一种Transwell小室操作装置

一种transwell小室操作装置
技术领域
1.本实用新型属于医疗器械技术领域，特别是涉及一种transwell小室操作装置。


背景技术：

2.transwell是一种迁移侵袭实验技术，利用通透性膜将不同成分的培养液隔离，从而观察细胞在培养液见的迁移和对膜的侵袭能力，这项技术的主要材料是带有多微孔膜的transwell小室(transwell chamber，transwell insert)，现有的transwell小室系统结构为多个transwell小室被置于多孔板中，在进行细胞培养操作时，对每孔中的小室进行操作，实验时将transwell小室放入培养板中，小室内称上室，培养板内称下室，上室内盛装上层培养液和细胞，下室内盛装下层培养液，上下层培养液以带有多微孔膜相隔。观察transwell小室底部滤膜上细胞的透过和对膜的侵袭能力。
3.中国实用新型cn208577728u公开了一种拼装型批量transwell小室操作装置，包括底座，设置有多个凹槽，小室支持板，设置在底座上，由几个亚支持板拼接而成，每个亚支持板上至少设置一个小室安装贯穿槽，让transwell小室的底部穿过并伸入至凹槽中，上盖盖在小室支持板上，通过拼装设计可以批量进行小室后续操作，但是对小室进行操作时，没有一个合适的放置地点，存放不当容易污染，甚至可能破坏小室底部的膜，也有可能因小室的乱放导致对应下室位置的混乱。


技术实现要素：

4.本实用新型解决的技术问题是现有技术中小室操作没有合适的临时存放地点，导致小室被污染、底膜被破坏、易与下室对应混乱造成交叉污染的问题。
5.本实用新型提供一种transwell小室操作装置，包括培养板、小室、上盖、底板，所述底板上阵列设置若干圆形凹槽，凹槽内放置下层培养液，所述培养板设置在底板上方，与底板一体成型，所述培养板内设置第一卡托，第一卡托低于培养板上表面，第一卡托为阵列设置若干圆柱形通孔，通孔与底板凹槽一一对应设置，通孔上端设置有台阶面，下端与凹槽连接，所述上盖盖合在培养板上，所述上盖内表面设置第二卡托，第二卡托为阵列设置的若干三足支架，作为小室操作的临时支架，所述小室为上端开口的杯状结构，小室上部镂空设置，下部放置上层培养液和细胞，底部设置滤膜封口，小室上端口和下部周向设置有水平向外延伸的第一边沿和第二边沿，第一边沿直径大于第二边沿，所述小室通过第一边沿卡接在第一卡托的通孔的台阶面上并伸入所述底板的凹槽内。
6.进一步的，所述小室上端面设置有倒u型提手，便于使用镊子夹取小室。
7.进一步的，所述三足支架包括左足、右足、前足，三足连线构成等边三角形，左足、右足、前足的上端设置有朝向三足支架内侧的半圆形凸起，与小室的第二边沿配合，三足支架的高度低于上盖高度。
8.进一步的，所述小室、培养板、底板、上盖的材料为pvc塑料或玻璃。
9.进一步的，所述小室、第一卡托、第二卡托上设置有一一对应的数字标号。
10.本实用新型具有如下有益效果：(1)本实用新型通过在上盖设置与第一卡托对应的第二卡托，作为小室操作的临时支架，并且在小室、第一卡托、第二卡托上设置有一一对应的数字标号，避免了实验过程中操作小室时，小室被污染、底膜被破坏、易与下室对应混乱、造成交叉污染的问题；同时第二卡托高度低于上盖高度，当上盖盖在培养板上时，不会与小室贴合，不会钩挂小室，也方便上盖拿起和盖合。(2)通过在第一卡托的圆形通孔内设置台阶面，当小室被放入通孔时，可以避免小室外壁与通孔内壁接触，造成污染。(3)通过在小室上端面设置提手，便于使用镊子将其从第一卡托中拿出，放入第二卡托。(4)为了节省超净台面的空间，便于操作，可以增大小室的上端口直径，小室下部与上端口之间的连接片倾斜设置，避免了现有技术中的拐角设计会对小室的底部造成遮挡的问题。
附图说明
11.图1、本实用新型transwell小室操作装置整体示意图。
12.图2、本实用新型transwell小室操作装置中小室示意图。
具体实施方式
13.为能清楚说明本方案的技术特点，下面通过具体实施方式，并结合其附图，对本方案进行阐述。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。
14.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
15.如图1和2所示，一种transwell小室操作装置，包括上盖1、培养板2、底板3、小室4。
16.底板3上阵列设置若干圆形的凹槽301，作为下室，凹槽301内放置下层培养液，培养板2设置在底板3上方，与底板3一体成型。培养板2内设置第一卡托，第一卡托低于培养板2上表面，第一卡托为阵列设置的若干圆柱形通孔201，通孔201与底板凹槽301一一对应设置，通孔201上端设置有台阶面，当小室4被放入通孔201时，可以避免小室4外壁与通孔201内壁接触，造成污染，通孔201下端与凹槽301连接，以免凹槽301太浅，盛放下层培养液时溢出。
17.上盖1盖合在培养板2上，上盖1内表面设置第二卡托，第二卡托为阵列设置的若干三足支架101，作为操作小室4的临时支架，避免了实验过程中操作小室4时，小室4被污染、底膜被破坏、易与下室对应混乱、造成交叉污染的问题；三足支架101包括左足、右足、前足，三足连线构成等边三角形，左足、右足、前足的上端设置有朝向三足支架内侧的半圆形凸起，与小室4的第二边沿403配合，三足支架101的高度低于上盖1的高度，当上盖1盖在培养板2上时，不会与小室4贴合，不会钩挂小室4，也方便上盖1拿起和盖合。
18.小室4为上端开口的杯状结构，小室4上部镂空设置，为细胞节省更多的空间使其更好的呼吸，为了节省超净台面的空间，便于操作，可以增大小室4的上端口直径，使其大于
下端口的直径，小室4下部与上端口之间的连接片倾斜设置，避免了现有技术中的拐角设计会对小室4的底部造成遮挡的问题。小室4下部放置上层培养液和细胞，底部设置滤膜封口，小室4的上端面设置有倒u型提手401，便于使用镊子夹取小室4，小室4上端口和下部周向设置有水平向外延伸的第一边沿402和第二边沿403，第一边沿402直径大于第二边沿403，小室4通过第一边沿402卡接在第一卡托的通孔201的台阶面上并伸入底板3的凹槽301内。
19.为了便于实验操作，小室4、培养板2、底板3、上盖1的材料为pvc塑料或玻璃，小室4、第一卡托、第二卡托上设置有一一对应的数字标号。
20.可以理解，本实用新型是通过一些实施例进行描述的，本领域技术人员知悉的，在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下，可以对这些特征和实施例进行各种改变或等效替换。另外，在本实用新型的教导下，可以对这些特征和实施例进行修改以适应具体的情况及材料而不会脱离本实用新型的精神和范围。因此，本实用新型不受此处所公开的具体实施例的限制，所有落入本技术的权利要求范围内的实施例都属于本实用新型所保护的范围内。

