反射镜、光学系统及操作光学系统的方法与流程

反射镜、光学系统及操作光学系统的方法1.相关申请的交叉引用2.本专利申请案主张于2021年1月28日申请的德国专利申请案de102021200790.2的优先权。此专利案的内容在此是以引用方式并入本文。
技术领域：
：3.本发明关于一种反射镜、一种光学系统以及一种用于操作光学系统的方法，尤其用于微光刻投射曝光装置。
背景技术：
：：4.微光刻系用来产生微型结构部件，诸如集成电路或lcd。微光刻工艺在已知的投射曝光装置中执行，该装置具有照明装置以及投射镜头。通过照明装置照明的掩模(＝掩模母版)的像于此通过投射镜头投射到基板(例如硅晶圆)上，基板涂覆感光层(光刻胶)并配置在投射镜头的像平面内，以将掩模结构转印到基板的感光涂层上。5.在设计用于euv范围(即在大约13nm或大约7nm的波长)的投射镜头中，由于缺少合适可用的透光折射材料，因此反射镜用来当成成像处理的光学部件。6.在实践中出现的问题是，由于euv光源所发射辐射的吸收以及其他原因，euv反射镜会变热并经历相关热膨胀或变形，进而对光学系统的成像特性产生负面影响。7.已知有多种方法可用于避免因输入euv反射镜中的热所引起表面变形以及与其相关的光学像差。除其他外，已知使用具有超低热膨胀的材料(“超低膨胀材料”)，例如由康宁公司(corninginc.)出售名称为uletm的钛硅酸盐玻璃，作为反射镜基板材料，并在靠近光学有效表面的区域设置所谓的零点交叉温度。在零点交叉温度，例如对于uletm，零点交叉温度约为θ＝30℃，热膨胀系数在其温度依赖性中具有零点交叉，在其附近没有发生反射镜基板材料的热膨胀或仅发生可忽略不计的热膨胀。8.用于避免由热输入euv反射镜中所引起表面变形的其他方法包括主动直接冷却。然而，在这情况下，确保足够有效的散热同时保证反射镜光学效果的高精度，然而，随着光源功率的增加，这成为非常苛刻的挑战。9.尤其是，在实践中出现的问题是，在光学系统或反射镜操作期间，冷却流体流过的冷却通道本身可能对反射镜的光学有效表面的变形提供寄生贡献(parasiticcontribution)。该贡献可能首先来自于反射镜基板中形成的温度梯度(并且在反射镜基板材料的低导热率情况下尤其显著)，并且该温度梯度通过反射镜基板材料中的热膨胀最终导致光学有效表面变形(取决于冷却通道的几何形状)。再者，从流动的冷却流体经由冷却通道壁传递到反射镜基板的机械压力可能也导致反射镜基板材料的弹性膨胀，其提供光学有效表面的寄生变形贡献(取决于冷却通道几何形状)。前述问题随着来源功率的增加而变得越来越严重，因为在这情况下，避免热致变形所需且要输入个别反射镜的冷却功率也增加。技术实现要素：10.本发明的目的为提供一种反射镜、一种光学系统和一种用于操作光学系统的方法，尤其是用于微光刻投射曝光装置，其有利于有效避免热致变形，同时至少减弱前述问题的效应。11.根据可替代的独立权利要求的特征来实现此目的，12.根据一方面，本发明关于反射镜，尤其是用于微光刻投射曝光装置，其中反射镜具有光学有效表面，所述反射镜包含[0013]-反射镜基板；以及[0014]-多个空腔，其配置在反射镜基板中并且可供应流体给每个空腔；[0015]-其中通过改变空腔中的流体压力，可将变形传递到光学有效表面。[0016]根据此方面，本发明包含以下概念：使用流体压力的前述贡献和作为其结果经由个别通道壁作用在反射镜基板上并且导致所述反射镜基板弹性变形的力，最终以有针对性的方式获得光学有效表面的变形，这是理想效果，因此为了提供自适应反射镜，从而在设定由包括反射镜的光学系统所产生的系统波前时，提供额外的自由度。在这情况下，本发明从以下发现出发，即所述空腔的合适配置(将在以下更详细描述)，特别是就其尺寸和其与光学有效表面的距离而言，可导致产生变形轮廓的可能性，变形轮廓首先仍然通过对各个腔体的独立压力施加而以目标局部方式变化，但其次，在相邻空腔在其变形贡献方面充分相互“重叠”的情况下，仍然允许产生准连续变形轮廓。[0017]根据一实施例，空腔的至少一子集至光学有效表面具有相同的距离。