超纯水制造设备的制作方法

超纯水制造设备
1.相关申请的交叉引用
2.本技术基于在2022年2月21日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请no.10-2022-0022455的优先权并且要求其优先权，其公开内容通过引用整体并入本文。
技术领域
3.本发明构思涉及超纯水处理设备，并且更具体地，涉及包括填充有硼选择性树脂的离子交换树脂塔和用于供应ph调节剂的化学品供应器的超纯水制造设备。


背景技术：

4.超纯水理论上是指电阻率为18mω
·
cm或更大的水。随着半导体器件的集成度提高，在半导体制造工艺中需要高纯化的超纯水。为此，超纯水制造设备包括反渗透膜、离子交换树脂塔等。通常，超纯水制造设备主要包括预处理设备、一级处理设备和二级处理设备。然而，包括反渗透膜和离子交换树脂塔的超纯水制造设备由于其设备特性而具有高投资成本和高运行成本的缺点。


技术实现要素：

5.本发明构思提供了包括离子交换树脂塔并且通过使用填充有硼选择性树脂的离子交换树脂塔高效地去除硼而具有改善的效率的超纯水制造设备。
6.本发明构思还提供了被构造为通过使用ph调节剂调节处理目标水的ph值来处理待处理的水(在下文中称为处理目标水)并且因此具有改善的效率的超纯水制造设备。
7.根据本发明构思的一方面，提供了一种超纯水制造设备，其包括：第一罐；多个反渗透膜，所述多个反渗透膜顺序地布置在所述第一罐的下游；电去离子装置，所述电去离子装置布置在所述多个反渗透膜的下游；离子交换树脂塔，所述离子交换树脂塔布置在所述电去离子装置的下游并且填充有硼选择性树脂；以及化学品供应器，所述化学品供应器布置在所述多个反渗透膜之间并且被配置为向处理目标水供应ph调节剂。
8.根据本发明构思的另一方面，提供了一种超纯水制造设备，其包括：第一罐；热交换器，所述热交换器布置在所述第一罐的下游；第一过滤器和第二过滤器，所述第一过滤器和所述第二过滤器以所述顺序依次布置在所述热交换器的下游；第一反渗透膜，所述第一反渗透膜布置在所述第二过滤器的下游；循环单元，所述循环单元包括第一子罐和第一子反渗透膜，所述循环单元被配置为处理所述第一反渗透膜的浓缩水并且使所述浓缩水循环到所述第一罐；第二罐，所述第二罐布置在所述第一反渗透膜的下游；第一紫外线杀菌器，所述第一紫外线杀菌器布置在所述第二罐的下游；第三过滤器，所述第三过滤器布置在所述第一紫外线杀菌器的下游；第二反渗透膜，所述第二反渗透膜布置在所述第三过滤器的下游；电去离子装置，所述电去离子装置布置在所述第二反渗透膜的下游；第三罐，所述第三罐布置在所述电去离子装置的下游；第二紫外线杀菌器，所述第二紫外线杀菌器布置在所述第三罐的下游；离子交换树脂塔，所述离子交换树脂塔布置在所述第二紫外线杀菌器
的下游并且填充有硼选择性树脂；膜脱气器，所述膜脱气器布置在所述离子交换树脂塔的下游；以及化学品供应器，所述化学品供应器被配置为向从所述第二罐流向所述第一紫外线杀菌器的处理目标水供应ph调节剂。
9.根据本发明构思的又一方面，提供了一种超纯水制造设备，其包括：预处理设备，所述预处理设备包括第一罐、布置在所述第一罐的下游的第一反渗透膜以及循环单元，所述循环单元包括第一子反渗透膜并且被配置为处理所述第一反渗透膜的浓缩水并且使所述浓缩水循环到所述第一罐；第一补充设备，所述第一补充设备包括第二罐、布置在所述第二罐的下游的第二反渗透膜、布置在所述第二反渗透膜的下游的电去离子装置以及化学品供应器，所述化学品供应器被配置为向从所述第二罐流向所述第二反渗透膜的处理目标水供应ph调节剂；第二补充设备，所述第二补充设备包括第三罐、布置在所述第三罐的下游并且填充有硼选择性树脂的离子交换树脂塔以及布置在所述离子交换树脂塔的下游的第一脱气器；以及精处理设备，所述精处理设备包括第四罐、布置在所述第四罐的下游的第一精处理器、布置在所述第一精处理器的下游的第二脱气器、布置在所述第二脱气器的下游的第二精处理器和布置在所述第二精处理器的下游的超滤膜。
