无水研磨滚筒抛光机的制作方法

1.本实用新型涉及研磨抛光机技术领域，特别是涉及无水研磨滚筒抛光机。


背景技术：

2.研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工。研磨可用于加工各种金属和非金属材料，加工的表面形状有平面，内、外圆柱面和圆锥面，凸、凹球面，螺纹，齿面及其他型面。抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度，而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的，粗抛时将大量钢球、石灰和磨料放在倾斜的罐状滚筒中，滚筒转动时，使钢球与磨料等在筒内随机地滚动碰撞以达到去除表面凸锋而减小表面粗糙度的目的。传统的抛光机都是设置成一台设备一个研磨抛光滚筒，批量生产时，影响产能，或者是一台设备并排设置数个研磨抛光滚筒，一起进行研磨处理，这样设计能够满足批量生产，但是设备占地面积大，排放多台时，需要大产地，导致场地成本大；有些设备将研磨抛光滚筒呈叠放形式设置，在设备上设置两至三层研磨抛光滚筒，采用叠放形式占地面积小，但是不方便上下料。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种无水研磨滚筒抛光机，以解决上述背景技术中提出的对于传统的抛光机都是设置成一台设备一个研磨抛光滚筒，批量生产时，影响产能，或者是一台设备并排设置数个研磨抛光滚筒，一起进行研磨处理，这样设计能够满足批量生产，但是设备占地面积大，排放多台时，需要大产地，导致场地成本大；有些设备将研磨抛光滚筒呈叠放形式设置，在设备上设置两至三层研磨抛光滚筒，采用叠放形式占地面积小，但是不方便上下料的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：无水研磨滚筒抛光机，包括机箱以及设于机箱内且两侧设有转盘的中心轴，中心轴一侧设有皮带轮，两转盘圆周边缘上相对应设有数块连接板，且相对应的两连接板上设有可独立旋转的转轴，转轴上设有研磨抛光滚筒；机箱上设有驱动中心轴正/反旋转的第一驱动单元以及同时驱动每一转轴带动研磨抛光滚筒正/反旋转进行研磨的第二驱动单元，机箱上还设有用于控制第一驱动单元驱动中心轴带动转盘旋转且控制第二驱动单元驱动转轴带动研磨抛光滚筒旋转研磨的plc控制装置；研磨抛光滚筒内设有用于筛选产品和研磨料的筛选系统；还包括用于研磨抛光滚筒定位的定位系统。
5.作为本实用新型的一种优选实施方式：筛选系统包括一筛选网，筛选网设于研磨抛光滚筒的对角上，以将研磨抛光滚筒内间隔呈两部分。
6.作为本实用新型的一种优选实施方式：转轴其中一端穿过连接板，且在转轴上安装有第一传动齿轮，于远离皮带轮一端的中心轴上设有通过链条传动于第一传动齿轮的数
个第二传动齿轮，且在第二驱动单元的输出端设有通过链条传动于其中一个第二传动齿轮的第三传动齿轮。
7.作为本实用新型的一种优选实施方式：中心轴上转动套设有旋转套筒，数个第二传动齿轮键连接于旋转套筒上。
8.作为本实用新型的一种优选实施方式：机箱是由若干连杆围成的支架，支架其中三侧围有防护板，支架另一侧设有卸料门。
9.作为本实用新型的一种优选实施方式：定位系统包括设于中心轴上且与连接板位置相对应的定位感应片，以及设于机箱上与plc控制装置电性连接、且与定位感应片相感应的数个传感装置。
10.作为本实用新型的一种优选实施方式：无水研磨滚筒抛光机还包括排气冷却系统，排气冷却系统包括设于研磨抛光滚筒的桶盖上的排气孔，桶盖上锁付有用于密封排气孔的密封盖。
11.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：通过在中心轴两侧设置转盘，并在转盘圆周边缘上相对应设有数块连接板，并在相对应设有数块连接板分别设置可单独旋转的转轴，将研磨抛光滚筒设置在转轴，本设备通过该设计，能够在同一机箱内设置多个独立运作的研磨抛光滚筒，优化了设备的布局，降低了设备的占地面积，减少了场地成本的支出，且一人可以操作多台设备，产能提高至75%以上，有效保障研磨抛光的效率，同时有效降低了人工成本，且设备能耗降低50%以上，为企业降本增效、节能减排注入新的潜力；并且数个研磨抛光滚筒的旋转，同时由同一个第二驱动单元进行驱动，有效保障每个研磨抛光滚筒稳定性，提高研磨抛光的品质；此外，还设置用于研磨抛光滚筒定位的定位系统，方便操作者上下料。
12.通过在研磨抛光滚筒内设置筛选系统，方便操作者将研磨抛光滚筒的研磨料和产品进行分离，提高下料和更换物料的速度，有效的保障设备的工作效率。
附图说明
13.图1为本实用新型的结构示意图；
14.图2为本实用新型去掉防护板后的结构示意图；
15.图3为本实用新型的左视图；
16.图4为本实用新型的右视图；
17.图5为本实用新型中研磨抛光滚筒的结构示意图；
18.图6为图4中a处的放大图。
实施方式
19.为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
20.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽
度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