[0018]根据一实施例，多个空腔具有在光学有效表面的方向上彼此堆叠的成对空腔，使得可通过向同一对的空腔施加不同流体压力，通过沿光学有效表面作用的分力，产生对光学有效表面变形的贡献。[0019]根据此方法，同样有可能(作为对单个空腔的合适尺寸的替代或补充)促成准连续的变形轮廓(在每种情况下避免单个空腔的局部严格限定的变形效应的含义内)，其中本发明在这情况下还利用基于“双金属效应”的原理，即由于在每种情况下彼此固定的两部件相互不同的膨胀而产生变形。[0020]根据一实施例，流体为冷却流体，其流过空腔并用于吸收由入射在光学有效表面上的电磁辐射在反射镜基板中产生的热量。[0021]根据此方法，用于提供根据本发明的自适应反射镜中的光学有效表面的期望变形的流体同时充当冷却流体。然而，本发明不限于此，因此本发明也包含没有相关流体的额外(冷却)功能的实施例。[0022]本发明还关于具有前述特征的反射镜的光学系统。光学系统尤其可为微光刻投射曝光装置的投射镜头或照明装置。[0023]根据另一方面，本发明还关于一种用于操作光学系统的方法，其中光学系统具有至少一个具有光学有效表面和反射镜基板的反射镜，其中至少一个冷却通道配置在反射镜基板中；[0024]-其中具有可变冷却流体温度和可变冷却流体压力的冷却流体流过冷却通道，其目的是吸收由光源产生并入射到光学有效表面上的电磁辐射在反射镜基板中产生的热量；[0025]-其中冷却流体温度和冷却流体压力根据光源的功率而变化；以及[0026]-其中该变化实现为使得由反射镜基板中冷却流体产生的温度梯度所引起的对光学有效表面的变形的第一寄生贡献，以及由从冷却流体传递到反射镜基板的机械压力所引起的对光学有效表面的变形的第二寄生贡献至少部分相互补偿。[0027]尤其是根据此方面，本发明基于以下概念：在包含反射镜的光学系统中，反射镜通过冷却流体流过的至少一冷却通道主动冷却，避免或至少减少冷却通道、特别是其冷却通道几何形状对反射镜的光学有效表面的最终所引起变形的非期望效益，通过适当改变“冷却流体温度”和“冷却流体压力”这两参数，从而根据个别的源功率(即，光源功率)，前述寄生效应(即，首先，在反射镜基板内所形成温度梯度的影响，其次，由流动的冷却流体通过冷却通道壁所施加机械压力的影响)相互“平衡”。[0028]在此，本发明使用以下思想作为出发点：在操作期间受到电磁(例如，euv)辐射撞击并且通过冷却流体流过的至少一个冷却通道来主动冷却的反射镜的热致表面变形最终由“源功率”、“冷却流体温度”和“冷却流体压力”三个参数决定，其中反射镜的光学有效表面的热致表面误差和由此产生的光学系统的波前像差的最小化可通过源功率、冷却流体温度和冷却流体压力的参数的不同合适值组合(即，不同的“值三元组”)获得。[0029]举例来说，如果增加的源功率需要降低的冷却流体温度，则冷却流体压力的合适额外调整可实现的是，对冷却流体压力和冷却流体温度的表面变形的个别寄生贡献刚好相对于彼此平衡，因此保持光学有效表面的最小热致扰动或变形。[0030]根据一实施例，冷却流体温度和冷却流体压力的变化至少部分基于初步校准，而在该初步校准的范围内，为了产生查找表(lookuptable)的目的，确定适合该补偿的光源功率、冷却流体温度和冷却流体压力的个别值组合。[0031]换句话说，冷却流体温度和冷却流体压力的变化可基于先前记录的特征来实现，其中，针对光源功率、冷却流体温度和冷却流体压力的不同参数值三元组来指定个别残余干扰或表面误差的可变特征(例如，当成rms值)。然后，如果在光学系统或反射镜操作期间需要改变两个参数(例如，光源功率和冷却流体温度)，则在初步校准的基础上，基于此特征可直接确定应选择用于个别剩余参数(例如冷却流体压力)的值，以因此将表面误差重新设定为接近零的值。[0032]根据另一实施例，该确定至少部分基于光学系统中的波前测量和/或反射镜的面形的干涉测量来实现。[0033]根据另一实施例，冷却流体温度和冷却流体压力的此确定至少部分基于模拟来实现。[0034]根据一实施例，冷却流体温度和冷却流体压力的变化至少部分基于在光学系统持续操作期间所执行当前波前特性的测量来实现。[0035]根据一实施例，反射镜设计成用于小于30nm，特别是小于15nm的工作波长。