附图说明
10.根据以下结合附图的详细描述，将更清楚地理解本发明构思的实施例，在附图中：
11.图1是示出了根据本发明构思的示例实施例的超纯水制造设备的框图；
12.图2是示出了根据本发明构思的示例实施例的预处理设备的框图；
13.图3是描绘出根据处理目标水的ph值的处理目标水中的二氧化碳的形式的曲线图；
14.图4是示出了根据本发明构思的示例实施例的由超纯水制造设备制造的超纯水的循环过程的框图；
15.图5是示出了根据本发明构思的示例实施例的回收设备的框图。
具体实施方式
16.在下文中，将参考附图详细描述本发明构思的实施例。在整个说明书中，相同的组件由相同的附图标记表示，并且省略其重复描述。
17.图1是示出了根据本发明构思的示例实施例的超纯水制造设备1000的框图。
18.参考图1，超纯水制造设备1000可以包括预处理设备100、第一补充设备200和第二补充设备300。
19.预处理设备100可以包括第一罐110、热交换器120、第一过滤器130、第二过滤器140和第一反渗透膜150。
20.第一罐110可以将待处理的第一水w1(在下文中称为第一处理目标水w1)储存特定时间段。因此，包括在预处理设备100中的后续装置(例如，120、130、140和150)可以确保用于处理第一处理目标水w1的时间段。例如，通过将第一处理目标水w1储存在第一罐110中，可以确保在包括在预处理设备100中的后续装置(例如，热交换器120、第一过滤器130、第二过滤器140和第一反渗透膜150)中处理第一处理目标水w1的时间。第一处理目标水w1可以包括例如从供水源供应的原水rw(参见图4)、再循环水rww(参见图4)或它们的组合。预处理
设备100还可以包括位于第一罐110的下游的泵(未示出)。储存在第一罐110中的第一处理目标水w1可以通过泵移动到热交换器120。
21.热交换器120可以布置在第一罐110的下游。热交换器120可以调节从第一罐110供应的第一处理目标水w1的温度。例如，热交换器120可以升高或降低第一处理目标水w1的温度。尽管在图1中示出了一个热交换器120，但是本发明构思不限于此。例如，可以存在多个热交换器120，并且每个热交换器120可以独立地升高或降低第一处理目标水w1的温度。
22.第一过滤器130可以布置在热交换器120的下游。第一过滤器130可以去除包括在已经通过热交换器120的第一处理目标水w1中的微小颗粒、有机物质、氯等。在示例实施例中，第一过滤器130可以包括活性炭过滤器(acf)。在这种情况下，第一过滤器130可以通过使第一处理目标水w1中的异物吸附在活性炭上来处理第一处理目标水w1。然而，本发明构思不限于此，并且第一过滤器130可以包括例如超滤膜或微滤膜。
23.在示例实施例中，在已经通过第一过滤器130的第一处理目标水w1被供应到第二过滤器140之前，可以向已经通过第一过滤器130的第一处理目标水w1提供杀生物剂(biocide)。可以通过杀生物剂去除已经通过第一过滤器130的第一处理目标水w1中的微生物等。例如，在第一处理目标水w1已经通过第一过滤器130之后并且在其被供应到第二过滤器140之前，可以将杀生物剂应用于第一处理目标水w1以去除微生物等。
24.第二过滤器140可以布置在第一过滤器130的下游。第二过滤器140可以去除残留在已经通过第一过滤器130的第一处理目标水w1中的微小颗粒、有机物质等。在示例实施例中，第二过滤器140可以包括但不限于预过滤器。
25.尽管在图1中示出了一个第一过滤器130和一个第二过滤器140，但是本发明构思不限于此，并且可以提供多个第一过滤器130和/或多个第二过滤器140。例如，预处理设备100可以包括一个第一过滤器130和多个第二过滤器140。