21.请参阅提1至图6，本实施例提供一种无水研磨滚筒抛光机，包括机箱10以及设于机箱10内且两侧设有转盘201的中心轴20，机箱10是由若干连杆围成的支架101，支架101其中三侧围有防护板102，支架101另一侧设有卸料门103，设置防护板102避免设备工作时，内部的碎屑在高速旋转时飞溅到外部，防止伤人，有效保障人身安全，同时设置卸料门103方便操作者上下料，在支架101上设有用于安装中心轴20的中心轴轴承座104，在中心轴20一侧设有皮带轮202，两转盘201圆周边缘上相对应设有数块连接板203，在每个连接板203上末端设有转轴轴承座205，相对应的两连接板203上设有可独立旋转的转轴204，且转轴204安装在转轴轴承座205上，每根转轴204上设有研磨抛光滚筒206；此外，在机箱10上设有驱动中心轴20正/反旋转的第一驱动单元105以及同时驱动每一转轴204带动研磨抛光滚筒206正/反旋转进行研磨的第二驱动单元106；其中，每根转轴204其中一端穿过连接板203，且在转轴204上安装有第一传动齿轮2041，于远离皮带轮202一端的中心轴20上设有通过链条传动于第一传动齿轮2041的数个第二传动齿轮207，且在第二驱动单元106的输出端设有通过链条传动于其中一个第二传动齿轮207的第三传动齿轮1061；其中，中心轴20上转动套设有旋转套筒，数个第二传动齿轮207键连接于旋转套筒上，并在机箱10上设置可以控制第一驱动单元105驱动中心轴20带动转盘201旋转且控制第二驱动单元106驱动转轴204带动研磨抛光滚筒206旋转研磨的plc控制装置；
22.综上所述，工作时，通过plc控制装置控制第二驱动单元106运作，使得第三传动齿轮1061通过链条传动至旋转套筒，使得旋转套筒上的第二传动齿轮207通过链条传动至第一传动齿轮2041，进而使得每根转轴204带动研磨抛光滚筒206进行正/反转动，使得产品在研磨抛光滚筒206内进行研磨抛光，完成后，再由plc控制装置控制第二驱动单元106停止运作，同时控制第一驱动单元105运作，使得中心轴20带动转盘201旋转，使得转盘201带动每个研磨抛光滚筒206转动至卸料门103处，方便操作者上下料；通过在中心轴20两侧设置转盘201，并在转盘201圆周边缘上相对应设有数块连接板203，并在相对应设有数块连接板203分别设置可单独旋转的转轴204，将研磨抛光滚筒206设置在转轴204，本设备通过该设计，能够在同一机箱10内设置多个独立运作的研磨抛光滚筒206，降低了设备的占地面积，同时有效保障研磨抛光的效率，并且数个研磨抛光滚筒206的旋转，都是由同一个第二驱动单元106进行驱动，有效保障每个研磨抛光滚筒206稳定性，提高研磨抛光的品质。此外，需要说明的是，在本实施例中，第一驱动单元105和第二驱动单元106采用伺服电机，进而可以实现中心轴20和转轴204的正转或者是反转。
23.此外，本实用新型的一种优选实施方式，为了使得第一驱动单元105能够驱动中心轴20带动研磨抛光滚筒206定位在卸料门103处，其水研磨滚筒抛光机还包括用于研磨抛光滚筒206定位的定位系统，该定位系统包括设于中心轴20上且与连接板203位置相对应的定位感应片208，以及设于机箱10上与plc控制装置电性连接、且与定位感应片208相感应的数个传感装置107；在中心轴20设置数个与连接板203位置相对应的定位感应片208，当需要将每个研磨抛光滚筒206停止在卸料门103处时，通过plc控制装置控制与每个定位感应片208
相对应的传感装置107，当传感装置107感应到定位感应片208时，传感装置107将信号反馈至plc控制装置，由plc控制装置控制第一驱动单元105停止运作，使得对应的研磨抛光滚筒206定位在卸料门103处；通过设置定位系统，方便操作者上下料，提高工作的效率。
24.本实用新型的一种优选实施方式，为了方便操作者将研磨抛光滚筒206内的研磨料和产品分离，在研磨抛光滚筒206内设有用于筛选产品和研磨料的筛选系统。该筛选系统包括一筛选网2061，筛选网2061设于研磨抛光滚筒206的对角上，以将研磨抛光滚筒206内间隔呈两部分，研磨抛光滚筒206定位在卸料门103处后，操作者将研磨抛光滚筒206旋转180度，使得筛选网2061将处于水平方向，进而使得研磨料通过筛选网2061上的网孔流入至筛选网2061下端，而产品则留在筛选网2061上端，以实现研磨料和产品分离，通过在研磨抛光滚筒206内设置筛选系统，方便操作者将研磨抛光滚筒206的研磨料和产品进行分离，提高下料和更换物料的速度，有效的保障设备的工作效率。
25.本实用新型的一种优选实施方式，研磨抛光滚筒206可根据工艺需求配备排气冷却系统，排气冷却系统设于研磨抛光滚筒206的桶盖2063上，排气冷却系统包括设于研磨抛光滚筒206的桶盖2063上的排气孔2062，桶盖2063上锁付有用于密封排气孔的密封盖（图中未显示），打开密封盖（图中未显示）后，研磨抛光滚筒206内的气体从排气孔2062流出，使外侧的空气进入研磨抛光滚筒206内或将研磨抛光滚筒206内的气体排出，保障研磨抛光滚筒206内的气压与外侧的气压一致，进而可以快速打开桶盖2063，同时提高了作业安全性。
26.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施方式”、“一些实施方式”、“一个实施例”、“一些实施例”、“在一个可选实施例中”、“具体地”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
27.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

