槽90a和槽摄像机95a，但是第二待机槽90b与第二待机槽90a是同样的，槽摄像机95b与槽摄像机95a是同样的。
55.如图7所示，第二待机槽90a形成为大致长方体形状。第二待机槽90a的上表面部分被设为开口，能够从该开口放入和取出去除液喷嘴50a。在第二待机槽90a中的与杯21a相向的面设置有采光用的窗97。另外，在第二待机槽90a中的与窗97相向的面设置有槽摄像机95a。即，槽摄像机95a设置于第二待机槽90a中的不与杯21a相向的区域。在设置有槽摄像机95a的面设置有摄像机用的窗96。此外，在槽摄像机95a设置有用于防止液体覆盖和反射的盖。
56.也可以是，第二待机槽90a的除窗96、97以外的区域由黑面形成。另外，也可以是，第二待机槽90a的整面或一部分由镜面形成。
57.控制部7控制抗蚀剂涂布装置1的各结构。控制部7由一个或多个控制用计算机构成。如图8所示，控制部7具有电路190。电路190包括至少一个处理器191、存储器192、存储装置193、输入输出端口194、输入设备195以及显示设备196。
58.存储装置193例如具有硬盘等可由计算机读取的存储介质。存储装置193存储有用于使控制部7执行基板处理装置的信息处理方法的程序。
59.存储器192暂时存储从存储装置193的存储介质下载的程序和处理器191的运算结果。处理器191通过与存储器192协同执行上述程序，来构成上述的各功能模块。输入输出端口194根据来自处理器191的指令来与各结构之间进行电信号的输入和输出。
60.输入设备195和显示设备196作为控制部7的用户接口发挥功能。输入设备195例如是键盘等，用于获取用户的输入信息。显示设备196例如包括液晶监视器等，用于针对用户显示信息。输入设备195和显示设备196也可以一体化为所谓的触摸面板。
61.接着，说明本实施方式所涉及的抗蚀剂涂布装置1的作用效果。
62.本实施方式所涉及的抗蚀剂涂布装置1具备：旋转保持盘12a，其保持基板w并使基
板w旋转；杯21a，其以包围被保持于旋转保持盘12a的基板w的方式配置；以及涂布液喷嘴41，其构成为能够对基板w喷出涂布液。另外，抗蚀剂涂布装置1具备去除液喷嘴50a和喷嘴追踪摄像机60，所述喷嘴追踪摄像机60通过安装于保持涂布液喷嘴41的喷嘴臂133来以追踪涂布液喷嘴41的方式移动，所述喷嘴追踪摄像机60构成为能够拍摄涂布液喷嘴41。并且，抗蚀剂涂布装置1具备处理空间用摄像机，该处理空间用摄像机构成为能够拍摄旋转保持盘12a上的处理空间。
63.在本实施方式所涉及的抗蚀剂涂布装置1中设置有：喷嘴追踪摄像机60，其构成为能够拍摄涂布液喷嘴41；以及处理空间用摄像机70a，其构成为能够拍摄旋转保持盘12a上的处理空间。根据这样的结构，能够适当地实施与涂布液喷嘴41有关的动作监视以及与处理空间有关的动作监视。而且，能够基于动作监视结果适当地实施各种硬调整、维护。如以上那样，根据本实施方式所涉及的抗蚀剂涂布装置1，能够使与涂布处理有关的便利性提高。
64.本抗蚀剂涂布装置1还具备：排气管道110，其与杯21a的排气口26a连接并且与排气源连接；以及喷嘴移动轴131，其对保持涂布液喷嘴41的喷嘴臂133的移动进行引导。而且，排气管道110配置于搬送区域侧，喷嘴移动轴131配置于作业者区域侧。像这样，通过将排气管道110和喷嘴移动轴131分开配置于搬送区域侧和作业者区域侧，能够使抗蚀剂涂布装置1的高度变低。通过使抗蚀剂涂布装置1成为薄型，能够搭载多个抗蚀剂涂布装置1，从而能够实现高效的事务处理。
65.本抗蚀剂涂布装置1具有：第一导轨122，其保持可动杯部21x；以及第二导轨123，其保持该第一导轨122。而且，在抗蚀剂涂布装置1中，通过第二导轨123向规定方向延伸，进一步地第一导轨122向规定方向延伸，来将可动杯部21x拉出。通过像这样第一导轨122和第二导轨123分两个阶段地延伸，能够将可动杯部21x拉出到更近前处，从而能够使与可动杯部21x的拉出有关的作业性提高。
