一种可调式反应釜及其控制方法与流程

1.本发明属于反应釜技术领域，尤其涉及一种可调式反应釜及其控制方法。


背景技术：

2.在食品、医药、化工等行业的中反应釜是一种常见的生产设备；而反应釜的广义理解即有物理或化学反应的，根据不同的工艺条件需求进行容器的与参数配置，设计条件、过程、检验及制造、验收需依据相关，以实现的加热、蒸发、冷却及低高速的混配反应功能。尤其是相关化工及制药行业中，是用来完成硫化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程的容器。而反应釜大部分都包括釜体及釜体内部的搅拌叶及冷却或加热系统，通过搅拌叶进行原料混合搅拌并通过冷却或加热对釜体内的温度进行控制，为原料提供良好的反应条件；而在原料反应不同阶段下的反应效果受混合的均匀度及温度的影响；其中原料的混合均匀度受与搅拌的速度、搅拌叶有直接的关系，同时搅拌效果不理想又导致釜体内的原料加热或冷却不均匀；但是传统的反应釜内参与混合搅拌的数量搅拌叶固定，从而在搅拌速度及冷却或加热系统的工作数据均在理想数值时还是会对混合效果及加热或冷却的效果带来影响。


技术实现要素：

3.本发明的目的是针对上述存在的技术问题，提供一种结构简单且能根据反应的不同阶段调节进行搅拌的搅拌叶的数量，从而保证混合与加热或冷却的效果及均匀。
4.有鉴于此，本发明提供一种可调式反应釜，包括：
5.釜体，釜体的上端带有可开启的釜盖，釜体的底部一侧设在有出料口，釜盖上端的一侧设置有进料口；
6.驱动电机，釜体底部设置有驱动电机，驱动电机的电机轴延伸入釜体内；
7.驱动轴，驱动轴位于釜体内，且与驱动电机的电机轴固定连接；
8.温控组件，所述的温控组件包括加热与冷却盘管，加热与冷却盘管盘绕在釜体的内壁处，搅拌轴同轴设置在温控组件的中部；
9.搅拌组件，若干搅拌组件等距设置在驱动轴上，且搅拌组件包括安置套筒及若干按圆周均匀分布在安置套筒外壁的搅拌叶；
10.调节支撑组件，若干调节支撑组件等距分布在驱动轴上，且与搅拌组件交替分布；
11.下压调节机构，在釜盖的中部设置有朝下设置的下压调节机构，下压调节机构与位于驱动轴最上部的调节支撑组件相抵；
12.上旋转配合机构，在驱动轴最上部的调节支撑组件上设置有与下压配合组均配合的上旋转配合机构；
13.其中驱动轴的截面呈正多边形，安置套筒中部设置有与驱动轴相适配的正多边形的轴孔，且调节支撑组件及搅拌组件均与驱动轴滑动配合。
14.在上述技术方案中，进一步的，调节支撑组件包括：
15.上支撑盘，上支撑盘为圆形，在上支撑盘的下端形成有与其同轴设置的上限位部，
且在上支撑盘上设置有贯穿上限位部的上限位孔，上限位孔为与驱动轴滑动配合的正多边形孔；
16.下支撑盘，下支撑盘为圆形，位于上支撑盘的下侧，在下支撑盘的上端形成有与其同轴设置的下限位部，且上限位部与下限位部相对设置，并在下支撑盘上设置有贯穿下限位部的下限位孔，下限位孔为与驱动轴滑动配合的正多边形孔；
17.中间保持架，在上支撑盘与下支撑盘之间设置有其连接与支撑作用的中间保持架；
18.外支撑架，在上支撑盘与下支撑盘之间设置有若干按圆周均匀分布的外支撑架。
19.在上述技术方案中，进一步的，中间保持架包括：
20.内支撑环，内支撑环与上限位部及下限位部同轴设置且套设在驱动轴上；
21.内支撑架，在内支撑环上设置有若干按圆周均匀分布的内支撑架，且内支撑架与外支撑架交替分布；
22.其中内支撑架包括：
23.支撑杆，在内支撑环外侧设置有与内支撑环垂直设置且与内支撑环处在同一平面上的支撑杆；
24.浮动筒，在支撑杆上均套设有一个与支撑杆滑动配合的浮动筒；
25.上连杆，在浮动筒的上侧均设置有一个上连杆，上连杆的一端与浮动筒的上侧旋转连接，另一端与上支撑盘的下端旋转连接，且上连杆从内支撑环向上支撑盘方向呈向外倾斜；
26.下连杆，在浮动筒的下侧设置有一个下连杆，下连杆的一端与浮动筒的下侧旋转连接，另一端与下支撑盘的上端旋转连接，且下连杆从内支撑环向下支撑盘方向呈向外倾斜；
27.外限位块，在支撑杆的端部设置有外限位块，外限位块与浮筒的一端相抵；
28.内支撑弹簧，在支撑杆上套设有内支撑弹簧，内支撑弹簧的一端与浮动筒的另一端相抵，内支撑弹簧的另一端与内支撑环相抵。
29.在上述技术方案中，进一步的，外支撑架包括：
30.上支撑套筒，在上限位部的侧壁上设置有若干按圆周均匀分布的上支撑孔，每个上支撑孔上均螺纹连接有一个一端呈封闭端的上支撑套筒，且封闭端朝远离上支撑孔的方向设置；
31.下支撑套筒，在下限位部的侧壁上设置有若干按圆周均匀分布的下支撑孔，每个下支撑孔上均螺纹连接有一个一端呈封闭状端的下支撑套筒；且封闭端朝远离下支撑孔的方向设置；
32.上伸缩杆，在上支撑套筒的封闭端中部设置有贯穿的上通孔，上通孔上设置有滑动配合的上伸缩杆，且上伸缩杆位于上支撑套筒内的一端形成有防止脱离上通孔的上支撑块，上伸缩杆远离上支撑套筒的一侧形成有上旋转卡接块；
33.下伸缩杆，在下支撑套筒的封闭端中部设置有贯穿的下通孔，下通孔上设置有滑动配合的下伸缩杆，且下伸缩杆位于下支撑套筒内的一端形成有防止脱离上通孔的下支撑块，下伸缩杆远离下支撑套筒的一侧形成有下旋转卡接块；
34.弹性支撑架，在上旋转卡接块及下旋转卡接块上设置有其弹性支撑的弹性支撑
架；