26.在示例实施例中，在已经通过第二过滤器140的第一处理目标水w1被供应到第一反渗透膜150之前，可以向已经通过第二过滤器140的第一处理目标水w1提供阻垢剂。可以通过阻垢剂来防止结垢。例如，在第一处理目标水w1已经通过第二过滤器140之后并且在其被供应到第一反渗透膜150之前，可以向第一处理目标水w1提供阻垢剂以防止结垢。
27.第一反渗透膜150可以布置在第二过滤器140的下游。第一反渗透膜150可以去除残留在已经通过第二过滤器140的第一处理目标水w1中的离子、有机物质等。第一反渗透膜150可以包括但不限于例如基于三乙酸纤维素的不对称膜、基于聚酰胺的复合膜、基于聚乙烯醇的复合膜或基于聚砜的复合膜等。第一反渗透膜150可以具有但不限于诸如平板膜、螺旋膜、管状膜或中空纤维膜的形状。在示例实施例中，第一反渗透膜150可以包括具有大约1.47mpa至大约5mpa的标准操作压力的低压反渗透膜。例如，第一反渗透膜150可以具有大约1.5mpa的标准操作压力。预处理设备100还可以包括位于第一反渗透膜150的上游的泵(未示出)。第一反渗透膜150所需的压力可以由泵提供。
28.第一处理目标水w1可以通过预处理设备100以变为其中去除了微小颗粒、离子、有机物质等的待处理的第二水w2(在下文中称为第二处理目标水w2)，并且第二处理目标水w2可以被供应到第一补充设备200，并且另外地进行处理以去除残留在第二处理目标水w2中的离子、微小颗粒、有机物质等。
29.图2是示出了根据本发明构思的实施例的预处理设备100a的框图。因为图2所示的
预处理设备100a的各个组件类似于参考图1描述的预处理设备100的各个组件，所以在下文中将主要描述它们之间的差异。
30.参考图2，预处理设备100a可以包括第一罐110、热交换器120、第一过滤器130、第二过滤器140、第一反渗透膜150和循环单元160，循环单元160包括第一子罐161和第一子反渗透膜163。在第一反渗透膜150过滤第一处理目标水w1的过程中浓缩的第一浓缩水cw1可以向第一子罐161移动并且储存在第一子罐161中。储存在第一子罐161中的第一浓缩水cw1可以由第一子反渗透膜163处理。第一浓缩水cw1中的一些有机物质、一些离子等被第一子反渗透膜163处理并去除，由此第一浓缩水cw1变成第二浓缩水cw2。第二浓缩水cw2可以被循环到第一罐110，因此再次通过热交换器120、第一过滤器130、第二过滤器140和第一反渗透膜150，如参考图1描述的。当预处理设备100a包括循环单元160时，可以使用第一浓缩水cw1而不是将其排出。在示例实施例中，第一子反渗透膜163可以包括具有大约1.47mpa至大约5mpa的标准操作压力的低压反渗透膜。
31.再次参考图1，第一补充设备200可以包括第二罐210、第一紫外线杀菌器220、第三过滤器230、第二反渗透膜240、电去离子装置250和化学品供应器260。
32.第二罐210可以将由预处理设备100处理的第二处理目标水w2储存特定时间段。因此，包括在第一补充设备200中的后续装置(例如，220、230、240和250)可以确保用于处理第二处理目标水w2的时间段。例如，通过将第二处理目标水w2储存在第二罐210中，可以确保在包括在第一补充设备200中的后续装置(例如，第一紫外线杀菌器220、第三过滤器230、第二反渗透膜240和电去离子装置250)中处理第二处理目标水w2的时间。第一补充设备200还可以包括位于第二罐210下游的泵(未示出)。储存在第二罐210中的第二处理目标水w2可以通过泵移动到第一紫外线杀菌器220。
33.第一紫外线杀菌器220可以布置在第二罐210的下游。第一紫外线杀菌器220可以进行紫外线杀菌，从而可以抑制在第二处理目标水w2中滋生微生物。例如，第一紫外线杀菌器220可以通过利用波长为大约254nm的紫外光照射第二处理目标水w2来进行紫外线杀菌。