技术特征：
1.无水研磨滚筒抛光机，其特征在于，包括机箱以及设于机箱内且两侧设有转盘的中心轴，中心轴一侧设有皮带轮，两转盘圆周边缘上相对应设有数块连接板，且相对应的两连接板上设有可独立旋转的转轴，转轴上设有研磨抛光滚筒；机箱上设有驱动中心轴正/反旋转的第一驱动单元以及同时驱动每一转轴带动研磨抛光滚筒正/反旋转进行研磨的第二驱动单元，机箱上还设有用于控制第一驱动单元驱动中心轴带动转盘旋转且控制第二驱动单元驱动转轴带动研磨抛光滚筒旋转研磨的plc控制装置；研磨抛光滚筒内设有用于筛选产品和研磨料的筛选系统；还包括用于研磨抛光滚筒定位的定位系统。2.根据权利要求1所述的无水研磨滚筒抛光机，其特征在于，筛选系统包括一筛选网，筛选网设于研磨抛光滚筒的对角上，以将研磨抛光滚筒内间隔呈两部分。3.根据权利要求1所述的无水研磨滚筒抛光机，其特征在于，转轴其中一端穿过连接板，且在转轴上安装有第一传动齿轮，于远离皮带轮一端的中心轴上设有通过链条传动于第一传动齿轮的数个第二传动齿轮，且在第二驱动单元的输出端设有通过链条传动于其中一个第二传动齿轮的第三传动齿轮。4.根据权利要求3所述的无水研磨滚筒抛光机，其特征在于，中心轴上转动套设有旋转套筒，数个第二传动齿轮键连接于旋转套筒上。5.根据权利要求1所述的无水研磨滚筒抛光机，其特征在于，机箱是由若干连杆围成的支架，支架其中三侧围有防护板，支架另一侧设有卸料门。6.根据权利要求1所述的无水研磨滚筒抛光机，其特征在于，定位系统包括设于中心轴上且与连接板位置相对应的定位感应片，以及设于机箱上与plc控制装置电性连接、且与定位感应片相感应的数个传感装置。7.根据权利要求1所述的无水研磨滚筒抛光机，其特征在于，还包括排气冷却系统，排气冷却系统包括设于研磨抛光滚筒的桶盖上的排气孔，桶盖上锁付有用于密封排气孔的密封盖。

技术总结
本实用新型涉及研磨抛光机技术领域，特别是涉及无水研磨滚筒抛光机，包括机箱以及设于机箱内且两侧设有转盘的中心轴，中心轴一侧设有皮带轮，两转盘圆周边缘上相对应设有数块连接板，且相对应的两连接板上设有可独立旋转的转轴，转轴上设有研磨抛光滚筒；机箱上设有第一驱动单元和第二驱动单元，机箱上还设有PLC控制装置；研磨抛光滚筒内设有筛选系统；还包括用于研磨抛光滚筒定位的定位系统。本实用新型通过该设计，能够在同一机箱内设置多个独立运作的研磨抛光滚筒，降低了设备的占地面积，同时有效保障研磨抛光的效率，并且数个研磨抛光滚筒的旋转，都是由同一个第二驱动单元进行驱动，有效保障每个研磨抛光滚筒稳定性，提高研磨抛光的品质。研磨抛光的品质。研磨抛光的品质。


技术研发人员：谭长福
受保护的技术使用者：东莞鑫鼎盛智能研磨科技有限公司
技术研发日：2023.01.30
技术公布日：2023/7/17