35.上伸缩弹簧，在上支撑孔内设置有上伸缩弹簧，上伸缩弹簧的一端与上支撑孔底部相抵，另一端与上支撑块相抵；
36.下伸缩弹簧，在下支撑孔内设置有下伸缩弹簧，下伸缩弹簧的一端与下支撑孔底部相抵，另一端与下支撑块相抵。
37.在上述技术方案中，进一步的，弹性支撑架包括：
38.上旋转连接杆，上旋转连接杆的一端形成有与上旋转卡接块旋转配合的上旋转卡接块，且上旋转连接杆的另一端向下且远离下伸缩杆的端部方向倾斜；
39.下旋转连接杆，下旋转连接杆的一端形成有与下旋转卡接块旋转配合的下旋转卡接块，且下旋转连接杆的另一端向上且远离上伸缩杆的端部方向倾斜，且下旋转连接杆的中部与上旋转连接杆的中部交叉并旋转连接呈x型；
40.上连接弹簧，上连接弹簧的一端与上旋转卡接块固定连接，另一端与位于上伸缩杆所在侧的下旋转连接杆的端部固定连接；
41.下连接弹簧，下连接弹簧的一端与下旋转卡接块固定连接，另一端与位于下伸缩杆所在侧的上旋转连接杆的端部固定连接；
42.中间保持杆，中间保持杆的一端垂直设置在上支撑盘或下支撑盘上，另一端向上旋转连接杆与下旋转连接杆的交叉处延伸，并形成有滑槽，滑槽上设置有可上下滑动的销轴，且销轴从上旋转连接杆与下旋转连接杆的交叉处形成有旋转配合孔，销轴穿入旋转配合孔并与其旋转连接。通过中间保持杆的中部开设有供上旋转连接杆及下旋转连接杆安置并对其限位的限位槽。
43.在上述技术方案中，进一步的，下压调节机构包括：
44.上延伸套筒，在釜盖上端中部形成有上延伸套筒，上延伸套筒釜体内部连通；
45.下压驱动缸，下压驱动缸为电动伸缩杆，设置在上延伸套筒上端，且下压驱动缸的驱动端延伸入上延伸套筒内；
46.下压保持架，在下压驱动缸的驱动端上设置有下压保持架，下压保持架呈环柱型镂空状，并位于驱动轴上侧且与驱动轴同轴设置，且下压保持架可套设在驱动轴外；
47.下旋转保持架，在下压保持架的下端设置有下旋转保持架，且下旋转保持架套设在驱动轴的上端；
48.其中下压驱动缸带动下压保持架向驱动轴方向移动，同时带动下旋转保持架向位于驱动轴最上部的调节支撑组件抵去并挤压调节支撑组件，促使调节支撑组件压缩。
49.在上述技术方案中，进一步的，下旋转保持架包括：
50.上保持环，上保持环的上端与下压保持架固定连接，在下保持环的下端形成有旋转配合槽；
51.下保持环，下保持环设置在上保持环下侧的旋转配合槽上；
52.旋转滚珠，在下保持环的两侧与旋转配合槽之间设置有若干均匀分布的可自由滚动的旋转滚珠；
53.其中旋转配合槽从上保持环的端面向内包括依次设置的：
54.外扩槽，外扩槽的截面宽度大于下保持环的宽度，且呈阶梯状；
55.内旋转安置槽，内旋转安置槽的截面宽度小于等于下保持架的截面宽度，且在内
旋转安置槽的两侧侧壁分别设置有两个弧状的外侧安置槽；
56.下保持环从配合槽内向外包括依次连接的：
57.上旋转连接部，上旋转连接部位于内旋转安置槽内，且其两侧形成有呈等腰梯形状的配合凸起，上旋转连接部与两侧的配合凸起形成的最大截面宽度小于等于内旋转安置槽的截面宽度，并在每个配合凸起的两个斜边分别上设置有弧状的内侧安置槽，外侧安置槽与内侧安置槽配合形成安置旋转滚珠的槽部；
58.中间缩口部，中间缩口部的截面宽度小于上旋转连接部的截面宽度，且中间缩口部位于外扩槽与内旋转安置槽的连接处上；
59.外接触部，外接触部延伸出外扩槽且外接触部的截面宽度大于上旋转连接部的截面宽度；
60.且下保持环通过下接触部与上旋转配合机构相抵配合。
61.在上述技术方案中，进一步的，上旋转配合机构包括：
62.配合凸环，配合凸环一体成型在驱动轴最上部的调节支撑组件中上支撑盘的上侧端面上，配合凸环与下保持环同轴设置且配合凸环的截面宽度大于下保持环；
63.旋转配合组件，在配合凸环的端面上设置有若干按圆周分布的安置孔，每个安置孔上均设置有一个旋转配合组件；
64.其中旋转配合组件包括：
65.配合底座，配合底座螺纹固定在安置孔上，且配合底座的上端面向内形成有阶梯孔；
66.内配合块，在配合底座没设置有内配合块，且内配合块位于阶梯孔的底部；
67.上滚动接触组件，在内支撑块的上部设置有上滚动接触组件；
68.上旋转限位盖，在配合底座上设置有限位上滚动接触组件的上旋转限位盖。
69.在上述技术方案中，进一步的，上滚动接触组件包括：
70.上摆动接触块，上摆动接触块的侧壁呈球面，且上旋转限位盖上设置有与上摆动接触块滚动配合的球面槽限位槽；
71.上滚动球面槽，在上摆动接触块的上端设置有上削平部，在上削平部向内形成有上滚动球面槽；
72.上滚动组件，上滚动组件设置在上滚动球面槽上，包括上滚动支撑珠、上保持滚球及上限位盖，其中若干上滚动支撑珠设置在上滚动球面槽内壁上且沿上滚动球面槽内壁均匀分布，上保持滚球设置在上滚动球面槽内且与上滚动支撑珠接触且部分延伸出上滚动球面槽，上限位盖设置在上滚动球面槽的上端并限制上保持滚球脱离；
73.下滚动球面槽，在上摆动接触块的下端设置有下削平部，在下削平部向内形成有下滚动球面槽；
74.下滚动组件，下滚动组件设置在下滚动球面槽上，包括下滚动支撑珠、下摆动滚球及下限位盖，其中若干下滚动支撑球设置在下滚动支撑球面槽内壁上且沿下滚动球面槽内壁均匀分布，下摆动滚球设置在下滚动球面槽内、与下滚动支撑珠接触且部分延伸出下滚动球面槽，下限位盖设置在下滚动球面槽上并限制下摆动滚球脱离，内配合块的上端设置有与下摆动滚球螺纹固定的螺纹杆。
