显示面板及电子设备的制作方法

1.本技术涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示面板及电子设备。


背景技术：

2.目前oled显示面板越来越多的被应用在智能手机、平板电脑等消费型电子产品上，为了实现全面屏，一般都会将摄像头、距离感应器等光学传感器设置在屏下。为此，显示面板在制作过程中会切割形成一个用于容置和装配传感器的开孔区。
3.为了确保显示面板功能的稳定性，一般在显示面板出厂前模拟比实际使用时更加严苛的环境以对显示面板进行高温高湿信赖性测试。在高温高湿信赖性中，显示面板在会出现黑斑不良，导致高温高湿信赖性测试的良率不高，为此如何避免显示面板在高温高湿信赖性测试中出现的黑斑不良成为本领域技术人员急需要解决的技术问题。


技术实现要素：

4.为了克服上述技术背景中所提及的技术问题，本技术实施例提供一种显示面板及电子设备。
5.本技术的第一方面，提供一种显示面板，所述显示面板具有显示区、开孔区、隔离区及阻挡区；
6.所述隔离区及所述阻挡区位于所述显示区与所述开孔区之间，所述隔离区靠近所述显示区设置，所述阻挡区靠近所述开孔区设置；
7.所述阻挡区用于阻挡经由所述开孔区侵入所述显示面板的离子。
8.在上述结构中，通过在隔离区与开孔区之间设置阻挡区，可以阻止高温高湿信赖性测试中从开孔区侵入的腐蚀性离子进入到隔离区和显示区，以避免隔离区和显示区中的膜层被腐蚀性离子作用而发生膜层剥离(peeling)形成可供水汽侵入的缝隙，确保高温高湿信赖性测试中水汽不会侵入显示区造成黑斑不良，提高显示面板在高温高湿信赖性测试中的良率。
9.在本技术的一种可能实施例中，所述显示面板包括衬底、无机膜层及金属膜层，所述无机膜层和所述金属膜层位于所述衬底上；
10.所述阻挡区用于阻挡对所述无机膜层和所述金属膜层具有腐蚀性的离子。
11.在本技术的一种可能实施例中，所述无机膜层和所述金属膜层在所述衬底上的正投影与所述阻挡区不交叠。
12.在本技术的一种可能实施例中，在所述隔离区，所述衬底上设置有多个环绕所述开孔区的隔离柱，相邻的所述隔离柱之间设置有无机填充层，其中，所述隔离柱由所述金属膜层中的至少部分金属层制作而成，所述无机填充层由所述无机膜层中的至少部分膜层制作而成；
13.优选地，在所述开孔区指向所述显示区的方向，所述阻挡区的宽度为所述隔离柱宽度的2倍；
14.优选地，优选地，所述隔离柱的数量为6-7个。
15.在本技术的一种可能实施例中，所述显示面板还包括位于所述衬底上的离子阻挡层；
16.所述离子阻挡层在所述衬底上的正投影至少位于所述阻挡区；
17.优选的，所述离子阻挡层为绝缘层。
18.在本技术的一种可能实施例中，所述离子阻挡层包括填充于所述阻挡区的有机材料层。
19.在本技术的一种可能实施例中，所述显示面板还包括阵列驱动层，所述金属膜层包括所述阵列驱动层中的金属层；
20.所述阵列驱动层位于所述衬底上，所述阵列驱动层中的金属层在衬底上的正投影与所述阻挡区不交叠。
21.在本技术的一种可能实施例中，所述显示面板还包括位于所述阵列驱动层远离所述衬底一侧的像素器件层，所述金属膜层包括所述像素器件层中的像素阳极及阴极层；
22.所述像素阳极在所述显示区成阵列分布；
23.所述阴极层在所述衬底上的正投影与所述阻挡区不交叠。
24.在本技术的一种可能实施例中，所述显示面板还包括位于所述像素器件层远离所述衬底一侧的薄膜封装层，所述无机膜层包括所述薄膜封装层中的第一无机封装层及第二无机封装层，所述离子阻挡层包括所述薄膜封装层中的有机材料封装层和/或所述像素器件层中的有机材料层；
25.所述第一无机封装层和所述第二无机封装层在所述衬底的正投影位于所述显示区和所述隔离区，在所述显示区和所述隔离区，所述有机材料封装层位于所述第一无机封装层和所述第二无机封装层之间；
26.所述有机材料封装层和/或所述有机材料层在所述衬底的正投影位于所述显示区、所述隔离区及所述阻挡区。
27.本技术的第二方面，提供一种电子设备，所述电子设备包括第一方面中任意一种可能实施例中的显示面板。