34.第三过滤器230可以布置在第一紫外线杀菌器220的下游。第三过滤器230可以去除残留在已经通过第一紫外线杀菌器220的第二处理目标水w2中的微小颗粒、有机物质等。第三过滤器230可以包括但不限于例如预过滤器、超滤膜或微滤膜。
35.第二反渗透膜240可以布置在第三过滤器230的下游。第二反渗透膜240可以去除残留在由第三过滤器230处理的第二处理目标水w2中的离子、有机物质等。另外，如下所述，第二反渗透膜240可以去除被供应了ph调节剂pha的第二处理目标水w2中的二氧化碳。在示例实施例中，第二反渗透膜240可以包括具有大约1.47mpa至大约5mpa的标准操作压力的低压反渗透膜。第一补充设备200还可以包括位于第二反渗透膜240的上游的泵(未示出)。第二反渗透膜240所需的压力可以由泵提供。第二反渗透膜240可以包括但不限于例如基于三乙酸纤维素的不对称膜、基于聚酰胺的复合膜、基于聚乙烯醇的复合膜或基于聚砜的复合膜等。第二反渗透膜240可以具有但不限于诸如平板膜、螺旋膜、管状膜或中空纤维膜的形状。
36.电去离子装置250可以布置在第二反渗透膜240的下游。电去离子装置250可以包括阴极、阳极以及交替地布置在阴极和阳极之间的阳离子交换膜和阴离子交换膜。电去离子装置250可以包括稀释室、浓缩室和电解质室，并且稀释室可以填充有阳离子交换树脂和
阴离子交换树脂。可以将电流施加到电去离子装置250的阴极和阳极，因此，可以去除残留在通过稀释室的第二处理目标水w2中的离子。例如，电去离子装置250可以去除硼离子，使得待处理的第三水w3(在下文中称为第三处理目标水w3)中的硼离子的浓度为大约30ppt或更低。
37.化学品供应器260可以将ph调节剂pha供应到从第二罐210朝向第一紫外线杀菌器220供应的第二处理目标水w2。化学品供应器260可以包括例如中央化学品供应系统(ccss)。在示例实施例中，ph调节剂pha可以包括但不限于从naoh、koh、lioh、四甲基氢氧化铵和单乙醇中选择的至少一种碱性试剂。当将ph调节剂pha供应到第二处理目标水w2时，第二处理目标水w2的ph值可以改变。例如，当将作为ph调节剂pha的naoh供应到第二处理目标水w2时，第二处理目标水w2的ph值可以提高。在下文中，将参考图3详细描述通过使用ph调节剂去除残留在第二处理目标水w2中的二氧化碳。
38.图3是描绘出根据处理目标水的ph值的处理目标水中的二氧化碳的形式的曲线图。曲线图的x轴表示处理目标水的ph值，并且曲线图的y轴表示通过将100乘以根据处理目标水的ph值的每种形式的二氧化碳的摩尔分数而获得的值。
39.参考图3，当处理目标水的ph值为大致中性ph值时，处理目标水中的大部分二氧化碳以hco
3-的形式存在，但是当处理目标水的ph值为大约5.5或更小时，溶解的大部分二氧化碳以co2气体的形式存在。这里，因为在5.5的ph下占大部分二氧化碳的co2气体形式难以通过反渗透膜去除，所以需要增加包括在超纯水制造设备中的脱气器的数目以去除co2气体形式。因此，超纯水制造设备的运行成本增加，因此，其效率劣化。
40.相比之下，在示例实施例中，当通过向处理目标水供应ph调节剂来使处理目标水的ph值为大约7至大约10时，处理目标水中的大部分二氧化碳以hco
3-和co
32-的形式存在。因此，可以通过反渗透膜很好地去除处理目标水中的hco
3-和co
32-。在这种情况下，因为可以减少包括在超纯水制造设备中的用于去除处理目标水中包括的co2气体的脱气器的数目，所以可以降低包括这样的减少数目的脱气器的超纯水制造设备的运行成本，并且其效率可以改善。
41.第二目标处理水w2可以通过第一补充设备200以变为其中去除了微小颗粒、离子、有机物质等中的一些物质的第三目标处理水w3，并且第三目标处理水w3可以被供应到第二补充设备300并且经历另外的处理过程。