75.从而能在上保持环出现局部倾斜时也能对齐进行良好的支撑与接触的效果。
76.在上述技术方案中，进一步的，还包括：
77.控制台，控制台上部设置有触摸屏，控制台的底部内设置有控制柜，控制器内设置有控制器、控制电路及变频器，触摸屏与控制器通讯连接；
78.液位传感器，在釜体内设置有检测釜体内液位的液位传感器，且液位传感器将检测到的数据传送至控制器内；驱动电机及下压驱动缸均有控制器通过变频器控制运行；
79.其中控制器控制可调式反应釜的控制方法包括：
80.搅拌组件数量确定，控制器根据液位传感器检测的到液位计算能产于搅拌的搅拌组件的最大数量后通过触摸屏显示；
81.搅拌模式设定，通过触摸屏向控制器设定搅拌模式，搅拌模式设定包括搅拌阶段数设定、不同阶段参与搅拌的搅拌组件数量设定及不同阶段的持续时间及搅拌轴的转速设定；
82.反应釜运行，控制器控制反应釜运行，在不同阶段通过驱动电机实现搅拌的转速控制；并通过控制下压驱动缸驱动端的伸出距离控制参与搅拌的搅拌组件数量。
83.本发明的有益效果为：
84.1.通过设置调节支撑组件能便于调节相邻的搅拌组件的间距；
85.2.通过设置下压驱动缸为下压驱动组件能更好的进行控制下压的距离；
86.3.设置的下旋转保持架与上旋转配合机构配合能确保运行的稳定。
附图说明
87.图1是本发明的结构示意图；
88.图2是本发明的截面示意图；
89.图3是本发明中调节支撑组件第一个视角的结构示意图；
90.图4是本发明中调节支撑组件第二个视角的结构示意图；
91.图5是本发明中调节支撑组件第一处的截面示意图；
92.图6是本发明中调节支撑组件第二处的截面示意图；
93.图7是本发明中下压调节机构与上旋转配合机构配合的结构示意图；
94.图8是本发明中旋转配合组件的结构示意图；
95.图中标记表示为：1-釜体、2-釜盖、3-驱动电机、4-驱动轴、5-安置套筒、6-搅拌叶、7-上支撑盘、8-上限位部、9-下支撑盘、10-下限位部、11-支撑杆、12-浮动筒、13-上连杆、14-下连杆、15-外限位块、16-内支撑弹簧、17-上支撑套筒、18-下支撑套筒、19-上伸缩杆、20-上支撑块、21-上旋转卡接块、22-下伸缩杆、23-下支撑块、24-下旋转卡接块、25-上伸缩弹簧、26-伸缩弹簧、27-上旋转连接杆、28-下旋转连接杆、29-上连接弹簧、30-下连接弹簧、31-中间保持杆、32-上延伸套筒、33-下压驱动缸、34-上保持环、35-旋转配合槽、36-下保持环、36a-上旋转连接部、36b-配合凸起、36c-中间缩口部、36d-外接触部、37-旋转滚珠、38-配合底座、39-内配合块、40-上旋转限位盖、41-上摆动接触块、42-上滚动支撑珠、43-上限位盖、44-下滚动支撑珠、45-下限位盖、46-螺纹杆、47-内支撑环、48-配合凸环、49-下压保持架。
具体实施方式
96.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚地描述，显然，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
97.实施例1：
98.本实施例提供了一种可调式反应釜，包括：
99.釜体1，釜体1的上端带有可开启的釜盖2，釜体1的底部一侧设在有出料口，釜盖2上端的一侧设置有进料口；
100.驱动电机3，釜体1底部设置有驱动电机3，驱动电机3的电机轴延伸入釜体1内；
101.驱动轴4，驱动轴4位于釜体1内，且与驱动电机3的电机轴固定连接；
102.温控组件，所述的温控组件包括加热与冷却盘管，加热与冷却盘管盘绕在釜体1的内壁处，搅拌轴同轴设置在温控组件的中部；
103.搅拌组件，若干搅拌组件等距设置在驱动轴4上，且搅拌组件包括安置套筒5及若干按圆周均匀分布在安置套筒5外壁的搅拌叶6；
104.调节支撑组件，若干调节支撑组件等距分布在驱动轴4上，且与搅拌组件交替分布；
105.下压调节机构，在釜盖2的中部设置有朝下设置的下压调节机构，下压调节机构与位于驱动轴4最上部的调节支撑组件相抵；
106.上旋转配合机构，在驱动轴4最上部的调节支撑组件上设置有与下压配合组均配合的上旋转配合机构；
107.其中驱动轴4的截面呈正多边形，安置套筒5中部设置有与驱动轴4相适配的正多边形的轴孔，且调节支撑组件及搅拌组件均与驱动轴4滑动配合。
108.在本实施例中，设置的调节支撑组件在相邻的搅拌组件之间起良好的支撑与间距调节；通过下压调节机构对驱动轴4上的调节支撑组件试压，从而实现相邻的搅拌组件的间距调节，从而实现在同一液位下，调整浸入液体中搅拌组件的数量，进而实现根据反应的不同阶段调节进行搅拌的搅拌叶6的数量，从而保证混合与加热或冷却的效果及均匀；而搅拌轴的截面呈正多边形，从而更有利于传动，尤其为正六边形时传动效果更佳；而上旋转配合机构能在搅拌轴转动过程中及时进行搅拌组件的间距调节而无需停机。
109.实施例2：
110.本实施例提供了一种可调式反应釜，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征。
111.调节支撑组件包括：