28.本技术实施例提供的显示面板及电子设备，显示面板具有显示区、开孔区以及位于显示区和开孔区之间的隔离区及阻挡区，其中，阻挡区位于隔离区与开孔区之间，该阻挡区用于阻挡经由开孔区侵入显示面板的腐蚀性离子。在上述显示面板结构中，通过在隔离区与开孔区之间设置阻挡区，可以阻止高温高湿信赖性测试中从开孔区侵入的腐蚀性离子进入到隔离区和显示区，以避免隔离区和显示区中的膜层被腐蚀性离子作用而发生膜层剥离(peeling)形成可供水汽侵入的缝隙，确保高温高湿信赖性测试中水汽不会侵入显示区造成黑斑不良，提高显示面板在高温高湿信赖性测试中的良率。
附图说明
29.为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
30.图1示例了现有显示面板的区域分布图；
31.图2示例了图1隔离区的部分膜层结构的示意图；
32.图3示例了本实施例提供的显示面板的区域分布图；
33.图4示例了图3中隔离区及阻挡区的部分膜层结构示意图之一；
34.图5示例了如3中隔离区和阻挡区的结构分布示意图；
35.图6示例了图3中隔离区及阻挡区的部分膜层结构示意图之二；
36.图7示例了图3中隔离区及阻挡区的部分膜层结构示意图之三；
37.图8示例了图2中的显示面板与图7中的显示面板进行高温高湿信赖性测试和静电放电测试的测试结果比较示意图。
38.图标：10-显示面板；10a-显示区；10b-开孔区；10c-隔离区；10d-阻挡区；110-衬底；120-有机材料层；130-电极层；140-薄膜封装层；1401-第一无机封装层；1402-第二无机封装层；1403-有机材料封装层；200-隔离柱；300-电子阻挡层；400-无机填充层。
具体实施方式
39.为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
40.因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
41.应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
42.在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
43.需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术的实施例中的不同特征之间可以相互结合。
44.发明人通过对黑斑不良的显示面板进行拆解分析后发现，导致黑斑不良的主要原因之一为水汽侵入显示区，例如，可以是通过薄膜封装层中的无机封装层与相邻膜层之间的缝隙侵入显示区。对存在缝隙处的无机封装层进行膜层结构分析发现，该位置处的无机封装层存在膜层膨胀的情况。
45.下面结合附图，对导致隔离区的无机封装层的膜层膨胀的原因进行说明，图1示例了现有显示面板的区域分布图。显示面板10包括显示区10a、开孔区10b以及位于两者之间的隔离区10c。为了阻挡水汽经由隔离区10c进入显示区10a，在隔离区10c，隔离区10c可以设置具有一定高度的隔离柱，隔离柱采用可隔绝水汽的材料(比如，金属材料和无机材料)
制作而成，由于无机材料成膜厚度一般很薄，在现有技术中一般采用金属材料制作形成隔离柱。
46.如图2所示，隔离区10c还可以包括有机材料层120、电极层130及薄膜封装层140，有机材料层120可以在制作显示区10a中的有机发光材料层时形成，有机材料层120阵列分布在隔离区10c，有机材料层120可以部分位于隔离柱200上或部分位于隔离柱200之外的区域，电极层130与隔离区的隔离柱200均电连接，电极层130可以为阴极层。薄膜封装层140覆盖有机材料层120、电极层130及隔离柱200。
47.发明人进一步研究发现，在高温高湿信赖性测试中，偏光片中的正价离子(比如，钾+离子)会迁移，从开孔区的切割壁渗透进隔离区10c，金属离子会对隔离区10c中的无机材料层(比如，薄膜封装层140中的无机封装层)进行腐蚀，导致无机封装层膨胀，无机封装层和其相邻膜层出现peeling形成可供水汽侵入的缝隙，该缝隙可以由隔离区10c延伸至显示区10a，从而出现黑斑不良。可以理解的是，上述分析仅仅只是针对无机封装层被腐蚀导致的显示黑斑进行的分析，在实际测试过程中显示黑斑也可能由其它膜层(比如电极层130)被腐蚀导致而形成。