42.第二补充设备300可以包括第三罐310、第二紫外线杀菌器320、离子交换树脂塔330和第一脱气器340。
43.第三罐310可以将第三处理目标水w3储存特定时间段。因此，包括在第二补充设备300中的后续装置(例如，320、330和340)可以确保用于处理第三处理目标水w3的时间段。例如，通过将第三目标处理水w3储存在第三罐310中，可以确保在包括在第二补充设备300中的后续装置(例如，第二紫外线杀菌器320、离子交换树脂塔330和第一脱气器340)中处理第三目标处理水w3的时间。第二补充设备300还可以包括位于第三罐310的下游的泵(未示出)。储存在第三罐310中的第三处理目标水w3可以通过泵移动到第二紫外线杀菌器320。
44.第二紫外线杀菌器320可以布置在第三罐310的下游。第二紫外线杀菌器320可以抑制第三处理目标水w3中的微生物并且分解残留在第三处理目标水w3中的有机物质。例如，第二紫外线杀菌器320可以利用波长为大约185nm的紫外光照射第三处理目标水w3，并
且残留在第三处理目标水w3中的有机物质可以通过紫外光分解成碳酸气体和有机酸。
45.离子交换树脂塔330可以布置在第二紫外线杀菌器320的下游。离子交换树脂塔330可以去除残留在第三处理目标水w3中的离子。在示例实施例中，离子交换树脂塔330可以填充有硼选择性树脂。在示例实施例中，硼选择性树脂可以包括由化学式1表示的第一重复单元。
46.[化学式1]
[0047][0048]
(在化学式1中，p是2至10的整数，4≤q+r≤20，并且r是2至10的整数)。
[0049]
在示例实施例中，化学式1可以由化学式2表示。
[0050]
[化学式2]
[0051][0052]
因为硼是弱离子性的并且具有低离子选择性，所以硼不能被普通离子交换树脂或反渗透膜很好地去除。相比之下，根据本发明构思的示例实施例的离子交换树脂塔330填充有硼选择性树脂，并且硼选择性树脂允许通过根据反应式1的化学反应容易地去除残留在处理目标水中的硼离子。
[0053]
[反应式1]
[0054][0055]
因此，可以减少去除硼所需的电去离子装置的数目，因此，可以提高包括这样的减少数目的电去离子装置的超纯水制造设备1000的效率。在示例实施例中，离子交换树脂塔330可以包括非再生离子交换树脂。因此，可以减少当使用再生离子交换树脂时用于使再生离子交换树脂再生的有害化学物质的量，因此，可以改善环境问题。
[0056]
在示例实施例中，离子交换树脂塔330可以进一步填充有混合床离子交换树脂。在这种情况下，也可以去除残留在通过离子交换树脂塔330的第三处理目标水w3中的其他离子。
[0057]
第一脱气器340可以布置在离子交换树脂塔330的下游。第一脱气器340可以去除残留在第三处理目标水w3中的co2和溶解氧。在示例实施例中，第一脱气器340可以包括膜脱气器(mdg)。在这种情况下，第一脱气器340可以包括但不限于例如中空纤维气体分离膜。
[0058]
第三目标处理水w3可以通过第二补充设备300以变为其中去除了微小颗粒、离子、有机物质等的第四目标处理水w4，并且第四目标处理水w4可以被供应到精处理设备400并且经历附加处理过程。
[0059]
参考图1，超纯水制造设备1000还可以包括精处理设备400。
[0060]
精处理设备400可以包括第四罐410、热交换器420、第三紫外消毒器430、第一精处理器440、第二脱气器450、第二精处理器460和超滤膜470。
[0061]
第四罐410可以将第四处理目标水w4储存特定时间段。因此，包括在精处理设备400中的后续装置(例如，420、430、440、450、460和470)可以确保用于处理第四处理目标水w4的时间段。例如，通过将第四目标处理水w4储存在第四罐410中，可以确保在包括在精处理设备400中的后续装置(例如，热交换器420、第三紫外线杀菌器430、第一精处理器440、第二脱气器450、第二精处理器460和超滤膜470)中处理第四目标处理水w4的时间。精处理设备400还可以包括位于第四罐410的下游的泵(未示出)。储存在第四罐410中的第四处理目标水w4可以通过泵移动到热交换器420。
