一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺的制作方法

1.本发明涉及光学镀膜技术领域，具体为一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺。


背景技术：

2.以智能手机为首的智能电子终端产品，硬件性能为购买产品的首要参考因素，经过十年的高速发展，硬件已经能满足消费者大多数日常需要，而作为一种消费电子产品，手机外观工业设计能在质感及美学上给用户以新的体验，外观创新正接棒手机硬件，成为消费者选择手机的重要参考因素。
3.故目前手机厂商为了保证其手机质感，而采用光学玻璃材料来做为手机盖板和采用金属材料做为中框来使用，但其中这种光学玻璃工艺较为复杂，硬度较低，使其生产时，良品率较低，进而产能较低，导致制作成本较高，而金属材料做为中框又会存在对现有较为灵敏的5g毫米波天线信号造成一定的影响。


技术实现要素：

4.针对现有技术的不足，本发明提供了一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，具备产能高、成本低和对信号无影响等优点，解决了光学玻璃产能较低、制作成本较高和金属中框影响信号的问题。
5.为实现上述产能高、成本低和对信号无影响目的，本发明提供如下技术方案：一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，包括以下步骤：步骤s1、结构件制作，将pc原
料
、色粉、硅和助剂，按照适合比
例
添加，进
行
重新造粒改性，经过造粒机抽出塑胶粒，然后采用注塑机将塑胶粒注塑成型结构件；步骤s2、结构件清洁，将注塑成型的所述结构件浸入清洗槽内进行浸泡清洗30秒；步骤s3、喷涂底漆，在所述结构件表面依次喷涂白色底漆、透明双色底漆和双固化uv底漆，其中每喷涂一层漆后均进行一次烘烤；步骤s4、磁控光学溅镀，将喷涂底漆后的所述结构件放入磁控镀膜机内，依次进行铌、硅和铌三层溅射进行镀膜；步骤s5、喷涂处理剂及中漆，对磁控光学溅镀后的所述结构件进行喷涂处理剂和双固化中漆，其中每次喷涂处理剂和双固化中漆后均需进行烘烤；步骤s6、喷涂面漆，对喷涂处理剂和中漆完成后的所述结构件进行喷涂柔性面漆，喷涂完成后再次进行烘烤；步骤s7、表面印刷，最后在所述柔性面漆上进行印刷油墨图案，然后进行烘烤，完成所述结构件镀膜。
6.优选的，所述步骤s3中的双固化uv底漆采用高压喷枪，时间为20分钟，温度为75℃，膜厚为22-28um，烘烤温度为55℃，烘烤时间为5分钟。
7.优选的，所述步骤s3中的透明双色底漆采用12个高压喷枪，时间为22分钟，温度为75℃，膜厚为7-9um，烘烤温度为65℃，烘烤时间为13分钟。
8.优选的，所述步骤s5中的双固化中漆采用3个高压喷枪，时间为8分钟，温度为55℃，膜厚为1-2um，烘烤温度为55℃，烘烤时间为5分钟。
9.优选的，所述步骤s6中的柔性面漆采用9个高压喷枪，时间为8分钟，温度为55℃，膜厚为22-25um，烘烤温度为60℃，烘烤时间为5分钟。
10.优选的，所述双固化uv底漆的配方比例为3官聚氨酯丙烯酸酯23%-28%，2官聚碳16%-20%，3官单体6%-8%，两官单体4.5%-5.5%，光引发剂3.8%-4.2%，流平剂0.9%-1.1%，乙酸丁酯9%-11%，乙酸乙酯38%-42%。