112.上支撑盘7，上支撑盘7为圆形，在上支撑盘7的下端形成有与其同轴设置的上限位部8，且在上支撑盘7上设置有贯穿上限位部8的上限位孔，上限位孔为与驱动轴4滑动配合的正多边形孔；
113.下支撑盘9，下支撑盘9为圆形，位于上支撑盘7的下侧，在下支撑盘9的上端形成有与其同轴设置的下限位部10，且上限位部8与下限位部10相对设置，并在下支撑盘9上设置有贯穿下限位部10的下限位孔，下限位孔为与驱动轴4滑动配合的正多边形孔；
114.中间保持架，在上支撑盘7与下支撑盘9之间设置有其连接与支撑作用的中间保持
架；
115.外支撑架，在上支撑盘7与下支撑盘9之间设置有若干按圆周均匀分布的外支撑架。
116.在本实施例中，上支撑盘7与下支撑盘9的设主要起到支撑调节支撑组件两侧的搅拌组件，而上限位部8与下限位部10的配合能起到限定上支撑盘7与下支撑盘9最小间距的作用，防止位移过大而导致调节支撑组件无法复位；设置的上限位孔及下限位孔能保证上支撑盘7与下支撑盘9能跟随驱动轴4同步旋转，进而降低调节支撑组件与搅拌组件的磨损；而中间保持架及外支撑架的共同配合能在调节支撑组件受挤压后能顺利复原。
117.实施例3：
118.本实施例提供了一种可调式反应釜，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征。
119.中间保持架包括：
120.内支撑环47，内支撑环47与上限位部8及下限位部10同轴设置且套设在驱动轴4上；
121.内支撑架，在内支撑环47上设置有若干按圆周均匀分布的内支撑架，且内支撑架与外支撑架交替分布；
122.其中内支撑架包括：
123.支撑杆11，在内支撑环47外侧设置有与内支撑环47垂直设置且与内支撑环47处在同一平面上的支撑杆11；
124.浮动筒12，在支撑杆11上均套设有一个与支撑杆11滑动配合的浮动筒12；
125.上连杆13，在浮动筒12的上侧均设置有一个上连杆13，上连杆13的一端与浮动筒12的上侧旋转连接，另一端与上支撑盘7的下端旋转连接，且上连杆13从内支撑环47向上支撑盘7方向呈向外倾斜；
126.下连杆14，在浮动筒12的下侧设置有一个下连杆14，下连杆14的一端与浮动筒12的下侧旋转连接，另一端与下支撑盘9的上端旋转连接，且下连杆14从内支撑环47向下支撑盘9方向呈向外倾斜；
127.外限位块15，在支撑杆11的端部设置有外限位块15，外限位块15与浮筒的一端相抵；
128.内支撑弹簧16，在支撑杆11上套设有内支撑弹簧16，内支撑弹簧16的一端与浮动筒12的另一端相抵，内支撑弹簧16的另一端与内支撑环47相抵。
129.在本实施例中，当调节支撑组件收到挤压使得上支撑盘7与下支撑盘9的间距变小，这个过程中，上连杆13与下连杆14会带动浮动筒12向支撑杆11的底部压缩，从而实现了中间保持架的压缩；当调节支撑组件复位过程中浮动套筒在内支撑弹簧16的作用下向支撑杆11的端部移动，从而带动上连杆13与下连杆14将上支撑盘7与下支撑盘9撑开；而设置的内支撑环47能便于支撑杆11的安装与固定，从而防止内支撑架出现偏移；周设置的内支撑架能更好的进行受力及分散力量，进而保证内支撑环47始终处在与驱动轴4同轴配合的关系；同时由于上支撑盘7与下支撑盘9受到驱动轴4的径向限位，能进一步防止内支撑架的偏移。而外限位块15的设置能预紧内支撑弹簧16，且能防止浮动筒12脱离支撑杆11。
130.实施例4：
131.本实施例提供了一种可调式反应釜，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征。
132.外支撑架包括：
133.上支撑套筒17，在上限位部8的侧壁上设置有若干按圆周均匀分布的上支撑孔，每个上支撑孔上均螺纹连接有一个一端呈封闭端的上支撑套筒17，且封闭端朝远离上支撑孔的方向设置；
134.下支撑套筒18，在下限位部10的侧壁上设置有若干按圆周均匀分布的下支撑孔，每个下支撑孔上均螺纹连接有一个一端呈封闭状端的下支撑套筒18；且封闭端朝远离下支撑孔的方向设置；
135.上伸缩杆19，在上支撑套筒17的封闭端中部设置有贯穿的上通孔，上通孔上设置有滑动配合的上伸缩杆19，且上伸缩杆19位于上支撑套筒17内的一端形成有防止脱离上通孔的上支撑块20，上伸缩杆19远离上支撑套筒17的一侧形成有上旋转卡接块21；
136.下伸缩杆22，在下支撑套筒18的封闭端中部设置有贯穿的下通孔，下通孔上设置有滑动配合的下伸缩杆22，且下伸缩杆22位于下支撑套筒18内的一端形成有防止脱离上通孔的下支撑块23，下伸缩杆22远离下支撑套筒18的一侧形成有下旋转卡接块24；
137.弹性支撑架，在上旋转卡接块21及下旋转卡接块24上设置有其弹性支撑的弹性支撑架；
138.上伸缩弹簧25，在上支撑孔内设置有上伸缩弹簧25，上伸缩弹簧25的一端与上支撑孔底部相抵，另一端与上支撑块20相抵；
139.下伸缩弹簧，在下支撑孔内设置有下伸缩弹簧，下伸缩弹簧的一端与下支撑孔底部相抵，另一端与下支撑块23相抵。
140.在本实施例中，其中弹性支撑架的设置能更好的在上支撑盘7与下支撑盘9之间起支撑作用；而上支撑套筒17与下支撑套筒18的设置能便于上伸缩杆19与下伸缩杆22的案子，通过上伸缩弹簧25及下伸缩弹簧能在弹性支撑架压缩后，便于其更好的复位。而上伸缩杆19上形成的上旋转卡接块21既能起到防止上伸缩杆19脱离上支撑筒，也能更好得上伸缩弹簧25与上伸缩杆19的接触；而下伸缩杆22上形成的下旋转卡接块24也起到了相同的作用。
