晶圆载台的制作方法

1.本发明是有关于晶圆制程，尤其是一种具有晶背液压支撑机制的晶圆载台。


背景技术：

2.现有的晶圆加工制程中常使用喷嘴对晶圆的表面喷洒药液，随着晶圆加工技术的进步，晶圆的厚度也日益缩减而能够缩减其制成芯片的尺寸。因此，现今的晶圆常不具有足够的结构强度以抵抗喷洒药液时施于晶圆表面的压力，该压力可导致晶圆变形弯曲而影响制程良率，甚至致使晶圆破裂。
3.有鉴于此，本发明人遂针对上述现有技术，特潜心研究并配合学理的运用，尽力解决上述的问题点，即成为本发明人改良的目标。


技术实现要素：

4.本发明提供一种具有晶背液压支撑机制的晶圆载台。
5.本发明提供一种晶圆载台，其包含一座体、一夹具及一背压喷嘴组件。夹具设置在座体，夹具具有背向座体延伸的复数夹持元件，且夹持元件环列配置。背压喷嘴组件设置在座体且被夹持元件围绕且背压喷嘴组件配置位置不超出各夹持元件的末端，背压喷嘴组件设置有复数外围喷嘴，外围喷嘴则以夹持元件的环列中心轴为中心呈环列配置，而且任一外围喷嘴与相邻另一外围喷嘴间距介于10mm至15mm之间。
6.本发明的晶圆载台，其夹持元件围绕背压喷嘴组件。
7.本发明的晶圆载台，其背压喷嘴组件设置有至少一中心喷嘴。而且，夹持元件可水平排列配置或直立排列配置。
8.本发明的晶圆载台，其外围喷嘴可呈单列环列配置。外围喷嘴呈等间距配置。
9.本发明的晶圆载台，其外围喷嘴可呈多列同心环列配置。在各列之中的该些外围喷嘴呈等间距配置而具有一第一间距，任一该外围喷嘴与相邻另一列之中的最近的另一该外围喷嘴之间具有一第二间距，且该第一间距与该第二间距介于10mm至15mm之间。
10.本发明的晶圆载台具有背压喷嘴组件而能够在进行制程时向晶圆的背面喷射压力流体，借以产生水膜效应，以平衡制程喷嘴对晶圆的正面喷洒制程流体时施于晶圆的压力，或提供低转速水流而能够避免制程喷嘴的喷射压力致使晶圆弯曲变形而破裂。
11.为了对本发明的上述及其他方面有更佳的了解，下文特举实施例，并配合附图详细说明如下，但不作为对本发明的限定。
附图说明
12.图1为本发明较佳实施例的晶圆载台的立体示意图。
13.图2为本发明较佳实施例的晶圆载台的侧视图。
14.图3为本发明较佳实施例的晶圆载台其背压喷嘴组件的立体示意图。
15.图4为本发明较佳实施例的晶圆载台用于立置晶圆制程的使用状态示意图。
16.图5为本发明较佳实施例的晶圆载台用于平置晶圆制程的使用状态示意图。
17.其中，附图标记：
18.10:晶圆
19.11:正面
20.12:背面
21.100:座体
22.200:夹具
23.210:夹持元件
24.211:抵靠部
25.220:旋转机构
26.221:环架
27.222:滚轮
28.223:驱动单元
29.300:背压喷嘴组件
30.301:中心喷嘴
31.302:外围喷嘴
32.310:喷嘴座
33.310a:工作面
34.311:中心管路
35.312:外围管路
36.400:制程喷嘴
37.l1:第一间距
38.l2:第二间距
39.l3:第三间距
具体实施方式
40.参阅图1至图3，本发明的较佳实施例提供一种晶圆载台，其用于承载一晶圆10以供进行晶圆10加工制程。于本实施例中，本发明的晶圆载台包含一座体100、一夹具200及一背压喷嘴组件300。于本实施例中，座体100以一平板作为代表，但本发明并不限定座体100的形式。
41.于本实施例中，夹具200设置在座体100，夹具200至少具有复数夹持元件210以供夹持晶圆10的边缘，且夹持元件210数量至少为三。晶圆10的两面分别为一正面11以及与正面11相背的一背面12，且其正面11上供进行加工制程。具体而言，各夹持元件210分别远离座体100延伸而且该些夹持元件210环列配置。于本实施例中，各夹持元件210皆呈柱状且其外壁可抵靠于晶圆10的边缘以供晶圆10径向定位，各夹持元件210分别具有一抵靠部211以抵靠晶圆10，抵靠部211凸出于夹持元件210的侧面而呈凸阶状，因此抵靠部211抵靠于晶圆10的背面12而正向定位晶圆10。然而，本发明所指夹持元件210的形态不仅限于前述。
42.于本实施例中，夹具200还具有一旋转机构220以旋转该些夹持元件210。旋转机构220为能够旋转晶圆的机构，旋转机构220在此举例说明如后，但并不仅限于此，旋转机构
220包含一环架221以及至少一滚轮222，该些夹持元件210设置在该环架221上，滚轮222可以设置在座体100上且抵接环架221的边缘，于本实施例中较佳地设置有复数滚轮222，但本发明不限定滚轮222的数量，而且至少其中一个滚轮222连动一驱动单元223。当进行晶圆10加工制程时，借由驱动单元223驱动相连动的滚轮222旋转而带动环架221旋转，进而旋转晶圆10，同时借由一制程喷嘴400朝向晶圆10的正面11喷洒制程流体以加工晶圆10，其制程流体可能是蚀刻药液、溶剂、清洗液等。
43.背压喷嘴组件300设置在该座体100且被该些夹持元件210围绕且背压喷嘴组件300配置位置不超出各该夹持元件210的末端。具体而言，背压喷嘴组件300且有一喷嘴座310，喷嘴座310具有一工作面310a，工作面310a上布设有至少一中心喷嘴301以及复数外围喷嘴302，中心喷嘴301及外围喷嘴302的孔径皆介于0.5mm至2.5mm。环架221围绕该背压喷嘴组件300，且喷嘴座310的工作面310a不超出夹持元件210的接触部。喷嘴座310内设有连通各中心喷嘴301的中心管路311以及连通各外围喷嘴302的外围管路312，通过中心管路311以及外围管路312能够供应压力流体至中心喷嘴301及外围喷嘴302。而且，流过晶圆10正面11的制程流体可以泵入中心管路311以及外围管路312作为压力流体，因此无需分流不同的流体，且该制程流体亦可泵入可稀释流体(如水)，以便于排放或再利用。
44.中心喷嘴301邻近或重合于该些夹持元件210的环列中心轴，该些外围喷嘴302则以该些夹持元件210的环列中心轴为中心呈环列配置，而且该些外围喷嘴302可以呈单列环列配置或是多列同心环列配置。在各列之中的外围喷嘴302呈等间距配置而具有一第一间距l1，任一外围喷嘴302与相邻另一列之中的最近的外围喷嘴302之间具有二间距l2，第一间距l1与第二间距l2皆介于10mm至15mm之间。
45.前述各夹持元件210的抵靠部211配至在同一平面，也就是说此平面与晶圆10的背面12重叠，且此平面与工作面310a之间具有一第三间距l3，第三间距介于0.5mm至3mm之间。借此第一间距l1、第二间距l2及第三间距l3相互配合的配置使得压力流体能均匀分散至晶圆10的背面12而形成液膜，且液膜的表面张力能有效地支撑晶圆10的背面12。
46.参阅图4所示，该些夹持元件210直立排列配置而将晶圆10直立放置以进行立式制程。背压喷嘴组件300通过外围喷嘴302向晶圆10的背面12喷射压力流体而使压力流体构成布满晶圆10的背面12的一液膜，借此支撑晶圆10以平衡制程喷嘴400对晶圆10的正面11喷洒制程流体时施于晶圆10的压力。
47.参阅图5所示，该些夹持元件210水平排列配置而将晶圆10水平放置以进行卧式制程。背压喷嘴组件300通过中心喷嘴301向晶圆10的背面12喷射压力流体而使压力流体向外扩散溢流而构成布满晶圆10的背面12的一液膜，借此支撑晶圆10以平衡制程喷嘴400对晶圆10的正面11喷洒制程流体时施于晶圆10的压力。
48.综上所述，本发明的晶圆载台具有背压喷嘴组件300而能够在进行制程时向晶圆10的背面12喷射压力流体，借以产生水膜效应，以平衡制程喷嘴400对晶圆10的正面11喷洒制程流体时施于晶圆10的压力，或提供低转速水流而能够避免制程喷嘴400的喷射压力致使晶圆10弯曲变形而破裂。
49.综上所述，虽然本发明已以实施例揭露如上，但其并非用以限定本发明。本发明所属技术领域中的技术人员，在不背离本发明的精神及其实质的情况下，可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护
范围。