[0036]根据一实施例，光学系统为微光刻投射曝光装置的投射镜头或照明装置。[0037]此外，本发明还关于一种光学系统，其包含：[0038]-至少一个具有光学有效表面以及反射镜基板的反射镜，其中至少一个冷却通道配置在反射镜基板中，其中具有可变冷却流体温度和可变冷却流体压力的冷却流体能够流过冷却通道，其目的是吸收由光源产生并入射到光学有效表面上的电磁辐射在反射镜基板中产生的热量；以及[0039]-用于根据光源功率改变冷却流体温度和冷却流体压力的装置，使得由反射镜基板中冷却流体产生的温度梯度所引起的对光学有效表面变形的第一寄生贡献、以及由从冷却流体传递到反射镜基板的机械压力所引起的对光学有效表面变形的第二寄生贡献至少部分相互补偿。[0040]根据一实施例，装置构造成基于查找表来改变冷却流体温度和冷却流体压力，查找表包含光源功率、冷却流体温度和冷却流体压力的个别值的不同组合。[0041]根据一实施例，装置构造成基于通过模拟和/或测量或校准所获得的特征来改变冷却流体温度和冷却流体压力，该特征指定有关光源功率、冷却流体温度和冷却流体压力的不同参数值组合的反射镜的光学有效表面的个别合成变形。光学系统尤其可包含存储器或储存器，其中存储所记录的特征(或特征图)。[0042]从说明书与从属权利要求可了解本发明的进一步构造。[0043]以下将根据附图所例示的示例性实施例来更详尽解释本发明。附图说明[0044]图中：[0045]图1显示用于解释根据本发明的一个实施例的反射镜可能结构的示意图；[0046]图2-3显示用于解释根据另一实施例的反射镜可能结构的示意图；[0047]图4a-4c显示用于解释根据另一实施例的反射镜结构与功能性的示意图；[0048]图5显示用于解释根据另一实施例的反射镜可能结构的示意图；[0049]图6显示设计用于在euv中操作的微光刻投射曝光装置的可能结构的示意图。具体实施方式[0050]图6首先示意显示设计用于在euv中操作的微光刻投射曝光装置的可能设置的子午剖面。[0051]根据图6，投射曝光装置1包含照明装置2及投射镜头10。投射曝光装置1的照明装置2的一个实施例具有光源或辐射源3，并具有用于照明物平面6内的物场5的照明光学单元4。在一替代实施例中，光源3也可设置为与其余照明装置分开的模块。在这情况下，照明装置不包含光源3。[0052]本文中，配置在物场5中的掩模母版7被曝光。掩模母版7由掩模母版固持器8所固持，掩模母版固持器8可通过掩模母版位移驱动器9位移，特别是沿着扫描方向。为了便于解释，图6中描绘笛卡儿xyz坐标系统。x方向垂直于绘图平面并进入后者。y方向沿着水平方向，并且z方向沿着垂直方向。图6中的扫描方向沿y方向进行。z方向垂直于物平面6延伸。[0053]投射镜头10用来将物场5成像于像平面12中的像场10内。掩模母版7上的结构成像于晶圆13的感光层上，其中晶圆布置在像平面12中像场11的区域内。晶圆13由晶圆固持器14所固持。晶圆固持器14可通过晶圆位移驱动器15位移，特别是沿着y方向。一方面通过掩模母版位移驱动器9位移掩模母版7，另一方面通过晶圆位移驱动器15位移晶圆13可以彼此同步的方式发生。[0054]辐射源3为euv辐射源。辐射源3尤其发射euv辐射，其以下也称为使用辐射或照明辐射。尤其是，使用辐射具有范围在5nm和30nm之间的波长。辐射源3可为例如等离子体源、基于同步加速器的辐射源或自由电子激光器(fel)。从辐射源3发出的照明辐射16由集光器17聚焦，并通过中间焦平面18中的中间焦点传播到照明光学单元4中。照明光学单元4包含偏转镜19；以及配置在光束路径中的偏转镜下游的第一分面镜20(具有示意性指示的分面21)和第二分面镜22(具有示意性指示的分面23)。[0055]投射镜头10包含多个反射镜mi(i＝1、2、...)，其根据其在投射曝光装置1的光路中的配置顺序编号。在图6所示的范例中，投射镜头10包含六个反射镜m1至m6。使用四、八、十、十二个或任何其他数量的反射镜mi的替代方案也同样可能。倒数第二反射镜m5和最后一个反射镜m6各具有用于照明辐射16的通孔。投射镜头10是双重遮蔽的光学单元。