66.本抗蚀剂涂布装置1还具备第一待机槽80，该第一待机槽80设置于涂布液喷嘴41的待机区域。而且，喷嘴追踪摄像机60构成为能够拍摄与涂布液喷嘴41相对于第一待机槽80的位置有关的信息，并且构成为能够拍摄与涂布液喷嘴41的液体行为有关的信息。根据这样的结构，通过喷嘴追踪摄像机60来识别第一待机槽80中的涂布液喷嘴41的位置，并且识别涂布液喷嘴41的液体行为。这样，通过喷嘴追踪摄像机60不仅监视涂布液喷嘴41的位置，也监视液体行为，由此能够更适当地实施与涂布液喷嘴41有关的动作监视。
67.本抗蚀剂涂布装置1还具备：第二待机槽90a，其设置于去除液喷嘴50a的待机区域；以及槽摄像机95a，其构成为能够拍摄位于第二待机槽90a的去除液喷嘴50a。而且，槽摄像机95a在第二待机槽90a处设置于不与杯21a相向的区域。根据这样的结构，能够通过槽摄像机95a适当地实施第二待机槽90a中的去除液喷嘴50a的动作监视。而且，通过将槽摄像机95a设置于不与杯21a相向的区域，能够抑制从杯21a飞散的液体等的影响，并且能够利用槽摄像机95a适当地拍摄去除液喷嘴50a。
68.也可以是，第二待机槽90a的整面或一部分由镜面形成。根据这样的结构，能够使光反射来使槽摄像机95a的拍摄性提高。
69.也可以是，第二待机槽90a的除窗96、97以外的区域由黑面形成。根据这样的结构，能够抑制不需要的光的反射来使槽摄像机95a的摄像性能提高。
70.喷嘴追踪摄像机60构成为能够拍摄涂布液喷嘴41，来作为与涂布液喷嘴41相对于旋转保持盘12a的定心有关的信息。处理空间用摄像机70a构成为能够从与喷嘴追踪摄像机60不同的角度拍摄涂布液喷嘴41，来作为与涂布液喷嘴41的定心有关的信息。根据这样的结构，能够从互不相同的角度拍摄涂布液喷嘴41，从而能够实现涂布液喷嘴41的三维的定心。
71.本抗蚀剂涂布装置1还具备处理液喷嘴42，该处理液喷嘴42构成为与涂布液喷嘴41一起安装于喷嘴臂133且能够对基板w喷出使涂布液容易扩散的处理液。喷嘴追踪摄像机60也可以具有液体透镜，该液体透镜能够使焦点对准一体地移动的涂布液喷嘴41和处理液喷嘴42这两方。通过使用具有能够使焦点对准一体地移动的涂布液喷嘴41和处理液喷嘴42这两方的液体透镜的喷嘴追踪摄像机60，能够更适当地实施对涂布液喷嘴41和处理液喷嘴42的动作监视。
72.本公开不限于上述实施方式。例如，作为去除液喷嘴50b的待机用的槽，说明了第二待机槽90a，但是与该第二待机槽90a有关的结构不限于上述实施。图9～图11是说明与变形例所涉及的第二待机槽90a有关的结构的图。在图9～图11中示出了相互交叉的三个方向即x方向、y方向、z方向。x方向是俯视时的两个涂布处理部相邻的方向，y方向是俯视时的与x方向交叉的方向，z方向是上下方向(高度方向)。图9是示意性地示出第二待机槽90a的xz截面的图，图10是示意性地示出第二待机槽90a的xy截面的图，图11是示意性地示出第二待机槽90a的yz截面的图。
73.在图9～图11所示的结构中，作为与第二待机槽90a有关的结构，还设置有照明部210。照明部210是向位于第二待机槽90a的去除液喷嘴50b方向照射光的照明。照明部210可以构成为包括例如led(light emitting diode：发光二极管)照明。照明部210以与槽摄像机95a之间隔着第二待机槽90a的方式设置于槽摄像机95a的相反侧。通过以这样的配置来设置照明部210和槽摄像机95a，照明部210设置于比第二待机槽90a靠上方的位置，从上方向去除液喷嘴50b照射光。如图10和图11所示，照明部210沿第二待机槽90a的长边方向即y方向设置。照明部210设置于第二待机槽90a中的上部的开口部分的大致整个区域(y方向上的大致整个区域)。由此，能够利用从照明部210照射的光明确地确认第二待机槽90a的内部的整个区域。根据这样的结构，对于如图10和图11所示那样的喷嘴多系统化的结构也能够适当地应对。