48.为了解决上述提及的问题，发明人创新性的设计以下技术方案，下面将结合附图对本技术的具体实现方案进行详细说明。所应说明的是，以上现有技术中的方案所存在的缺陷，均是发明人在经过实践并仔细研究后得出的结果，因此，上述技术问题的发现过程以及下文中本实施例针对上述问题所提出的解决方案，都应该是发明人在发明创造过程中对本技术做出的贡献，而不应当理解为本领域技术人员所公知的技术内容。
49.请参照图图3，图3示例了本实施例提供的显示面板的区域分布示意图。在本实施例中，显示面板10包括显示区10a、开孔区10b、隔离区10c及阻挡区10d。隔离区10c和阻挡区10d位于显示区10a与开孔区10b之间，隔离区10c靠近显示区10a设置，阻挡区10d靠近开孔区10b设置。换言之，阻挡区10d位于开孔区10b与隔离区10c之间，隔离区10c位于阻挡区10d与显示区10a之间。示例性地，在开孔区10b为圆形时，阻挡区10d可以为位于开孔区10b外的圆环区域，隔离区10c可以为位于阻挡区10d外的圆环区域。
50.在本实施例中，阻挡区10d用于阻挡经由开孔区10b侵入显示面板10的离子，其中，该离子对显示面板10中的膜层具有腐蚀性。
51.在上述结构中，通过在隔离区10c与开孔区10b之间设置阻挡区10d，可以阻止高温高湿信赖性测试中从开孔区10b侵入的腐蚀性离子进入到隔离区10c，以避免隔离区10c中的膜层被腐蚀性离子作用发生膜层剥离而形成可供水汽侵入的缝隙，确保高温高湿信赖性测试中水汽不会侵入显示区10a造成黑斑不良，提高显示面板10在高温高湿信赖性测试中的良率。
52.发明人发现，在高温高湿信赖性测试中，偏光片主要会释放正价离子(比如，钾离子)和负价离子(比如，碘离子和硫离子)，其中，正价离子会腐蚀无机膜层(比如，薄膜封装层中的无机封装层)，负价离子会腐蚀金属膜层(比如，阴极层)。释放的离子从开孔区10b的切割壁侵入显示面板10，为了避免离子对显示面板10中膜层的腐蚀性作用，本实施例设计如下的膜层结构。
53.在显示面板10中，显示面板10包括衬底110、无机膜层及金属膜层，其中，无机膜层和金属膜层位于衬底110上。阻挡区10d用于阻挡对显示面板10中的无机膜层和金属膜层具
有腐蚀性作用的离子。可以理解的是，这里的无机膜层是显示面板10中部分或者全部无机膜层的统称，同理地，金属膜层也是显示面板10中部分或者全部金属膜层的统称。
54.进一步地，为了避免无机膜层和金属膜层被腐蚀，可以将无机膜层和金属膜层设置在除阻挡区10d以外的区域，换言之，无机膜层和金属膜层在衬底110上的正投影与阻挡区不交叠。上述设计，一方面因金属膜层并不会位于开孔区10b的切割壁位置处，静电无法从切割壁进入显示面板10内，如此可以提升开孔区10b的抗静电能力；另一方面，上述膜层设计可以使需要开孔位置处的膜层结构的复杂度降低(不存在金属膜层和无机膜层)，在对显示面板10进行开孔时，不易出现诸如裂纹之类的不良现象，提高显示面板的制作良率。
55.请参照图4，为了实现阻挡区10d的阻挡作用，可以通过在阻挡区10d设置离子阻挡层300的方式实现对腐蚀性离子的阻挡作用，示例性地，离子阻挡层300至少位于阻挡区10d，换言之，离子阻挡层300在衬底110上的正投影至少位于阻挡区10d。在本实施例中，离子阻挡层300可以采用现有显示面板结构中的现有膜层制作而成，也可以采用另外新增的膜层制作而成。为了节省制作成本，一般需要制程工艺不变，为此，在本实施例中，离子阻挡层300优选采用现有显示面板结构中的现有膜层制作而成。
56.在本实施例中，为了避免离子阻挡层300传导静电，离子阻挡层300可以为绝缘层。
57.发明人结合前面对离子阻挡层300的功能要求分析后发现，离子阻挡层300可采用显示面板10中已有的有机材料层制而成，具体地，离子阻挡层300可包括填充在阻挡区10d的有机材料层。
58.请参照图5，图5示例了本实施例提供的阻挡区10d和隔离区10c的膜层分布示意图，隔离区10c可以具有多个环绕开孔区10b的隔离柱200、隔离柱200位于衬底110上，其中，隔离柱200因开孔区10b的形状不同而不同，例如，图2所示，在开孔区10b为圆形时，隔离柱200为圆环形。相邻的隔离柱200之间可以设置有无机填充层400，其中，隔离柱200可由金属膜层中的至少部分金属层制作而成，无机填充层400可由无机膜层中的至少部分膜层制作而成。