投射镜头10的像侧数值孔径大于0.5，也可大于0.6，并可为例如0.7或0.75。[0056]在微光刻投射曝光装置1的操作期间，入射到反射镜的光学有效表面上的电磁辐射被部分吸收，并且如介绍中所解释，导致加热和相关的热膨胀或变形，这进而导致光学系统成像特性受损。因此，根据本发明的概念可特别有利地应用于图6中微光刻投射曝光装置1的任何反射镜。[0057]本发明不限于在设计用于在euv范围内操作的投射曝光装置中的应用。尤其是，本发明也可有利地应用在设计用于在duv范围中(即，在小于250nm，尤其小于200nm的波长)操作的投射曝光装置中，或者在不同的光学系统中。[0058]图1仅以示意图显示根据本发明的反射镜100的可能示例性实施例。反射镜100具有反射镜基板101(例如，由uletm制成)和反射层系统(例如，以钼(mo)-硅(si)多层堆叠体的形式)，图1中未示出。在反射镜基板101内有多个空腔110(在示例性实施例中基本上成形为容器)，再次，空腔彼此无关，可在每种情况下经由导向反射镜基板101外部区域的流体入口110a和流体出口110b向其供应流体。根据反射镜尺寸适当选择各个空腔110或容器的尺寸和相应距离，使得通过对各个空腔110单独施加流体压力，首先仍然可在反射镜100的表面轮廓上获得足够空间解析的变化，但是其次，仍然可获得连续的变形轮廓，这是由于反射镜基板101内的空腔110的配置距光学有效表面足够“深”的结果。[0059]在示例性实施例中，各个空腔110或容器距光学有效表面的距离可在2mm至100mm的范围内，特别是3mm至50mm，更特别是5mm至20mm。此外，举例来说，空腔110或容器的横向尺寸可在5mm至150mm的范围内。同样以纯粹示例性方式(并且本发明不限于此)，可根据反射镜尺寸选择空腔110或容器的横向尺寸，例如使用一方式，使得反射镜100的横向截面积的大约80％被空腔或容器“覆盖”，因此剩余20％的横向反射镜面积对应于空腔110或容器之间的空隙。[0060]本发明在各个空腔110或容器的几何形状方面没有进一步限制，然而为了避免在反射镜基板材料中出现不希望的机械应力峰值，而且从制造的角度来看，图1中以示例性方式例示的圆形结构是较佳的。[0061]在本发明的实施例中，各个空腔110或容器尤其在每种情况下可至光学有效表面具有相同的距离(使得空腔110在反射镜基板101深度中的配置遵循光学有效表面的表面形式或轮廓)。[0062]较佳是，反射镜100使用此一方式制造，使得反射镜基板101由分离的反射镜基板部件组装而成，进而在成品反射镜中形成的空腔110的边界表面又被结合到这些部件中。[0063]施加到根据本发明的自适应反射镜100中的空腔110或容器的流体可在本发明不限于此的情况下特别是冷却流体，其中可例如根据光学系统中的源功率来设定个别流体温度，以避免或减少由于电磁辐射对其的冲击而引起反射镜100的不期望热致变形。不过，本发明并不受限于此。在这方面，图2显示一实施例(在其他方面与图1非常相似)，其中用于施加到各个空腔或容器210的流体不具有额外冷却功能。因此，由于也不需要流过空腔210，所以根据图2的各个空腔210或容器仅具有流体入口210a(并且没有额外的流体出口)。[0064]为了简化制造过程，根据图2中空腔210的流体入口210a或根据图1的冷却流体入口和出口110a、110b可分别配置在与相关联空腔210和110相同的水平或深度，并且为此可在制造期间并入相应的基板部件中。然而，在其他实施例中也可实现不同平面中的馈线配置，如图3中纯示意性所示。因此，在图3的范例中(其以非常简化的方式示出具有反射镜基板301和反射层系统302的反射镜300)，在三个空腔310的配置中的中心馈线310a(每个空腔具有流体馈线310a)，与导向相邻空腔310的馈线310a相比，在距光学有效表面更大深度或更大距离处被引导到外部(即进入反射镜基板301的外部区域)。在这情况下，通过在馈线310a中出现流体压力，避免对通过供应流体给空腔310而产生变形轮廓的可能非期望影响，同时接受增加的制造费用。[0065]图4a-4c显示用于解释根据本发明的另一实施例的自适应反射镜400的结构与功能性的示意图。