一种用于真空泵机组进气口的气液分离缓冲罐的制作方法

1.本实用新型属于气液分离缓冲罐技术领域，特别是涉及一种用于真空泵机组进气口的气液分离缓冲罐。


背景技术：

2.缓冲罐主要用于各种系统中缓冲系统的压力波动，使系统工作更平稳。缓冲罐的缓冲性能主要通过压缩罐内的压缩空气来实现。缓冲罐有隔膜式缓冲罐和气囊式两种，广泛应用于供水设备和中央空调系统等事物中，水环真空机组以罗茨泵为主泵，以水环泵为前级泵串联而成的。水环真空机组选用的水环泵成为前级泵比其它的真空泵更为有利，因为它不但克服了单台水环泵使用时极限压力差，在一定压力下抽气速率低的缺点，而且与此同时又保留了罗茨泵能迅速工作，有比较大抽气速率的优点
3.真空泵机组气液分离缓冲罐能够有效的对液体和气体进行分离，而分离缓冲罐工作时需保证各部件连接的密封性，若其长时间使得连接端密封较差，会导致真空泵机组气液分离缓冲罐难以正常工作，进而导致设备的实用性较差。


技术实现要素：

4.针对现有技术所存在的上述缺点，本实用新型提供了一种用于真空泵机组进气口的气液分离缓冲罐，能够有效地解决现有技术的问题。
5.为解决上述技术问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：
6.本实用新型为一种用于真空泵机组进气口的气液分离缓冲罐，包括缓冲罐下桶体和均匀固定在缓冲罐下桶体下端的支撑架体，所述缓冲罐下桶体的一侧开设有系统进气口，所述缓冲罐下桶体的上端固定有连接盘体一，所述连接盘体一的设置有连接盘体二，所述连接盘体一与连接盘体二之间设置有锁紧机构，所述连接盘体二的上端固定有缓冲罐上桶体，所述缓冲罐上桶体的上端面开设有真空泵进气口，所述缓冲罐下桶体内部设置有旋风过滤隔板。
7.进一步地，锁紧机构包括定位孔和限位凸块，所述定位孔均匀贯穿于连接盘体一与连接盘体二的内部，所述限位凸块固定在连接盘体二的下端面，且限位凸块的横截面为梯形结构。
8.进一步地，所述连接盘体二内部远离限位凸块的一侧设置有封堵垫圈，且封堵垫圈与连接盘体一和连接盘体二相卡接。
9.进一步地，所述连接盘体一的下端面外侧均匀开设有横截面为三角形结构的锁紧槽，所述锁紧槽的内部卡接有密封件，螺栓穿过密封件的内部并由螺母连接。
10.进一步地，所述旋风过滤隔板为倒锥形结构，所述旋风过滤隔板的上端设置有除沫器，且除沫器设置在缓冲罐上桶体的内部。
11.本实用新型具有以下有益效果：
12.1、本实用新型通过设置螺栓穿过定位孔可对连接盘体一与连接盘体二进行连接，
且密封件能够保证两者连接的紧密性，而设置的锁紧槽能够对密封件限位，可避免锁紧槽、密封件出现偏移，与此同时，设置的限位凸块能够对连接盘体一与连接盘体二之间进行限位，且与封堵垫圈配合，可避免两者出现松动，而降低设备的密封效果。
13.2、本实用新型通过设置系统进气口能够对水汽混合气体引入缓冲罐下桶体内，而水汽进入缓冲罐下桶体经过旋风过滤隔板后液体下降留在气液分离缓冲罐下桶体的底部，同时气体则进入缓冲罐上桶体内，水汽进入缓冲罐上桶体后由除沫器在进行二次水汽分离处理，而液体经过旋风过滤隔板的管道后下降至缓冲罐下桶体底部。
附图说明
14.为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
15.图1为本实用新型缓冲罐下桶体示意图；
16.图2为本实用新型缓冲罐上桶体示意图；
17.图3为本实用新型除沫器示意图；
18.图4为本实用新型连接盘体一横截面示意图。
19.附图中，各标号所代表的部件列表如下：
20.1、缓冲罐下桶体；2、支撑架体；3、系统进气口；4、连接盘体一；5、连接盘体二；6、缓冲罐上桶体；7、真空泵进气口；8、旋风过滤隔板；9、除沫器；10、定位孔；11、限位凸块；12、封堵垫圈；13、锁紧槽；14、密封件。
具体实施方式
21.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
22.请参阅图1-4所示，本实用新型为一种用于真空泵机组进气口的气液分离缓冲罐，包括缓冲罐下桶体1和均匀固定在缓冲罐下桶体1下端的支撑架体2，缓冲罐下桶体1的一侧开设有系统进气口3，缓冲罐下桶体1的上端固定有连接盘体一4，连接盘体一4的设置有连接盘体二5，连接盘体一4与连接盘体二5之间设置有锁紧机构，连接盘体二5的上端固定有缓冲罐上桶体6，缓冲罐上桶体6的上端面开设有真空泵进气口7，缓冲罐下桶体1内部设置有旋风过滤隔板8。
23.其中如图1-4所示，锁紧机构包括定位孔10和限位凸块11，定位孔10均匀贯穿于连接盘体一4与连接盘体二5的内部，限位凸块11固定在连接盘体二5的下端面，且限位凸块11的横截面为梯形结构，连接盘体二5内部远离限位凸块11的一侧设置有封堵垫圈12，且封堵垫圈12与连接盘体一4和连接盘体二5相卡接，具体而言，通过设置螺栓穿过定位孔10可对连接盘体一4与连接盘体二5进行连接，设置的限位凸块11能够对连接盘体一4与连接盘体二5之间进行限位，且与封堵垫圈12配合，可避免两者出现松动，而降低设备的密封效果。
24.其中如图1-4所示，连接盘体一4的下端面外侧均匀开设有横截面为三角形结构的锁紧槽13，锁紧槽13的内部卡接有密封件14，螺栓穿过密封件14的内部并由螺母连接，具体
而言，且密封件14能够保证两者连接的紧密性，而设置的锁紧槽13能够对密封件14限位，可避免锁紧槽13和密封件14出现偏移。
25.其中如图2-3所示，旋风过滤隔板8为倒锥形结构，旋风过滤隔板8的上端设置有除沫器9，且除沫器9设置在缓冲罐上桶体6的内部，具体而言，气体则进入缓冲罐上桶体6内，水汽进入缓冲罐上桶体6后由除沫器9在进行二次水汽分离处理，而液体经过旋风过滤隔板8的管道后下降至缓冲罐下桶体1底部。
26.工作原理：首先，设置的支撑架体2能够对缓冲罐下桶体1支撑，可避免缓冲罐下桶体1出现偏移，而设置的螺栓穿过定位孔10可对连接盘体一4与连接盘体二5进行连接，且密封件14套接在螺栓外侧，进而能够保证两者连接的紧密性，而设置的锁紧槽13能够对密封件14限位，可避免锁紧槽13与密封件14出现偏移，同时螺母可对螺栓锁紧，与此同时，设置的限位凸块11能够对连接盘体一4与连接盘体二5之间进行限位，且与封堵垫圈12配合，可避免两者出现松动，而降低设备的密封效果；
27.使用时，缓冲罐下桶体1有连接应用设备系统进气口3，而应用系统排出的水汽混合气体一起从系统进气口3进入缓冲罐下桶体1，水汽进入缓冲罐下桶体1经过旋风过滤隔板8后液体下降留在缓冲罐下桶体1的底部，气体则从旋风过滤隔板8的管道内进入缓冲罐上桶体6，水汽进入缓冲罐上桶体6后由除沫器9在进行二次水汽分离处理，液体经过旋风过滤隔板8的管道后下降至气液缓冲罐下桶体1底部，而气体由真空泵进气口7连接法兰带入真空泵机组，最后底部放空排污阀可以把收集起来的液体排出缓冲罐下桶体1内。
28.以上仅为本实用新型的优选实施例，并不限制本实用新型，任何对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，对其中部分技术特征进行等同替换，所作的任何修改、等同替换、改进，均属于在本实用新型的保护范围。