74.此外，也可以是，至少将第二待机槽90a中的与槽摄像机95a相向的面设为被实施了黑色表面处理的面。另外，也可以是，第二待机槽90a的各表面的表面粗糙度被设为镜面精加工。由此，能够以高对比度清晰地确认第二待机槽90a内想视觉确认的对象。另外，槽摄像机95a也可以配置为能够从与去除液喷嘴50b的喷出方向交叉的方向进行拍摄。即，如图9所示那样，例如也能够以从与z方向交叉的x方向侧监视从去除液喷嘴50b向z方向喷出的液柱的方式配置槽摄像机95a。
75.另外，杯拉出构造不限于上述的杯拉出构造120的结构，例如也可以是图12所示的变形例所涉及的杯拉出构造420。图12是变形例所涉及的杯拉出构造420的立体图。杯拉出构造420具备杯升降机421、构成滑动导轨的第一导轨422及第二导轨423、杯载置部430、液接收部440以及止挡件450。另外，杯拉出构造420具备拉出时锁定磁体460、收纳时锁定磁体470以及杯阻挡件480。
76.杯升降机421、第一导轨422以及第二导轨423分别与上述的杯拉出构造120的杯升降机121、第一导轨122以及第二导轨123为同样的结构。通过第一导轨422和第二导轨423拉出杯21a的拉出量例如可以设为450mm左右。杯载置部430是以架设于一对第一导轨422之间的方式延伸的部分，是载置可动杯部21x的一部分的部分。在杯载置部430的宽度方向上的中央部形成有沿上下方向贯通的贯通孔430x。在该贯通孔430x中插入杯21a的杯侧排放配管601(参照图15的(b)等)。杯侧排放配管601(参照图15的(b)等)为与杯21a的排液口25a(参照图2)连接的配管，且为从杯21a的下端向下方延伸配管。
77.液接收部440设置于杯载置部430的宽度方向上的中央部，是盖住杯侧排放配管601的排放盘。止挡件450是通过与液接收部440接触来使液接收部440移位的结构。参照图15在后文中叙述液接收部440和止挡件450的详情。
78.拉出时锁定磁体460设置于杯载置部430的前端(作业者区域侧的端部)，是在杯21a被拉出时将杯21a拉近并锁定来使杯21a容易载置于杯载置部430的结构。收纳时锁定磁体470设置于杯升降机421的附近，是在杯21a被收纳时将杯21a拉近并锁定的结构。杯阻挡件480设置于杯升降机421的上方，是从上方阻挡杯21a来进行杯21a的定位的结构。除此以外，杯拉出构造420也可以具备探测基于杯升降机121的杯21a的升降状态的升降传感器、探测基于第一导轨422和第二导轨423的杯21a的拉出状态的拉出传感器等。
79.如图13和图14所示，例如在具备上述的杯拉出构造420的结构中还可以具备排放管300。图13是变形例所涉及的抗蚀剂涂布装置1x的俯视图。图14是图13所示的抗蚀剂涂布装置1x的纵剖侧视图。排放管300是与杯侧排放配管601(参照图15的(b)等)连接(即、与杯21a的排液口25a(参照图2)连接)的管。排放管300具备与杯侧排放配管601(参照图15的(b)等)连接的、与两个涂布处理部1a、1b相对应的连接管302、302以及将连接管302、302间连接的配管301。
80.如图14所示，排放管300构成为垂直截面的面积比排气管道110的垂直截面的面积小且高度比排气管道110的高度低。而且，如图13所示，俯视观察时，排放管300配置于作业者区域和搬送区域内的、配置有排气管道110的区域的相反侧(另一方侧)。在图13所示的例子中，排气管道110设置于搬送区域侧，排放管300设置于作业区域侧。像这样，通过使排放管300的高度变低，如上所述，能够将排放管300和排气管道110分开配置于作业者区域和搬送区域。由此，例如与在相同区域上以与排气管道110重叠的方式配置排放管300的结构相比较，能够实现在高度方向上小型化的结构。