141.实施例5：
142.本实施例提供了一种可调式反应釜，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征。
143.弹性支撑架包括：
144.上旋转连接杆27，上旋转连接杆27的一端形成有与上旋转卡接块21旋转配合的上旋转卡接块21，且上旋转连接杆27的另一端向下且远离下伸缩杆22的端部方向倾斜；
145.下旋转连接杆28，下旋转连接杆28的一端形成有与下旋转卡接块24旋转配合的下旋转卡接块24，且下旋转连接杆28的另一端向上且远离上伸缩杆19的端部方向倾斜，且下旋转连接杆28的中部与上旋转连接杆27的中部交叉并旋转连接呈x型；
146.上连接弹簧29，上连接弹簧29的一端与上旋转卡接块21固定连接，另一端与位于上伸缩杆19所在侧的下旋转连接杆28的端部固定连接；
147.下连接弹簧30，下连接弹簧30的一端与下旋转卡接块24固定连接，另一端与位于
下伸缩杆22所在侧的上旋转连接杆27的端部固定连接；
148.中间保持杆31，中间保持杆31的一端垂直设置在上支撑盘7或下支撑盘9上，另一端向上旋转连接杆27与下旋转连接杆28的交叉处延伸，并形成有滑槽，滑槽上设置有可上下滑动的销轴，且销轴从上旋转连接杆27与下旋转连接杆28的交叉处形成有旋转配合孔，销轴穿入旋转配合孔并与其旋转连接。通过中间保持杆31的中部开设有供上旋转连接杆27及下旋转连接杆28安置并对其限位的限位槽。
149.在本实施例中，当弹性支撑架整体收到挤压即上支撑盘7与下支撑盘9进行压缩时；上旋转连接杆27与下旋转连接杆28的交叉连接的角度变大，而由于交叉点收到中间保持杆31的限位，使得上旋转连接杆27与下旋转连接杆28旋转并拉伸上连接弹簧29与下连接弹簧30，且由于交叉点收到限位使得上旋转连接杆27与下下旋转连接杆28分别带动上伸缩杆19与下伸缩杆22压缩上伸缩弹簧25及下伸缩弹簧；而在压力消失后调节支撑组件在内支撑架与弹性支撑架的共同作用下复位。
150.实施例6：
151.本实施例提供了一种可调式反应釜，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征。
152.下压调节机构包括：
153.上延伸套筒32，在釜盖2上端中部形成有上延伸套筒32，上延伸套筒32釜体1内部连通；
154.下压驱动缸33，下压驱动缸33为电动伸缩杆，设置在上延伸套筒32上端，且下压驱动缸33的驱动端延伸入上延伸套筒32内；
155.下压保持架49，在下压驱动缸33的驱动端上设置有下压保持架49，下压保持架49呈环柱型镂空状，并位于驱动轴4上侧且与驱动轴4同轴设置，且下压保持架49可套设在驱动轴4外；
156.下旋转保持架，在下压保持架49的下端设置有下旋转保持架，且下旋转保持架套设在驱动轴4的上端；
157.其中下压驱动缸33带动下压保持架49向驱动轴4方向移动，同时带动下旋转保持架向位于驱动轴4最上部的调节支撑组件抵去并挤压调节支撑组件，促使调节支撑组件压缩。
158.在本实施例中，上延伸套筒32用于安置下压保持架49及用于固定上压驱动缸；而下旋转保持架用于与位于驱动轴4最上部的调节支撑组件配合，下压保持架49通过下旋转保持架与最上部的调节支撑机构旋转配合，后通过旋转保持架对位于最上部的旋转保持架进行试压，从而实现对参与搅拌的搅拌组件的数量进行控制。
159.实施例7：
160.本实施例提供了一种可调式反应釜，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征。
161.下旋转保持架包括：
162.上保持环34，上保持环34的上端与下压保持架49固定连接，在下保持环36的下端形成有旋转配合槽；
163.下保持环36，下保持环36设置在上保持环34下侧的旋转配合槽上；
164.旋转滚珠37，在下保持环36的两侧与旋转配合槽之间设置有若干均匀分布的可自由滚动的旋转滚珠37；
165.其中旋转配合槽从上保持环34的端面向内包括依次设置的：
166.外扩槽，外扩槽的截面宽度大于下保持环36的宽度，且呈阶梯状；
167.内旋转安置槽，内旋转安置槽的截面宽度小于等于下保持架的截面宽度，且在内旋转安置槽的两侧侧壁分别设置有两个弧状的外侧安置槽；
168.下保持环36从配合槽内向外包括依次连接的：
169.上旋转连接部36a，上旋转连接部36a位于内旋转安置槽内，且其两侧形成有呈等腰梯形状的配合凸起36b，上旋转连接部36a与两侧的配合凸起36b形成的最大截面宽度小于等于内旋转安置槽的截面宽度，并在每个配合凸起36b的两个斜边分别上设置有弧状的内侧安置槽，外侧安置槽与内侧安置槽配合形成安置旋转滚珠37的槽部；
170.中间缩口部36c，中间缩口部36c的截面宽度小于上旋转连接部36a的截面宽度，且中间缩口部36c位于外扩槽与内旋转安置槽的连接处上；
171.外接触部36d，外接触部36d延伸出外扩槽且外接触部36d的截面宽度大于上旋转连接部36a的截面宽度；
172.且下保持环36通过下接触部与上旋转配合机构相抵配合。