技术特征：
1.一种晶圆载台，其特征在于，包含：一座体；一夹具，设置在该座体，该夹具具有背向该座体延伸的复数夹持元件，且该些夹持元件环列配置；及一背压喷嘴组件，设置在该座体且被该些夹持元件围绕且该背压喷嘴组件配置位置不超出各该夹持元件的末端，该背压喷嘴组件设置有复数外围喷嘴，该些外围喷嘴则以该些夹持元件的环列中心轴为中心呈环列配置，而且任一该外围喷嘴与相邻另一该外围喷嘴间距介于10mm至15mm之间。2.如权利要求1所述的晶圆载台，其特征在于，其中该些夹持元件围绕该背压喷嘴组件。3.如权利要求1所述的晶圆载台，其特征在于，其中该背压喷嘴组件设置有至少一中心喷嘴。4.如权利要求3所述的晶圆载台，其特征在于，其中该些夹持元件水平排列配置。5.如权利要求1所述的晶圆载台，其特征在于，其中该些夹持元件直立排列配置。6.如权利要求1所述的晶圆载台，其特征在于，其中该些外围喷嘴呈单列环列配置。7.如权利要求6所述的晶圆载台，其特征在于，其中该些外围喷嘴呈等间距配置。8.如权利要求1所述的晶圆载台，其特征在于，其中该些外围喷嘴呈多列同心环列配置。9.如权利要求8所述的晶圆载台，其特征在于，其中在各列之中的该些外围喷嘴呈等间距配置而具有一第一间距，且该第一间距介于10mm至15mm之间。10.如权利要求8所述的晶圆载台，其特征在于，其中任一该外围喷嘴与相邻另一列之中的最近的另一该外围喷嘴之间具有一第二间距，且该第二间距介于10mm至15mm之间。

技术总结
本发明提供一种晶圆载台，其包含一座体、一夹具及一背压喷嘴组件。夹具设置在座体，夹具具有背向座体延伸的复数夹持元件，且夹持元件环列配置。背压喷嘴组件设置在座体且被夹持元件围绕且背压喷嘴组件配置位置不超出各夹持元件的末端。背压喷嘴组件而能够在进行制程时向夹具上的晶圆的背面喷射压力流体以平衡制程流体施于晶圆的压力而能够避免晶圆弯曲变形而破裂。变形而破裂。变形而破裂。


技术研发人员：王沧毅 刘茂林
受保护的技术使用者：辛耘企业股份有限公司
技术研发日：2022.01.28
技术公布日：2023/8/9