技术特征：
1.一种用于真空泵机组进气口的气液分离缓冲罐，包括缓冲罐下桶体(1)和均匀固定在缓冲罐下桶体(1)下端的支撑架体(2)，其特征在于，所述缓冲罐下桶体(1)的一侧开设有系统进气口(3)，所述缓冲罐下桶体(1)的上端固定有连接盘体一(4)，所述连接盘体一(4)的设置有连接盘体二(5)，所述连接盘体一(4)与连接盘体二(5)之间设置有锁紧机构，所述连接盘体二(5)的上端固定有缓冲罐上桶体(6)，所述缓冲罐上桶体(6)的上端面开设有真空泵进气口(7)，所述缓冲罐下桶体(1)内部设置有旋风过滤隔板(8)。2.根据权利要求1所述的一种用于真空泵机组进气口的气液分离缓冲罐，其特征在于，所述锁紧机构包括定位孔(10)和限位凸块(11)，所述定位孔(10)均匀贯穿于连接盘体一(4)与连接盘体二(5)的内部，所述限位凸块(11)固定在连接盘体二(5)的下端面，且限位凸块(11)的横截面为梯形结构。3.根据权利要求1所述的一种用于真空泵机组进气口的气液分离缓冲罐，其特征在于，所述连接盘体二(5)内部远离限位凸块(11)的一侧设置有封堵垫圈(12)，且封堵垫圈(12)与连接盘体一(4)和连接盘体二(5)相卡接。4.根据权利要求1所述的一种用于真空泵机组进气口的气液分离缓冲罐，其特征在于，所述连接盘体一(4)的下端面外侧均匀开设有横截面为三角形结构的锁紧槽(13)，所述锁紧槽(13)的内部卡接有密封件(14)，螺栓穿过密封件(14)的内部并由螺母连接。5.根据权利要求1所述的一种用于真空泵机组进气口的气液分离缓冲罐，其特征在于，所述旋风过滤隔板(8)为倒锥形结构，所述旋风过滤隔板(8)的上端设置有除沫器(9)，且除沫器(9)设置在缓冲罐上桶体(6)的内部。

技术总结
本实用新型公开了一种用于真空泵机组进气口的气液分离缓冲罐，涉及气液分离缓冲罐技术领域。本实用新型包包括缓冲罐下桶体和均匀固定在缓冲罐下桶体下端的支撑架体，所述缓冲罐下桶体的一侧开设有系统进气口，所述缓冲罐下桶体的上端固定有连接盘体一，所述连接盘体一的设置有连接盘体二，所述连接盘体一与连接盘体二之间设置有锁紧机构，所述连接盘体二的上端固定有缓冲罐上桶体。本实用新型通过设置螺栓穿过定位孔可对连接盘体一与连接盘体二进行连接，且密封件能够保证两者连接的紧密性，而设置的锁紧槽能够对密封件限位，与此同时，设置的限位凸块能够对连接盘体一与连接盘体二之间进行限位，且与封堵垫圈配合，可避免两者出现松动。两者出现松动。两者出现松动。


技术研发人员：王佳元 浦卫峰
受保护的技术使用者：广德缔威真空设备有限公司
技术研发日：2023.03.02
技术公布日：2023/8/13