59.在本实施例中，在开孔区10d指向显示区10a的方向，阻挡区10d的宽度为隔离柱200宽度的2倍。
60.一般地，现有技术中，如图2所示的隔离柱10c的数量一般为8-9个，在本实施例中，可以将图2中隔离区10c靠近开口区10b位置处的隔离柱200去除，将去除隔离柱200的区域作为阻挡区10d，在该位置区域设置离子阻挡层300可以理解的是，本实施例中的阻挡区10d和隔离区10c在显示面板10中所占的面积可以和图2中的隔离区10c在显示面板10中所占的面积相同，环绕所述开孔区10b的隔离柱200的数量为6-7个。
61.下面结合显示面板的具体膜层结构，对各个膜层在不同区域的分布情况进行说明。
62.显示面板10还包括阵列驱动层，阵列驱动层位于衬底上，其中，本实施例中提及的金属膜层包括阵列驱动层中的金属层(比如，第一金属层m1、第二金属层m2及第三金属层m3)。阵列驱动层中的金属层在衬底上的正投影与阻挡区10d不交叠。阵列驱动层中的平坦化层可以延伸至阻挡区10d，用于形成离子阻挡层300或形成离子阻挡层300的一部分。
63.进一步地，显示面板10还包括位于阵列驱动层远离衬底一侧的像素器件层，本实施例中提及的金属膜层还可包括像素器件层中的像素阳极及阴极层，像素阳极在显示区
10a成阵列分布，阴极层在衬底上的正投影与阻挡区不交叠。示例性地，如图6所示，像素器件层中的有机材料层120可以用于形成离子阻挡层300或形成离子阻挡层300的一部分。
64.进一步地，请参照图7，显示面板10还包括位于像素器件层远离衬底一侧的薄膜封装层140，本实施例中提及的无机膜层包括薄膜封装层140中的第一无机封装层1401及第二无机封装层1402，离子阻挡层300包括薄膜封装层140中的有机材料封装层1403。第一无机封装层1401和第二无机封装层1402在衬底110的正投影位于显示区10a和隔离区10c，在显示区10b和隔离区10c，有机材料封装层1403位于第一无机封装层1401和第二无机封装层1402之间。
65.有机材料封装层1403在所述衬底110的正投影位于显示区10a、隔离区10c及阻挡区10d。有机材料封装层1403用于形成离子阻挡层300或形成离子阻挡层300的一部分。在本实施例中，有机材料封装层1403可以通过喷墨打印(ink jet print，简称ijp)方式制作而成。示例性地，离子阻挡层300可由有机材料层120和有机材料封装层1403形成。
66.发明人通过采用本实施例提供的显示面板(图7中显示面板)和现有技术中的显示面板(图3中显示面板)进行高温高湿信赖性测试和静电放电测试发现，请参照图8，在相同条件下，32片本实施例提供的显示面板出现黑斑不良的数量为0片，而32片现有技术中的显示面板出现黑斑不良的数量为10片。同时在进行静电放电测试时，10片本实施例提供的显示面板在15kv静电放电测试出现静电导致的黑斑不良的数量为0片，而10片现有技术中的显示面板在12kv静电放电测试出现黑斑不良的数量为5片。即本实施例提供的显示面板可以提高高温高湿信赖性测试中的良率及静电放电测试中的良率。
67.本技术实施例还提供一种电子设备，所述电子设备包括上面实施例中描述的显示面板，采用上述显示面板的电子设备可以保证在较为极端的工作环境下能够有良好的显示效果，以此可以提高产品的性能稳定性和市场竞争力。
68.本技术实施例提供的显示面板及电子设备，显示面板具有显示区、开孔区以及位于显示区和开孔区之间的隔离区及阻挡区，其中，阻挡区位于隔离区与开孔区之间，该阻挡区用于阻挡经由开孔区侵入显示面板的腐蚀性离子。在上述显示面板结构中，通过在隔离区与开孔区之间设置阻挡区，可以阻止高温高湿信赖性测试中从开孔区侵入的腐蚀性离子进入到隔离区和显示区，以避免隔离区和显示区中的膜层被腐蚀性离子作用而发生膜层剥离形成可供水汽侵入的缝隙，确保高温高湿信赖性测试中水汽不会侵入显示区造成黑斑不良，提高显示面板在高温高湿信赖性测试中的良率。
69.以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，对于本领域的技术人员来说，本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。