81.图15是示出上述的变形例所涉及的杯拉出构造420和排放管300中的杯更换的动作流程的图。如图15的(a)等所示，杯拉出构造420的液接收部440具有盖部441和手柄部442。盖部441是构成为能够以从杯侧排放配管601(排液口)的下方盖住杯侧排放配管601的方式配置的结构。手柄部442是以与盖部441连接的方式与盖部441一体地设置的结构。液接收部440构成为能够通过对手柄部442施加力来以规定的部位为旋转轴进行旋转动作。在液接收部440，通过对手柄部442朝向下方施加力来使液接收部440向上方移位，从而如图15的(c)所示，液接收部440盖住杯侧排放配管601。另外，在液接收部440，手柄部442与止挡件450的上部接触来对手柄部442朝向上方施加力，由此液接收部440向下方移位，来将液接收部440从杯侧排放配管601取下。像这样，止挡件450在为了将杯侧排放配管601与排放管300的连接管302连接而使杯21a移动时与手柄部442接触。由此，液接收部440旋转，从而将安装
于杯侧排放配管601的盖部441从杯侧排放配管601取下。
82.参照图15的(a)～图15的(f)来说明这样的动作。图15的(a)示出了杯21a被收纳且杯侧排放配管601与排放管300的连接管302进行了连接的状态。当在该状态下进行例如杯更换的情况下，能够向上方提起杯21a(参照图15的(b))。
83.然后，如图15的(c)所示，在为了更换杯而向作业者区域侧拉出杯21a之前的状态下，对液接收部440的手柄部442朝向下方施加力。由此，盖部441朝向上方旋转，盖部441盖住杯侧排放配管601。
84.然后，当如图15的(d)所示那样杯21a的更换完成时，如图15的(e)所示，为了将杯侧排放配管601与排放管300的连接管302连接，使杯21a向下方移动。在该情况下，如图15的(e)所示，通过止挡件450的上部与手柄部442接触，液接收部440旋转，从而将安装于杯侧排放配管601的盖部441从杯侧排放配管601取下。然后，如图15的(f)所示，通过使杯21a进一步朝向下方移动，来将取下盖部441后的杯侧排放配管601与排放管300的连接管302连接。
85.根据这样的结构，在使杯21a向下方移动的动作中，通过止挡件450自动地将盖部441从杯侧排放配管601取下。由此，能够容易且可靠地进行杯侧排放配管601与排放管300的连接管302的连接。
86.最后，在以下的[e1]～[e14]中记载本公开所包含的各种示例性的实施方式。
[0087]
[e1]
[0088]
一种基板处理装置，其特征在于，具备：
[0089]
旋转保持部，其保持基板并使所述基板旋转；
[0090]
杯，其以包围被保持于所述旋转保持部的所述基板的方式配置；
[0091]
涂布液喷嘴，其构成为能够对所述基板喷出涂布液；
[0092]
去除液喷嘴，其构成为能够对所述基板喷出用于去除该基板的周缘部的膜的去除液；
[0093]
喷嘴追踪摄像机，其通过安装于保持所述涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪所述涂布液喷嘴的方式移动，所述喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄所述涂布液喷嘴；以及
[0094]
处理空间用摄像机，其构成为能够拍摄所述旋转保持部上的处理空间。
[0095]
[e2]
[0096]
根据[e1]所记载的基板处理装置，还具备：
[0097]
排气管道，其与所述杯的排气口连接并且与排气源连接；以及
[0098]
喷嘴移动轴，其对保持所述涂布液喷嘴的所述喷嘴臂的移动进行引导，
[0099]
其中，将俯视观察时的作业者侧的区域设为前侧区域、将该前侧区域的相反侧的区域且进行搬送处理的区域设为后侧区域。在该情况下，所述排气管道配置于所述前侧区域和所述后侧区域中的一个区域侧，所述喷嘴移动轴配置于所述前侧区域和所述后侧区域中的另一个区域侧。
[0100]
[e3]
[0101]
根据[e1]或[e2]所记载的基板处理装置，
[0102]
还具备滑动导轨，该滑动导轨构成为能够保持所述杯并通过向规定方向延伸来将所述杯拉出，
[0103]
所述滑动导轨具有保持所述杯的第一导轨以及保持该第一导轨的第二导轨，