[0062]
热交换器420可以布置在第四罐410的下游。热交换器420可以类似于参考图1描述的预处理设备100的热交换器120。热交换器420可以调节从第四罐410供应的第四处理目标水w4的温度。例如，热交换器420可以升高或降低第四处理目标水w4的温度。尽管在图1中示出了一个热交换器420，但是本发明构思不限于此。例如，可以存在多个热交换器420，并且每个热交换器420可以独立地升高或降低第四处理目标水w4的温度。
[0063]
第三紫外线杀菌器430可以布置在热交换器420的下游。第三紫外线杀菌器430可以类似于参考图1描述的第二补充设备的第二紫外线杀菌器320。第三紫外线杀菌器430可以抑制第四处理目标水w4中的微生物并且分解残留在第四处理目标水w4中的有机物质。例如，第三紫外线杀菌器430可以利用波长为大约185nm的紫外光照射第四处理目标水w4，并且残留在第四处理目标水w4中的有机物质可以通过紫外光分解成碳酸气体和有机酸。
[0064]
第一精处理器440可以布置在第三紫外线杀菌器430的下游。在示例实施例中，第一精处理器440可以包括填充有催化剂离子交换树脂的离子交换树脂塔。在示例实施例中，第一精处理器440可以去除包含在第四处理目标水w4中的过氧化氢。过氧化氢可以通过催化剂离子交换树脂分解成水和氧。
[0065]
第二脱气器450可以布置在第一精处理器440的下游。第二脱气器450可以类似于参考图1描述的第二补充设备300的第一脱气器340。例如，第二脱气器450可以去除残留在第四处理目标水w4中的co2和溶解氧。在示例实施例中，第二脱气器450可以包括膜脱气器(mdg)。第二脱气器450可以包括但不限于例如中空纤维气体分离膜。
[0066]
第二精处理器460可以布置在第二脱气器450的下游。在示例实施例中，第二精处理器460可以包括混合床离子交换树脂塔。在这种情况下，第二精处理器460可以去除通过
第二精处理器460的第四处理目标水w4中的残留离子。
[0067]
超滤膜470可以布置在第二精处理器460的下游。超滤膜470可以去除残留在第四处理目标水w4中的各种颗粒。超滤膜470可以包括例如从聚砜、聚丙烯、聚乙烯、聚丙烯腈和聚酰胺中选择的材料。超滤膜470可以具有例如中空纤维形状、管状形状或平板形状，并且可以具有直径为0.01μm或更小的孔。通过超滤膜470处理残留在第四目标处理水w4中的各种颗粒，由此已经通过超滤膜470的第四目标处理水w4变成超纯水upw。
[0068]
图4是示出根据本发明构思的示例实施例的由超纯水制造设备制造的超纯水的循环过程的框图。
[0069]
参考图4，由超纯水制造设备1000制造的超纯水upw被提供到半导体制造设备500。在半导体制造设备500中使用之后，供应到半导体制造设备500的超纯水upw在半导体制造工艺期间包括各种污染物，因此变成工业废水iw。工业废水iw可以包括第一工业废水iw1和第二工业废水iw2，第一工业废水iw1通过回收设备600循环到超纯水制造设备1000，第二工业废水iw2通过单独的净化器(未示出)排出到外部。第一工业废水iw1可以由回收设备600处理以变成再循环水rww，因此循环到超纯水制造设备1000。在下文中，将参考图5描述回收设备600。
[0070]
图5是示出根据本发明构思的示例实施例的回收设备的框图。
[0071]
参考图5，回收设备600可以包括第五罐610、热交换器620、第四过滤器630、第五过滤器640和第三反渗透膜650。
[0072]