173.在本实施例中，上保持环34用于与下压保持架49固定连接，下保持环36用于与位于最上部的调节支撑组件上的上旋转配合机构配合，从而防止磨损；而上保持环34上设置的外扩槽能便于下保持环36的安置，而设置的内旋转安置槽能便于与下保持环36旋转配合；其中下保持环36的上旋转连接部36a的两侧形成有呈等腰梯形的配合凸起36b，后通过在配合凸起36b的斜边与内旋转安置槽之间设置旋转滚珠37，进而能保证上保持环34与下保持环36之间良好的旋转配合，通过设置了四组旋转滚珠37组能更好得达到耐磨接触的效果；而下保持环36的外接触部36d的设置能便于下保持环36与上旋转配合机构接触，中间缩口部36c能在上旋转连接部36a与外接触部36d之间起连做作用。
174.实施例8：
175.本实施例提供了一种可调式反应釜，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征。
176.上旋转配合机构包括：
177.配合凸环48，配合凸环48一体成型在驱动轴4最上部的调节支撑组件中上支撑盘7的上侧端面上，配合凸环48与下保持环36同轴设置且配合凸环48的截面宽度大于下保持环36；
178.旋转配合组件，在配合凸环48的端面上设置有若干按圆周分布的安置孔，每个安置孔上均设置有一个旋转配合组件；
179.其中旋转配合组件包括：
180.配合底座38，配合底座38螺纹固定在安置孔上，且配合底座38的上端面向内形成有阶梯孔；
181.内配合块39，在配合底座38没设置有内配合块39，且内配合块39位于阶梯孔的底部；
182.上滚动接触组件，在内支撑块的上部设置有上滚动接触组件；
183.上旋转限位盖40，在配合底座38上设置有限位上滚动接触组件的上旋转限位盖40。
184.在本实施例中，配合凸环48能较高上支撑盘7，从而便于下旋转保持架的接触；旋转配合逐渐通过滚轮接触得方式与下保持环36接触，从而进一步降低了磨损；其中旋转配合底座38用于在旋转配合组件中其支撑的作用；上旋转限位盖40用于放置上滚动接触组件脱离；内配合块39则在配合底座38内对上滚动接触组件起支撑的作用。
185.实施例9：
186.本实施例提供了一种可调式反应釜，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征。
187.上滚动接触组件包括：
188.上摆动接触块41，上摆动接触块41的侧壁呈球面，且上旋转限位盖40上设置有与上摆动接触块41滚动配合的球面槽限位槽；
189.上滚动球面槽，在上摆动接触块41的上端设置有上削平部，在上削平部向内形成有上滚动球面槽；
190.上滚动组件，上滚动组件设置在上滚动球面槽上，包括上滚动支撑珠42、上保持滚球及上限位盖43，其中若干上滚动支撑珠42设置在上滚动球面槽内壁上且沿上滚动球面槽内壁均匀分布，上保持滚球设置在上滚动球面槽内且与上滚动支撑珠42接触且部分延伸出上滚动球面槽，上限位盖43设置在上滚动球面槽的上端并限制上保持滚球脱离；
191.下滚动球面槽，在上摆动接触块41的下端设置有下削平部，在下削平部向内形成有下滚动球面槽；
192.下滚动组件，下滚动组件设置在下滚动球面槽上，包括下滚动支撑珠44、下摆动滚球及下限位盖45，其中若干下滚动支撑球设置在下滚动支撑球面槽内壁上且沿下滚动球面槽内壁均匀分布，下摆动滚球设置在下滚动球面槽内、与下滚动支撑珠44接触且部分延伸出下滚动球面槽，下限位盖45设置在下滚动球面槽上并限制下摆动滚球脱离，内配合块39的上端设置有与下摆动滚球螺纹固定的螺纹杆。
193.在本实施例中，上摆动接触块41的侧壁呈球面，从而能保证起在上旋转限位盖40上发生一定的旋转而不脱离；而上滚动球面槽用于安置上滚动组件，通过上滚动组件与上保持环34配合，从而起到良好的旋转接触的效果；而下滚动球面槽内的下滚动组件与螺纹盖配合能能高对在上摆动块的底部其旋转支撑的效果，进而保证上摆动接触块41旋转摆动的顺畅；而上摆动接触块41进行旋转摆动，从而能在上保持环34出现局部倾斜时也能对齐进行良好的支撑与接触的效果。
194.实施例10：
195.本实施例提供了一种可调式反应釜，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征。
196.还包括：
197.控制台，控制台上部设置有触摸屏，控制台的底部内设置有控制柜，控制器内设置有控制器、控制电路及变频器，触摸屏与控制器通讯连接；
198.液位传感器，在釜体1内设置有检测釜体1内液位的液位传感器，且液位传感器将检测到的数据传送至控制器内；驱动电机3及下压驱动缸33均有控制器通过变频器控制运
行；
199.其中控制器控制可调式反应釜的控制方法包括：
200.搅拌组件数量确定，控制器根据液位传感器检测的到液位计算能产于搅拌的搅拌组件的最大数量后通过触摸屏显示；
201.搅拌模式设定，通过触摸屏向控制器设定搅拌模式，搅拌模式设定包括搅拌阶段数设定、不同阶段参与搅拌的搅拌组件数量设定及不同阶段的持续时间及搅拌轴的转速设定；
202.反应釜运行，控制器控制反应釜运行，在不同阶段通过驱动电机3实现搅拌的转速控制；并通过控制下压驱动缸33驱动端的伸出距离控制参与搅拌的搅拌组件数量。