根据此实施例，在每种情况下，彼此堆叠于光学有效表面方向上的成对空腔410、411配置在反射镜基板401内，其中相关空腔410、411能够彼此独立受到冲击(通过未在图4a-4c中任一者中例示但以类似于前述实施例的方式配置的流体入口)。为了分离在每种情况下彼此堆叠的空腔410、411，可在其间配置由例如金属材料制成并具有大约1mm示例性厚度的板子。在这情况下，本发明尤其可利用此事实，即在光学系统操作期间，在有流通过空腔410、411的情况下，于所述板的区域中存在有效冷却，因此选择性可不使用具有超低热膨胀的材料，诸如uletm(原则上同样可使用)。[0066]如图4b所示，分别属于具有不同流体压力的同一对空腔410、411的撞击现在最终同样具有光学有效表面的变形，因此如图4c所示并同样类似于已知的双金属效应。然而，由于与基于图1至图3的前述实施例相比的这种变形最初是由沿光学有效表面作用的分力所引起(对应于空腔410、411在横向或沿光学有效表面延伸的方向上的不同扩展，如图4b所示)，可另外辅助基本理想的连续变形轮廓的形成(在避免各个空腔的局部严格分离变形效果的含义内)。[0067]关于施加流体并且位于反射镜基板内的空腔，本发明不限于根据图1至图3和图4a至图4c选择的容器形几何形状。尤其是，所述空腔也可以通道的形式构造成，其中为了实现多个区域的目的，可再次形成多个单独的通道部分，其中流体压力可彼此独立施加到多个区域。在这方面，图5再次仅显示一示例性配置，其中提供多个单独的通道部分，在示例性实施例中，每个通道部分都具有基本上蜿蜒的几何形状，并且每个都连接到流体入口，并且在反射镜500中的反射镜基板501内提供流体出口作为空腔510。这种形成空腔510的通道部分的几何形状可能是有利的，特别是在具有所使用流体作为冷却流体的配置的实施例中，以避免由于流动(冷却)流体而将非所要随时间变化的振动引入反射镜500。[0068]根据本发明的另一方面，在将流体配置为流过反射镜的反射镜基板的冷却流体的情况下，首先冷却流体温度和其次冷却流体压力的适当变化取决于产生入射到反射镜上电磁辐射的来源的个别源功率，如此，首先在反射镜基板内形成温度梯度的寄生效应，其次流动的冷却流体通过冷却通道壁施加的机械压力相互平衡。换句话说，冷却流体压力的适当调整可避免冷却流体温度改变(例如，由于增加源功率而变得必要)导致由于反射镜基板内形成温度梯度而产生不希望的寄生变形贡献。[0069]在这情况下，可(通过模拟和/或测量或校准)特别是在本发明的实施例中预先记录适当特征，该特征针对源功率、冷却流体温度和冷却流体压力的不同参数值组合，指定反射镜中光学有效表面的个别合成扰动或变形。因此，即使在高源功率的情况下，这也可有效避免热致变形，因为可有效避免冷却流体在每种情况下流过的冷却通道的寄生贡献，即使在要引入个别反射镜的冷却功率增加的情况下。[0070]尽管使用特定实施例描述了本发明，但是本领域技术人员将能够看出多种变化和替代实施例，例如通过组合和/或置换各个实施例的特征。因此，本领域技术人员将明白，本发明也涵盖此变化与替代实施例，并且本发明的范围只受限于所附申请权利要求及其等同物的含义内。当前第1页12当前第1页12
技术特征：
1.一种反射镜，尤其用于微光刻投射曝光装置，其中该反射镜具有一光学有效表面，该反射镜包含：反射镜基板(101、201、301、401、501)；以及多个空腔(110、210、310、410、411、510)，其配置在该反射镜基板中并且能够供应一流体给每个空腔；其中通过改变这些空腔(110、210、310、410、411、510)中的流体压力能够将变形传递到该光学有效表面。2.如权利要求1所述的反射镜，其特征在于，这些空腔(110、210、310、410、411、510)中的至少一子集具有到该光学有效表面相同的距离。3.如权利要求1或2所述的反射镜，其特征在于，该多个空腔具有在该光学有效表面的方向上彼此堆叠的成对空腔(410、411)，使得通过向同一对的空腔(410、411)施加不同流体压力，通过沿该光学有效表面作用的分力，能够产生对该光学有效表面变形的贡献。4.