11.优选的，所述透明双色底漆的配方比例为特殊羟基丙烯酸树脂28%-32%，着色色粉6.5%-7.5%，色浆6%-8%，防沉分散助剂4.8%-5.2%，乙酸丁酯17%-20%，乙酸乙酯38%-42%。
12.优选的，所述双固化中漆的配方比例为附着力促进剂28%-32%，丙烯酸酯不饱和树脂6.5%-7.5%，甲基异丁基酮6%-8%，乙酸丁酯17%-20%，乙酸乙酯38%-42%。
13.优选的，所述柔性面漆的配方比例为6官聚氨酯丙烯酸酯9%-11%，15官聚氨酯丙烯酸酯7.5%-8.5%，6官单体6%-8%，特殊改性丙烯酸酯28%-32%，光引发剂1.8%-2.2%，深层固化光引发剂0.9%-1.1%，流平剂2.9%-3.1%，乙酸丁酯19%-21%，乙酸乙酯9%-11%，甲基异丁基酮8.8%-9.2%。
14.优选的，所述步骤s4的磁控光学溅镀，将所述铌、硅和铌固态材料加热升华到气态，再将气态的铌、硅或铌原子、分子或离子加速，到达高度真空的磁控镀膜机的溅射仓内，附着在所述结构件表面，使其铌、硅或铌材料在欲镀面的表面沉积形成薄膜，其三层铌、硅和铌薄膜厚度相加为287um。
15.与现有技术相比，本发明提供了一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，具备以下有益效果：1、该塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，通过结构件表面处理磁控光学镀工艺其特殊的加工工艺使得塑胶结构件表面变为炫彩高光或哑光漫反射表面，通过利用磁控光学将结合涂料的特点应用在涂层中间来增加增亮和炫彩透过色加反射色彩，使结构件表面拥有光学玻璃般的彩色效果，其对比光学玻璃有比较高的性价比优势，从而达到产能提升和成本下降的目的，最为直观的就是，在阳光下，由于存在较强的阳光反射，人眼看不清塑胶光学盖板和光学玻璃盖板的区别。
16.2、该塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，通过多层喷漆加光学溅射镀膜，使采用该工艺的结构件针对目前手机中的5g毫米波天线信号不会产生任何接收影响，使其对于目前的终端5g手机外壳制作适应性极强。
附图说明
17.图1为本发明提出的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺流程示意图。
具体实施方式
18.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
19.请参阅图1，一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，包括以下步骤：步骤s1、结构件制作，将pc原
料
、色粉、硅和助剂，按照适合比
例
添加，进
行
重新造粒改性，经过造粒机抽出塑胶粒，其塑胶粒注塑前需要使用烘箱单独烘烤，其温度120
°
c左右，烘烤4小时，然后采用注塑机将塑胶粒注塑成型结构件，注塑时尽量低速高压运行，其注塑机采用高速注塑机加模温机配合使用，注塑温度为270-320℃，注塑前使用原色
料
或透明
料