203.在本实施例中，通过设置触摸屏对搅拌模式设定进行设置从而能根据不同液位及不同原料进行更好的搅拌与控制。
204.上面结合附图对本技术的实施例进行了描述，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征是可以相互组合的，本技术并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本技术的启示下，在不脱离本技术宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，均属于本技术的保护之内。

技术特征：
1.一种可调式反应釜，其特征在于，包括：釜体(1)，釜体(1)的上端带有可开启的釜盖(2)，釜体(1)的底部一侧设在有出料口，釜盖(2)上端的一侧设置有进料口；驱动电机(3)，所述的釜体(1)底部设置有驱动电机(3)，所述的驱动电机(3)的电机轴延伸入釜体(1)内；驱动轴(4)，所述的驱动轴(4)位于釜体(1)内，且与驱动电机(3)的电机轴固定连接；搅拌组件，若干搅拌组件等距设置在驱动轴(4)上，且所述的搅拌组件包括安置套筒(5)及若干按圆周均匀分布在安置套筒(5)外壁的搅拌叶(6)；调节支撑组件，若干所述的调节支撑组件等距分布在驱动轴(4)上，且与搅拌组件交替分布；下压调节机构，在所述的釜盖(2)的中部设置有朝下设置的下压调节机构，所述的下压调节机构与位于驱动轴(4)最上部的调节支撑组件相抵；上旋转配合机构，在驱动轴(4)最上部的调节支撑组件上设置有与下压配合组均配合的上旋转配合机构。2.根据权利要求1所述的一种可调式反应釜，其特征在于，所述的调节支撑组件包括：上支撑盘(7)，所述的上支撑盘(7)为圆形，在所述的上支撑盘(7)的下端形成有与其同轴设置的上限位部(8)；下支撑盘(9)，所述的下支撑盘(9)为圆形，位于上支撑盘(7)的下侧，在所述的下支撑盘(9)的上端形成有与其同轴设置的下限位部(10)；中间保持架，在所述的上支撑盘(7)与下支撑盘(9)之间设置有其连接与支撑作用的中间保持架；外支撑架，在所述的上支撑盘(7)与下支撑盘(9)之间设置有若干按圆周均匀分布的外支撑架。3.根据权利要求2所述的一种可调式反应釜，其特征在于，所述的中间保持架包括：内支撑环(47)，所述的内支撑环(47)与上限位部(8)及下限位部(10)同轴设置且套设在驱动轴(4)上；内支撑架，在所述的内支撑环(47)上设置有若干按圆周均匀分布的内支撑架，且所述的内支撑架与外支撑架交替分布；其中所述的内支撑架包括：支撑杆(11)，在所述的内支撑环(47)外侧设置有与内支撑环(47)垂直设置且与内支撑环(47)处在同一平面上的支撑杆(11)；浮动筒(12)，在所述的支撑杆(11)上均套设有一个与支撑杆(11)滑动配合的浮动筒(12)；上连杆(13)，在所述的浮动筒(12)的上侧均设置有一个上连杆(13)；下连杆(14)，在所述的浮动筒(12)的下侧设置有一个下连杆(14)；外限位块(15)，在所述的支撑杆(11)的端部设置有外限位块(15)，所述的外限位块(15)与浮筒的一端相抵；内支撑弹簧(16)，在所述的支撑杆(11)上套设有内支撑弹簧(16)。4.根据权利要求3所述的一种可调式反应釜，其特征在于，外支撑架包括：
上支撑套筒(17)，在所述的上限位部(8)的侧壁上设置有若干按圆周均匀分布的上支撑孔，每个所述的上支撑孔上均螺纹连接有一个一端呈封闭端的上支撑套筒(17)；下支撑套筒(18)，在所述的下限位部(10)的侧壁上设置有若干按圆周均匀分布的下支撑孔，每个所述的下支撑孔上均螺纹连接有一个一端呈封闭状端的下支撑套筒(18)；上伸缩杆(19)，在所述上支撑套筒(17)的封闭端中部设置有贯穿的上通孔，上通孔上设置有滑动配合的上伸缩杆(19)；下伸缩杆(22)，在所述的下支撑套筒(18)的封闭端中部设置有贯穿的下通孔，下通孔上设置有滑动配合的下伸缩杆(22)；弹性支撑架，在所述的上旋转卡接块(21)及下旋转卡接块(24)上设置有其弹性支撑的弹性支撑架；上伸缩弹簧(25)，在所述的上支撑孔内设置有上伸缩弹簧(25)；下伸缩弹簧(26)，在所述的下支撑孔内设置有下伸缩弹簧(26)。5.根据权利要求4所述的一种可调式反应釜，其特征在于，所述的弹性支撑架包括：上旋转连接杆(27)，所述的上旋转连接杆(27)的一端形成有与上旋转卡接块(21)旋转配合的上旋转卡接块(21)；下旋转连接杆(28)，所述的下旋转连接杆(28)的一端形成有与下旋转卡接块(24)旋转配合的下旋转卡接块(24)；上连接弹簧(29)，所述的上连接弹簧(29)的一端与上旋转卡接块(21)固定连接，另一端与位于上伸缩杆(19)所在侧的下旋转连接杆(28)的端部固定连接；下连接弹簧(30)，所述的下连接弹簧(30)的一端与下旋转卡接块(24)固定连接；中间保持杆(31)，中间保持杆(31)的一端垂直设置在上支撑盘(7)或下支撑盘(9)上。6.