如权利要求1至3中任一项所述的反射镜，其特征在于，该流体是流过所述空腔(110、410、411、510)的冷却流体，用于吸收电磁辐射入射在该光学有效表面上而在该反射镜基板(101、401、501)中产生的热量。5.一种光学系统，其特征在于，该光学系统包含如权利要求1至4中任一项所述的反射镜。6.如权利要求5所述的光学系统，其特征在于，该光学系统为微光刻投射曝光装置的投射镜头或照明装置。7.一种用于操作光学系统的方法，其中该光学系统具有至少一个具有光学有效表面和反射镜基板的反射镜，其中至少一个冷却通道配置在该反射镜基板中；其中具有可变冷却流体温度和可变冷却流体压力的冷却流体流过该冷却通道，用于吸收由光源产生并入射到该光学有效表面上的电磁辐射在该反射镜基板中产生的热量；其中该冷却流体温度和冷却流体压力根据该光源的功率而变化；以及其中该变化使得由该反射镜基板中的该冷却流体产生的温度梯度所引起的对该光学有效表面的变形的第一寄生贡献、以及由从该冷却流体传递到该反射镜基板的机械压力所引起的对该光学有效表面的变形的第二寄生贡献至少部分相互补偿。8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，该变化至少部分基于初步校准来实现，在该初步校准的范围内，为了产生查找表的目的，确定适合该补偿的光源功率、冷却流体温度和冷却流体压力的个别值的组合。9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，该确定至少部分基于该光学系统中的波前测量和/或该反射镜的面形的干涉测量来实现。10.如权利要求8或9所述的方法，其特征在于，该确定至少部分基于模拟来实现。11.如权利要求7至10中任一项所述的方法，其特征在于，该变化至少部分基于在该光学系统持续操作期间所执行的当前波前特性的测量来实现。12.如权利要求7至11中任一项所述的方法，其特征在于，该反射镜设计成用于小于30nm，特别是小于15nm的工作波长。13.如权利要求7至12中任一项所述的方法，其特征在于，该光学系统为微光刻投射曝光装置的投射镜头或照明装置。
14.一种光学系统，包含：至少一个具有光学有效表面和反射镜基板的反射镜，其中至少一个冷却通道配置在该反射镜基板中，其中具有可变冷却流体温度和可变冷却流体压力的冷却流体能够流过该冷却通道，用于吸收由光源产生并入射到该光学有效表面上的电磁辐射在该反射镜基板中产生的热量；以及用于根据光源功率改变冷却流体温度和冷却流体压力的装置，使得由该反射镜基板中该冷却流体产生的温度梯度所引起的对该光学有效表面的变形的第一寄生贡献、以及由从该冷却流体传递到该反射镜基板的机械压力所引起的对该光学有效表面的变形的第二寄生贡献至少部分相互补偿。15.如权利要求14所述的光学系统，其特征在于，该装置构造成基于查找表来改变冷却流体温度和冷却流体压力，该查找表包含光源功率、冷却流体温度和冷却流体压力的个别值的不同组合。16.如权利要求14或15所述的光学系统，其特征在于，该装置构造成基于通过模拟和/或测量或校准获得的特征来改变冷却流体温度和冷却流体压力，该特征指定光源功率、冷却流体温度和冷却流体压力的不同参数值组合的该反射镜的该光学有效表面的个别合成变形。17.如权利要求14至16中任一项所述的光学系统，其特征在于，该光学系统为微光刻投射曝光装置的投射镜头或照明装置。

技术总结
本发明涉及一种用于操作光学系统的方法、以及一种反射镜与一种光学系统，尤其用于微光刻投射曝光装置。反射镜(尤其用于微光刻投射曝光装置，其中反射镜具有光学有效表面)包含反射镜基板(101、201、301、401、501)和多个配置在反射镜基板中的空腔(110、210、310、410、411、510)，并且其中每个空腔都可被施加流体，其中可通过改变这些空腔(110、210、310、410、411、510)中的流体压力将变形传递到光学有效表面。510)中的流体压力将变形传递到光学有效表面。510)中的流体压力将变形传递到光学有效表面。


技术研发人员：H
受保护的技术使用者：卡尔蔡司SMT有限责任公司
技术研发日：2021.11.22
技术公布日：2023/8/14