[0104]
通过所述第二导轨向所述规定方向延伸，进一步地所述第一导轨向所述规定方向延伸，来将所述杯拉出。
[0105]
[e4]
[0106]
根据[e1]～[e3]中的任一项所记载的基板处理装置，
[0107]
还具备涂布液喷嘴用待机槽，所述涂布液喷嘴用待机槽设置于所述涂布液喷嘴的待机区域，
[0108]
所述喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄与所述涂布液喷嘴相对于所述涂布液喷嘴用待机槽的位置有关的信息，并且构成为能够拍摄与所述涂布液喷嘴的液体行为有关的信息。
[0109]
[e5]
[0110]
根据[e1]～[e4]中的任一项所记载的基板处理装置，还具备：
[0111]
去除液喷嘴用待机槽，其设置于所述去除液喷嘴的待机区域；以及
[0112]
槽摄像机，其构成为能够拍摄位于所述去除液喷嘴用待机槽的所述去除液喷嘴，
[0113]
其中，所述槽摄像机在所述去除液喷嘴用待机槽处设置于不与所述杯相向的区域。
[0114]
[e6]
[0115]
根据[e5]所记载的基板处理装置，
[0116]
所述去除液喷嘴用待机槽的整面或一部分由镜面形成。
[0117]
[e7]
[0118]
根据[e5]所记载的基板处理装置，
[0119]
所述去除液喷嘴用待机槽的采光用的窗以外的区域由黑面形成。
[0120]
[e8]
[0121]
根据[e1]～[e7]中的任一项所记载的基板处理装置，
[0122]
所述喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄所述涂布液喷嘴，来作为与所述涂布液喷嘴相对于所述旋转保持部的定心有关的信息，所述处理空间用摄像机构成为能够从与所述喷嘴追踪摄像机不同的角度拍摄所述涂布液喷嘴，来作为与所述涂布液喷嘴相对于所述旋转保持部的定心有关的信息。
[0123]
[e9]
[0124]
根据[e1]～[e8]中的任一项所记载的基板处理装置，
[0125]
还具备处理液喷嘴，该处理液喷嘴构成为与所述涂布液喷嘴一起安装于所述喷嘴臂且能够对所述基板喷出使所述涂布液容易扩散的处理液，
[0126]
所述喷嘴追踪摄像机具有液体透镜，该液体透镜能够使焦点对准一体地移动的所述涂布液喷嘴和所述处理液喷嘴这两方。
[0127]
[e10]
[0128]
根据[e2]所记载的基板处理装置，
[0129]
还具备与所述杯的排液口连接的排放管，
[0130]
所述排放管构成为高度比所述排气管道的高度低，并且配置于所述另一个区域侧。
[0131]
[e11]
[0132]
根据[e10]所记载的基板处理装置，
[0133]
还具备液接收部，所述液接收部具有盖部和手柄部，所述盖部构成为能够以盖住所述排液口的方式配置，所述手柄部与所述盖部连接。另外，还具备止挡件，在为了将所述排液口与所述排放管连接而使所述杯移动时，所述止挡件通过与所述手柄部接触来将安装于所述排液口的所述盖部从所述排液口取下。
[0134]
[e12]
[0135]
根据[e5]～[e7]中的任一项所记载的基板处理装置，
[0136]
还具备照明部，所述照明部向位于所述去除液喷嘴用待机槽的所述去除液喷嘴方向照射光，
[0137]
所述照明部以在该照明部与所述槽摄像机之间隔着所述去除液喷嘴用待机槽的方式配置于所述槽摄像机的相反侧。
[0138]
[e13]
[0139]
一种基板处理方法，是使用基板处理装置实施的基板处理方法，所述基板处理装置具备旋转保持部、涂布液喷嘴、喷嘴追踪摄像机以及处理空间用摄像机，所述基板处理方法包括：
[0140]
第一工序，通过所述喷嘴追踪摄像机从第一方向拍摄所述涂布液喷嘴；
[0141]
第二工序，通过所述处理空间用摄像机从与所述第一方向不同的第二方向拍摄所述涂布液喷嘴；以及
[0142]
第三工序，基于所述喷嘴追踪摄像机的拍摄结果和所述处理空间用摄像机的拍摄结果，来进行所述涂布液喷嘴相对于所述旋转保持部的定心调整。
[0143]