清洗注塑机；步骤s2、结构件清洁，将注塑成型的结构件浸入清洗槽内进行浸泡清洗30秒；步骤s3、喷涂底漆，在结构件表面依次喷涂白色底漆、透明双色底漆和双固化uv底漆，其中每喷涂一层漆后均进行一次烘烤，步骤s3中的双固化uv底漆采用高压喷枪，时间为20分钟，温度为75℃，膜厚为22-28um，烘烤温度为55℃，烘烤时间为5分钟，双固化uv底漆的配方比例为3官聚氨酯丙烯酸酯23%-28%，2官聚碳16%-20%，3官单体6%-8%，两官单体4.5%-5.5%，光引发剂3.8%-4.2%，流平剂0.9%-1.1%，乙酸丁酯9%-11%，乙酸乙酯38%-42%，步骤s3中的透明双色底漆采用12个高压喷枪，时间为22分钟，温度为75℃，膜厚为7-9um，烘烤温度为65℃，烘烤时间为13分钟，透明双色底漆的配方比例为特殊羟基丙烯酸树脂28%-32%，着色色粉6.5%-7.5%，色浆6%-8%，防沉分散助剂4.8%-5.2%，乙酸丁酯17%-20%，乙酸乙酯38%-42%，透明双色底漆是一支耐水煮热塑性丙烯酸树脂聚合物，附着力非常优异，环保无卤，快干、耐手汗、耐水煮，与其他的树脂材料的兼容性高；步骤s4、磁控光学溅镀，将喷涂底漆后的结构件放入磁控镀膜机内，依次进行铌、硅和铌三层溅射进行镀膜，步骤s4的磁控光学溅镀，将铌、硅和铌固态材料加热升华到气态，再将气态的铌、硅或铌原子、分子或离子加速，到达高度真空的磁控镀膜机的溅射仓内，附着在结构件表面，使其铌、硅或铌材料在欲镀面的表面沉积形成薄膜，其三层铌、硅和铌薄膜厚度相加为287um；步骤s5、喷涂处理剂及中漆，对磁控光学溅镀后的结构件进行喷涂处理剂和双固化中漆，其中每次喷涂处理剂和双固化中漆后均需进行烘烤，处理剂采用聚氨酯改性热可塑性树脂，通过处理剂对金属及非铁金属基材密着性能优异，耐水煮可达100度30分钟，对电镀制品及无机材质密着性亦佳，层间密着性能优异并具有优异的柔韧性能，特别适用于要求低温干燥及常温干燥的金属基材、电镀制品及无机材质之底漆涂装，并用做泛用型底漆返工涂层等，步骤s5中的双固化中漆采用3个高压喷枪，时间为8分钟，温度为55℃，膜厚为1-2um，烘烤温度为55℃，烘烤时间为5分钟，双固化中漆的配方比例为附着力促进剂28%-32%，丙烯酸酯不饱和树脂6.5%-7.5%，甲基异丁基酮6%-8%，乙酸丁酯17%-20%，乙酸乙酯38%-42%，通过双固化中漆可起到处理剂与柔性面漆之间的层间附着，对多种金属及塑料基材或尼龙与玻纤材料附着力优良，硬度和颜料分散性好，与其它树脂或助剂配合使用可以提高漆膜的耐水性，与其它常规树脂兼容性好；步骤s6、喷涂面漆，对喷涂处理剂和中漆完成后的结构件进行喷涂柔性面漆，喷涂完成后再次进行烘烤，步骤s6中的柔性面漆采用9个高压喷枪，时间为8分钟，温度为55℃，膜厚为22-25um，烘烤温度为60℃，烘烤时间为5分钟，柔性面漆的配方比例为6官聚氨酯丙烯酸酯9%-11%，15官聚氨酯丙烯酸酯7.5%-8.5%，6官单体6%-8%，特殊改性丙烯酸酯28%-32%，光引发剂1.8%-2.2%，深层固化光引发剂0.9%-1.1%，流平剂2.9%-3.1%，乙酸丁酯19%-21%，乙酸乙酯9%-11%，甲基异丁基酮8.8%-9.2%，通过柔性面漆使结构件具有固化速度快及
耐磨性能好，高韧性，高硬度，耐化妆品，振动耐磨及抗刮伤性等优点；步骤s7、表面印刷，最后在柔性面漆上进行印刷油墨图案，然后进行烘烤，完成结构件镀膜。
20.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
21.尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