第五罐610可以储存第一工业废水iw1。储存在第五罐610中的第一工业废水iw1可以移动到热交换器620。热交换器620可以类似于参考图1描述的预处理设备100的热交换器120。热交换器620可以调节从第五罐610供应的第一工业废水iw1的温度。例如，热交换器620可以升高或降低第一工业废水iw1的温度。尽管在图5中示出了一个热交换器620，但是本发明构思不限于此。例如，可以存在多个热交换器620，并且每个热交换器620可以独立地升高或降低第一工业废水iw1的温度。
[0073]
由热交换器620处理的第一工业废水iw1可以以如下顺序依次移动到第四过滤器630和第五过滤器640。第四过滤器630和第五过滤器640中的每一者可以独立地类似于参考图1描述的预处理设备100的第一过滤器130或第二过滤器140。可以通过第四过滤器630和第五过滤器640去除包含在第一工业废水iw1中的微小颗粒、有机物质、氯等。例如，第四过滤器630和第五过滤器640中的一者或两者可以去除包含在已经通过热交换器120的第一工业废水iw1中的微小颗粒、有机物质、氯等。在示例实施例中，第四过滤器630和第五过滤器640中的一者或两者可以包括活性炭过滤器(acf)。在这种情况下，第四过滤器630和第五过滤器640中的一者或两者可以通过使第一工业废水iw1中的异物吸附在活性炭上来处理第一工业废水iw1。然而，本发明构思不限于此，并且第四过滤器630和第五过滤器640中的一者或两者可以包括例如超滤膜或微滤膜。作为另一示例，第四过滤器630和第五过滤器640中的一者或两者可以包括例如预过滤器。
[0074]
由第四过滤器630和第五过滤器640处理的第一工业废水iw1可以移动到第三反渗透膜650。第三反渗透膜650可以去除第一工业废水iw1中的有机物质、离子等。第三反渗透膜650可以包括例如低压或高压反渗透膜。
[0075]
虽然已经参考本发明构思的实施例具体地示出并且描述了本发明构思，但是将理
解的是，在不脱离所附权利要求的精神和范围的情况下，可以在其中进行形式和细节上的各种改变。

技术特征：
1.一种超纯水制造设备，所述超纯水制造设备包括：第一罐；多个反渗透膜，所述多个反渗透膜顺序地布置在所述第一罐的下游；电去离子装置，所述电去离子装置布置在所述多个反渗透膜的下游；离子交换树脂塔，所述离子交换树脂塔布置在所述电去离子装置的下游并且填充有硼选择性树脂；以及化学品供应器，所述多个反渗透膜之间布置有所述化学品供应器，并且所述化学品供应器被配置为向处理目标水供应ph调节剂。2.根据权利要求1所述的超纯水制造设备，其中，所述ph调节剂包括从naoh、koh和lioh中选择的至少一种碱性试剂。3.根据权利要求1所述的超纯水制造设备，其中，被供应了所述ph调节剂的所述处理目标水的ph值在7至10的范围内。4.根据权利要求1所述的超纯水制造设备，其中，所述多个反渗透膜包括第一反渗透膜和第二反渗透膜，并且其中，所述第一反渗透膜和所述第二反渗透膜中的每一者包括低压反渗透膜。5.根据权利要求1所述的超纯水制造设备，其中，所述硼选择性树脂包括由化学式1表示的第一重复单元：[化学式1]并且其中，在化学式1中，p是2至10的整数，4≤q+r≤20，并且r是2至10的整数。6.根据权利要求5所述的超纯水制造设备，其中，化学式1由化学式2表示：[化学式2]7.根据权利要求1所述的超纯水制造设备，其中，所述离子交换树脂塔还填充有混合床离子交换树脂。8.根据权利要求1所述的超纯水制造设备，所述超纯水制造设备还包括布置在所述离