技术特征：
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板具有显示区、开孔区、隔离区及阻挡区；所述隔离区及所述阻挡区位于所述显示区与所述开孔区之间，所述隔离区靠近所述显示区设置，所述阻挡区靠近所述开孔区设置；所述阻挡区用于阻挡经由所述开孔区侵入所述显示面板的离子。2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括衬底、无机膜层及金属膜层，所述无机膜层和所述金属膜层位于所述衬底上；所述阻挡区用于阻挡对所述无机膜层和所述金属膜层具有腐蚀性的离子。3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述无机膜层和所述金属膜层在所述衬底上的正投影与所述阻挡区不交叠。4.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，在所述隔离区，所述衬底上设置有多个环绕所述开孔区的隔离柱，相邻的所述隔离柱之间设置有无机填充层，其中，所述隔离柱由所述金属膜层中的至少部分金属层制作而成，所述无机填充层由所述无机膜层中的至少部分膜层制作而成；优选地，在所述开孔区指向所述显示区的方向，所述阻挡区的宽度为所述隔离柱宽度的2倍；优选地，所述隔离柱的数量为6-7个。5.如权利要求2-4中任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述衬底上的离子阻挡层；所述离子阻挡层在所述衬底上的正投影至少位于所述阻挡区；优选的，所述离子阻挡层为绝缘层。6.如权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述离子阻挡层包括填充于所述阻挡区的有机材料层。7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括阵列驱动层，所述金属膜层包括所述阵列驱动层中的金属层；所述阵列驱动层位于所述衬底上，所述阵列驱动层中的金属层在衬底上的正投影与所述阻挡区不交叠。8.如权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述阵列驱动层远离所述衬底一侧的像素器件层，所述金属膜层包括所述像素器件层中的像素阳极及阴极层；所述像素阳极在所述显示区成阵列分布；所述阴极层在所述衬底上的正投影与所述阻挡区不交叠。9.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述像素器件层远离所述衬底一侧的薄膜封装层，所述无机膜层包括所述薄膜封装层中的第一无机封装层及第二无机封装层，所述离子阻挡层包括所述薄膜封装层中的有机材料封装层和/或所述像素器件层中的有机材料层；所述第一无机封装层和所述第二无机封装层在所述衬底的正投影位于所述显示区和所述隔离区，在所述显示区和所述隔离区，所述有机材料封装层位于所述第一无机封装层和所述第二无机封装层之间；
所述有机材料封装层和/或所述有机材料层在所述衬底的正投影位于所述显示区、所述隔离区及所述阻挡区。10.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求1-9中任意一项所述的显示面板。

技术总结
本申请实施例提供的显示面板及电子设备，涉及显示技术领域。显示面板具有显示区、开孔区以及位于显示区和开孔区之间的隔离区及阻挡区，其中，阻挡区位于隔离区与开孔区之间，该阻挡区用于阻挡经由开孔区侵入显示面板的腐蚀性离子。在上述显示面板结构中，通过在隔离区与开孔区之间设置阻挡区，可以阻止高温高湿信赖性测试中从开孔区侵入的腐蚀性离子进入到隔离区和显示区，以避免隔离区和显示区中的膜层被腐蚀性离子作用而发生膜层剥离形成可供水汽侵入的缝隙，确保高温高湿信赖性测试中水汽不会侵入显示区造成黑斑不良，提高显示面板在高温高湿信赖性测试中的良率。板在高温高湿信赖性测试中的良率。板在高温高湿信赖性测试中的良率。


技术研发人员：胡红刚 肖志慧
受保护的技术使用者：昆山国显光电有限公司
技术研发日：2023.04.11
技术公布日：2023/7/13