技术特征：
1.一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：步骤s1、结构件制作，将pc原
料
、色粉、硅和助剂，按照适合比
例
添加，进
行
重新造粒改性，经过造粒机抽出塑胶粒，然后采用注塑机将塑胶粒注塑成型结构件；步骤s2、结构件清洁，将注塑成型的所述结构件浸入清洗槽内进行浸泡清洗30秒；步骤s3、喷涂底漆，在所述结构件表面依次喷涂白色底漆、透明双色底漆和双固化uv底漆，其中每喷涂一层漆后均进行一次烘烤；步骤s4、磁控光学溅镀，将喷涂底漆后的所述结构件放入磁控镀膜机内，依次进行铌、硅和铌三层溅射进行镀膜；步骤s5、喷涂处理剂及中漆，对磁控光学溅镀后的所述结构件进行喷涂处理剂和双固化中漆，其中每次喷涂处理剂和双固化中漆后均需进行烘烤；步骤s6、喷涂面漆，对喷涂处理剂和中漆完成后的所述结构件进行喷涂柔性面漆，喷涂完成后再次进行烘烤；步骤s7、表面印刷，最后在所述柔性面漆上进行印刷油墨图案，然后进行烘烤，完成所述结构件整个镀膜过程。2.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤s3中的双固化uv底漆采用高压喷枪，时间为20分钟，温度为75℃，膜厚为22-28um，烘烤温度为55℃，烘烤时间为5分钟。3.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤s3中的透明双色底漆采用12个高压喷枪，时间为22分钟，温度为75℃，膜厚为7-9um，烘烤温度为65℃，烘烤时间为13分钟。4.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤s5中的双固化中漆采用3个高压喷枪，时间为8分钟，温度为55℃，膜厚为1-2um，烘烤温度为55℃，烘烤时间为5分钟。5.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤s6中的柔性面漆采用9个高压喷枪，时间为8分钟，温度为55℃，膜厚为22-25um，烘烤温度为60℃，烘烤时间为5分钟。6.根据权利要求2所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述双固化uv底漆的配方比例为3官聚氨酯丙烯酸酯23%-28%，2官聚碳16%-20%，3官单体6%-8%，两官单体4.5%-5.5%，光引发剂3.8%-4.2%，流平剂0.9%-1.1%，乙酸丁酯9%-11%，乙酸乙酯38%-42%。7.根据权利要求3所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述透明双色底漆的配方比例为特殊羟基丙烯酸树脂28%-32%，着色色粉6.5%-7.5%，色浆6%-8%，防沉分散助剂4.8%-5.2%，乙酸丁酯17%-20%，乙酸乙酯38%-42%。8.根据权利要求4所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述双固化中漆的配方比例为附着力促进剂28%-32%，丙烯酸酯不饱和树脂6.5%-7.5%，甲基异丁基酮6%-8%，乙酸丁酯17%-20%，乙酸乙酯38%-42%。9.根据权利要求5所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述柔性面漆的配方比例为6官聚氨酯丙烯酸酯9%-11%，15官聚氨酯丙烯酸酯7.5%-8.5%，6官单体6%-8%，特殊改性丙烯酸酯28%-32%，光引发剂1.8%-2.2%，深层固化光引发剂0.9%-1.1%，流平剂2.9%-3.1%，乙酸丁酯19%-21%，乙酸乙酯9%-11%，甲基异丁基酮8.8%-9.2%。
10.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤s4的磁控光学溅镀，将所述铌、硅和铌固态材料加热升华到气态，再将气态的铌、硅或铌原子、分子或离子加速，到达高度真空的磁控镀膜机的溅射仓内，附着在所述结构件表面，使其铌、硅或铌材料在欲镀面的表面沉积形成薄膜，其三层铌、硅和铌薄膜厚度相加为287um。

技术总结
本发明涉及光学镀膜技术领域，且公开了一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，包括以下步骤：步骤S1、结构件制作；步骤S2、结构件清洁；步骤S3、喷涂底漆；步骤S4、磁控光学溅镀，将喷涂底漆后的所述结构件放入磁控镀膜机内，依次进行铌、硅和铌三层溅射进行镀膜；步骤S5、喷涂处理剂及中漆；步骤S6、喷涂面漆；步骤S7、表面印刷。该塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其对比光学玻璃有比较高的性价比优势，可以实现产能提升和成本下降的目的，通过多层喷漆加光学溅射镀膜，使采用该工艺的结构件针对目前手机中的5G毫米波天线信号不会产生任何接收影响，使其对于目前的终端5G手机外壳制作适应性极强。对于目前的终端5G手机外壳制作适应性极强。对于目前的终端5G手机外壳制作适应性极强。


技术研发人员：张步进 梁文进 胡家勇 张震东 巫继茂 袁杰
受保护的技术使用者：东莞市广正模具塑胶有限公司
技术研发日：2023.05.17
技术公布日：2023/8/9