子交换树脂塔的下游的脱气器。9.根据权利要求8所述的超纯水制造设备，其中，所述脱气器包括膜脱气器。10.根据权利要求1所述的超纯水制造设备，所述超纯水制造设备还包括：循环单元，所述循环单元包括第一子反渗透膜，其中，所述循环单元被配置为处理所述多个反渗透膜的浓缩水并且使所述浓缩水循环到所述第一罐。11.根据权利要求10所述的超纯水制造设备，其中，所述第一子反渗透膜包括低压反渗透膜。12.一种超纯水制造设备，所述超纯水制造设备包括：第一罐；热交换器，所述热交换器布置在所述第一罐的下游；第一过滤器和第二过滤器，所述第一过滤器和所述第二过滤器依次布置在所述热交换器的下游；第一反渗透膜，所述第一反渗透膜布置在所述第二过滤器的下游；循环单元，所述循环单元包括第一子罐和第一子反渗透膜，所述循环单元被配置为处理所述第一反渗透膜的浓缩水并且使所述浓缩水循环到所述第一罐；第二罐，所述第二罐布置在所述第一反渗透膜的下游；第一紫外线杀菌器，所述第一紫外线杀菌器布置在所述第二罐的下游；第三过滤器，所述第三过滤器布置在所述第一紫外线杀菌器的下游；第二反渗透膜，所述第二反渗透膜布置在所述第三过滤器的下游；电去离子装置，所述电去离子装置布置在所述第二反渗透膜的下游；第三罐，所述第三罐布置在所述电去离子装置的下游；第二紫外线杀菌器，所述第二紫外线杀菌器布置在所述第三罐的下游；离子交换树脂塔，所述离子交换树脂塔布置在所述第二紫外线杀菌器的下游并且填充有硼选择性树脂；膜脱气器，所述膜脱气器布置在所述离子交换树脂塔的下游；以及化学品供应器，所述化学品供应器被配置为向从所述第二罐流向所述第一紫外线杀菌器的处理目标水供应ph调节剂。13.根据权利要求12所述的超纯水制造设备，其中，所述第一反渗透膜、所述第一子反渗透膜和所述第二反渗透膜中的每一者包括低压反渗透膜。14.根据权利要求12所述的超纯水制造设备，其中，所述ph调节剂包括naoh，并且其中，被供应了所述ph调节剂的所述处理目标水的ph值在7至10的范围内。15.根据权利要求12所述的超纯水制造设备，其中，所述离子交换树脂塔还填充有混合床离子交换树脂。16.根据权利要求12所述的超纯水制造设备，其中，所述第一紫外线杀菌器照射波长为254nm的紫外光，并且其中，所述第二紫外线杀菌器照射波长为185nm的紫外光。17.一种超纯水制造设备，所述超纯水制造设备包括：
预处理设备，所述预处理设备包括第一罐、布置在所述第一罐的下游的第一反渗透膜以及循环单元，所述循环单元包括第一子反渗透膜并且被配置为处理所述第一反渗透膜的浓缩水并且使所述浓缩水循环到所述第一罐；第一补充设备，所述第一补充设备包括第二罐、布置在所述第二罐的下游的第二反渗透膜、布置在所述第二反渗透膜的下游的电去离子装置以及化学品供应器，所述化学品供应器被配置为向从所述第二罐流向所述第二反渗透膜的处理目标水供应ph调节剂；第二补充设备，所述第二补充设备包括第三罐、布置在所述第三罐的下游并且填充有硼选择性树脂的离子交换树脂塔以及布置在所述离子交换树脂塔的下游的第一脱气器；以及精处理设备，所述精处理设备包括第四罐、布置在所述第四罐的下游的第一精处理器、布置在所述第一精处理器的下游的第二脱气器、布置在所述第二脱气器的下游的第二精处理器和布置在所述第二精处理器的下游的超滤膜。18.根据权利要求17所述的超纯水制造设备，其中，所述第一反渗透膜、所述第一子反渗透膜和所述第二反渗透膜中的每一者包括低压反渗透膜。19.根据权利要求17的超纯水制造设备，其中，所述硼选择性树脂包括由化学式3表示的第一重复单元：[化学式3]20.根据权利要求17所述的超纯水制造设备，其中，所述第一精处理器包括填充有催化剂离子交换树脂的离子交换树脂塔，并且其中，所述第二精处理器包括混合床离子交换树脂塔。

技术总结
一种超纯水制造设备包括：第一罐；多个反渗透膜，所述多个反渗透膜顺序地布置在所述第一罐的下游；电去离子装置，所述电去离子装置布置在所述多个反渗透膜的下游；离子交换树脂塔，所述离子交换树脂塔布置在所述电去离子装置的下游并且填充有硼选择性树脂；以及化学品供应器，所述化学品供应器布置在所述多个反渗透膜之间并且被配置为向处理目标水供应pH调节剂。节剂。节剂。


技术研发人员：李胤行 申哲珉 梁承龙 崔友泳 咸昌烈
受保护的技术使用者：三星电子株式会社
技术研发日：2023.02.16
技术公布日：2023/8/23