[e14]
[0144]
一种计算机可读存储介质，存储有用于使装置执行根据[e13]所记载的基板处理方法的程序。
[0145]
附图标记说明
[0146]
1：抗蚀剂涂布装置(基板处理装置)；12a、12b：旋转保持盘(旋转保持部)；21a、21b：杯；26a：排气口；41：涂布液喷嘴；42：处理液喷嘴；50a、50b：去除液喷嘴；60：喷嘴追踪摄像机；70a、70b：处理空间用摄像机；80：第一待机槽(涂布液喷嘴用待机槽)；90a、90b：第二待机槽(去除液喷嘴用待机槽)；95a、95b：槽摄像机；110：排气管道；122：第一导轨；123：第二导轨；131：喷嘴移动轴；133：喷嘴臂；210：照明部；300：排放管；440：液体接收部；441：盖部；442：手柄部；450：止挡件；601：杯侧排放配管；w：基板。

技术特征：
1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：旋转保持部，其保持基板并使所述基板旋转；杯，其以包围被保持于所述旋转保持部的所述基板的方式配置；涂布液喷嘴，其构成为能够对所述基板喷出涂布液；去除液喷嘴，其构成为能够对所述基板喷出用于去除该基板的周缘部的膜的去除液；喷嘴追踪摄像机，其通过安装于保持所述涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪所述涂布液喷嘴的方式移动，所述喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄所述涂布液喷嘴；以及处理空间用摄像机，其构成为能够拍摄所述旋转保持部上的处理空间。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：排气管道，其与所述杯的排气口连接并且与排气源连接；以及喷嘴移动轴，其对保持所述涂布液喷嘴的所述喷嘴臂的移动进行引导，其中，在将俯视观察时的作业者侧的区域设为前侧区域、将该前侧区域的相反侧的区域且进行搬送处理的区域设为后侧区域的情况下，所述排气管道配置于所述前侧区域和所述后侧区域中的一个区域侧，所述喷嘴移动轴配置于所述前侧区域和所述后侧区域中的另一个区域侧。3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，还具备滑动导轨，该滑动导轨构成为能够保持所述杯并通过向规定方向延伸来将所述杯拉出，所述滑动导轨具有保持所述杯的第一导轨以及保持该第一导轨的第二导轨，通过所述第二导轨向所述规定方向延伸，进一步地所述第一导轨向所述规定方向延伸，来将所述杯拉出。4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，还具备涂布液喷嘴用待机槽，所述涂布液喷嘴用待机槽设置于所述涂布液喷嘴的待机区域，所述喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄与所述涂布液喷嘴相对于所述涂布液喷嘴用待机槽的位置有关的信息，并且构成为能够拍摄与所述涂布液喷嘴的液体行为有关的信息。5.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：去除液喷嘴用待机槽，其设置于所述去除液喷嘴的待机区域；以及槽摄像机，其构成为能够拍摄位于所述去除液喷嘴用待机槽的所述去除液喷嘴，其中，所述槽摄像机在所述去除液喷嘴用待机槽处设置于不与所述杯相向的区域。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述去除液喷嘴用待机槽的整面或一部分由镜面形成。7.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述去除液喷嘴用待机槽的采光用的窗以外的区域由黑面形成。8.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，所述喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄所述涂布液喷嘴，来作为与所述涂布液喷嘴相对于所述旋转保持部的定心有关的信息，所述处理空间用摄像机构成为能够从与所述喷嘴追踪摄像机不同的角度拍摄所述涂布液喷嘴，来作为与所述涂布液喷嘴相对于所述旋转保持部的定心有关的信息。