根据权利要求5所述的一种可调式反应釜，其特征在于，所述的下压调节机构包括：上延伸套筒(32)，在所述的釜盖(2)上端中部形成有上延伸套筒(32)，所述的上延伸套筒(32)釜体(1)内部连通；下压驱动缸(33)，所述的下压驱动缸(33)为电动伸缩杆，设置在上延伸套筒(32)上端，且下压驱动缸(33)的驱动端延伸入上延伸套筒(32)内；下压保持架(49)，在所述的下压驱动缸(33)的驱动端上设置有下压保持架(49)，所述的下压保持架(49)呈环柱型镂空状，并位于驱动轴(4)上侧且与驱动轴(4)同轴设置，且所述的下压保持架(49)可套设在驱动轴(4)外；下旋转保持架，在所述的下压保持架(49)的下端设置有下旋转保持架，且下旋转保持架套设在驱动轴的上端。7.根据权利要求6所述的一种可调式反应釜，其特征在于，所述的下旋转保持架包括：上保持环(34)，所述的上保持环(34)的上端与下压保持架(49)固定连接，在所述的下保持环(36)的下端形成有旋转配合槽(35)；下保持环(36)，所述的下保持环(36)设置在上保持环(34)下侧的旋转配合槽(35)上；旋转滚珠(37)，在所述的下保持环(36)的两侧与旋转配合槽(35)之间设置有若干均匀分布的可自由滚动的旋转滚珠(37)；其中所述的旋转配合槽(35)从上保持环(34)的端面向内包括依次设置的：外扩槽，所述的外扩槽的截面宽度大于下保持环(36)的宽度，且呈阶梯状；
内旋转安置槽，所述的内旋转安置槽的截面宽度小于等于下保持架的截面宽度，且在内旋转安置槽的两侧侧壁分别设置有两个弧状的外侧安置槽；所述的下保持环(36)从配合槽内向外包括依次连接的：上旋转连接部(36a)，所述的上旋转连接部(36a)位于内旋转安置槽内，且其两侧形成有呈等腰梯形状的配合凸起(36b)；中间缩口部(36c)，所述的中间缩口部(36c)的截面宽度小于上旋转连接部(36a)的截面宽度，；外接触部(36d)，所述的外接触部(36d)延伸出外扩槽且外接触部(36d)的截面宽度大于上旋转连接部(36a)的截面宽度；且所述的下保持环(36)通过下接触部与上旋转配合机构相抵配合。8.根据权利要求7所述的一种可调式反应釜，其特征在于，所述的上旋转配合机构包括：配合凸环(48)，所述的配合凸环(48)一体成型在驱动轴(4)最上部的调节支撑组件中上支撑盘(7)的上侧端面上，所述的配合凸环(48)与下保持环(36)同轴设置且配合凸环(48)的截面宽度大于下保持环(36)；旋转配合组件，在所述的配合凸环(48)的端面上设置有若干按圆周分布的安置孔，每个所述的安置孔上均设置有一个旋转配合组件；其中所述的旋转配合组件包括：配合底座(38)，所述的配合底座(38)螺纹固定在安置孔上，且配合底座(38)的上端面向内形成有阶梯孔；内配合块(39)，在所述的配合底座(38)没设置有内配合块(39)，且内配合块(39)位于阶梯孔的底部；上滚动接触组件，在所述的内支撑块的上部设置有上滚动接触组件；上旋转限位盖(40)，在所述的配合底座(38)上设置有限位上滚动接触组件的上旋转限位盖(40)。9.根据权利要求8所述的一种可调式反应釜，其特征在于，所述的上滚动接触组件包括：上摆动接触块(41)，所述的上摆动接触块(41)的侧壁呈球面，且所述的上旋转限位盖(40)上设置有与上摆动接触块(41)滚动配合的球面槽限位槽；上滚动球面槽，在所述的上摆动接触块(41)的上端设置有上削平部，在所述的上削平部向内形成有上滚动球面槽；上滚动组件，所述的上滚动组件设置在上滚动球面槽上；下滚动球面槽，在所述的上摆动接触块(41)的下端设置有下削平部，在所述的下削平部向内形成有下滚动球面槽；下滚动组件，所述的下滚动组件设置在下滚动球面槽上。10.根据权利要求9所述的一种可调式反应釜，其特征在于，还包括：控制台，所述的控制台上部设置有触摸屏，控制台的底部内设置有控制柜，所述的控制器内设置有控制器、控制电路及变频器，触摸屏与控制器通讯连接；液位传感器，在所述的釜体(1)内设置有检测釜体(1)内液位的液位传感器，且液位传
感器将检测到的数据传送至控制器内；所述的驱动电机(3)及下压驱动缸(33)均有控制器通过变频器控制运行；其中所述的控制器控制可调式反应釜的控制方法包括：搅拌组件数量确定，控制器根据液位传感器检测的到液位计算能产于搅拌的搅拌组件的最大数量后通过触摸屏显示；搅拌模式设定，通过触摸屏向控制器设定搅拌模式，搅拌模式设定包括搅拌阶段数设定、不同阶段参与搅拌的搅拌组件数量设定及不同阶段的持续时间及搅拌轴的转速设定；反应釜运行，控制器控制反应釜运行，在不同阶段通过驱动电机(3)实现搅拌的转速控制；并通过控制下压驱动缸(33)驱动端的伸出距离控制参与搅拌的搅拌组件数量。

技术总结
本发明属于反应釜技术领域，尤其涉及一种可调式反应釜及其控制方法；反应釜包括：釜体，釜体的上端带有可开启的釜盖，釜体的底部一侧设在有出料口，釜盖上端的一侧设置有进料口；驱动电机，釜体底部设置有驱动电机，驱动电机的电机轴延伸入釜体内；驱动轴，驱动轴位于釜体内，且与驱动电机的电机轴固定连接；温控组件，所述的温控组件包括加热与冷却盘管，加热与冷却盘管盘绕在釜体的内壁处，搅拌轴同轴设置在温控组件的中部；搅拌组件，若干搅拌组件等距设置在驱动轴上，且搅拌组件包括安置套筒及若干按圆周均匀分布在安置套筒外壁的搅拌叶；调节支撑组件，若干调节支撑组件等距分布在驱动轴上，且与搅拌组件交替分布。且与搅拌组件交替分布。且与搅拌组件交替分布。


技术研发人员：唐宏渊 黄伟平 何明炬 盛利 何琦 洪兴敏
受保护的技术使用者：浙江江北南海药业有限公司
技术研发日：2023.07.04
技术公布日：2023/8/24