9.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，还具备处理液喷嘴，该处理液喷嘴构成为与所述涂布液喷嘴一起安装于所述喷嘴臂且能够对所述基板喷出使所述涂布液容易扩散的处理液，所述喷嘴追踪摄像机具有液体透镜，该液体透镜能够使焦点对准一体地移动的所述涂布液喷嘴和所述处理液喷嘴这两方。10.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，还具备与所述杯的排液口连接的排放管，所述排放管构成为高度比所述排气管道的高度低，并且配置于所述另一个区域侧。11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：液接收部，其具有盖部和手柄部，所述盖部构成为能够以盖住所述排液口的方式配置，所述手柄部与所述盖部连接；以及止挡件，在为了将所述排液口与所述排放管连接而使所述杯移动时，所述止挡件通过与所述手柄部接触来使所述液接收部旋转，从而将安装于所述排液口的所述盖部从所述排液口取下。12.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，还具备照明部，所述照明部向位于所述去除液喷嘴用待机槽的所述去除液喷嘴方向照射光，所述照明部以在该照明部与所述槽摄像机之间隔着所述去除液喷嘴用待机槽的方式配置于所述槽摄像机的相反侧。13.一种基板处理方法，是使用基板处理装置实施的基板处理方法，所述基板处理装置具备：旋转保持部，其保持基板并使所述基板旋转；涂布液喷嘴，其构成为能够对所述基板喷出涂布液；喷嘴追踪摄像机，其通过安装于保持所述涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪所述涂布液喷嘴的方式移动，所述喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄所述涂布液喷嘴；以及处理空间用摄像机，其构成为能够拍摄所述旋转保持部上的处理空间，所述基板处理方法的特征在于，包括：第一工序，通过所述喷嘴追踪摄像机从第一方向拍摄所述涂布液喷嘴；第二工序，通过所述处理空间用摄像机从与所述第一方向不同的第二方向拍摄所述涂布液喷嘴；以及第三工序，基于所述喷嘴追踪摄像机的拍摄结果和所述处理空间用摄像机的拍摄结果，来进行所述涂布液喷嘴相对于所述旋转保持部的定心调整。14.一种计算机可读存储介质，存储有用于使装置执行根据权利要求13所述的基板处理方法的程序。

技术总结
本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及存储介质。该基板处理装置是与对基板进行涂布液的涂布有关的便利性高的基板处理装置。抗蚀剂涂布装置具备：旋转保持盘，其保持基板来使基板旋转；杯，其以包围被保持于旋转保持盘的基板的方式配置；以及涂布液喷嘴，其构成为能够对基板喷出涂布液。另外，抗蚀剂涂布装置具备去除液喷嘴和喷嘴追踪摄像机，该喷嘴追踪摄像机通过安装于保持涂布液喷嘴的喷嘴臂来以追踪涂布液喷嘴的方式移动，该喷嘴追踪摄像机构成为能够拍摄涂布液喷嘴。并且，抗蚀剂涂布装置具备处理空间用摄像机，该处理空间用摄像机构成为能够拍摄旋转保持盘上的处理空间。空间。空间。


技术研发人员：桾本裕一朗 梶原英树 松浦和宏 水篠真一 重本北斗 丰泽聪大 坂井勇治
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2023.01.30
技术公布日：2023/8/9