技术特征：
1.一种transwell小室操作装置，其特征在于，包括培养板、小室、上盖、底板，所述底板上阵列设置若干圆形凹槽，凹槽内放置下层培养液，所述培养板设置在底板上方，与底板一体成型，所述培养板内设置第一卡托，第一卡托低于培养板上表面，第一卡托为阵列设置的若干圆柱形的通孔，通孔与底板凹槽一一对应设置，通孔上端设置有台阶面，下端与凹槽连接，所述上盖盖合在培养板上，所述上盖内表面设置第二卡托，第二卡托为与第一卡托对应的阵列设置的若干三足支架，作为小室操作的临时支架，所述小室为上端开口的杯状结构，小室上部镂空设置，下部放置上层培养液和细胞，底部设置滤膜封口，小室上端口和下部周向设置有水平向外延伸的第一边沿和第二边沿，第一边沿直径大于第二边沿，所述小室通过第一边沿卡接在第一卡托的通孔的台阶面上并伸入所述底板的凹槽内。2.根据权利要求1所述的transwell小室操作装置，其特征在于，所述小室上端面设置有倒u型提手，便于使用镊子夹取小室。3.根据权利要求1所述的transwell小室操作装置，其特征在于，所述小室上端口直径大于下端口，小室下部与上端口之间的连接片倾斜设置。4.根据权利要求1所述的transwell小室操作装置，其特征在于，所述三足支架包括左足、右足、前足，三足连线构成等边三角形，左足、右足、前足的上端设置有朝向三足支架内侧的半圆形凸起，与小室的第二边沿配合，三足支架的高度低于上盖高度。5.根据权利要求1所述的transwell小室操作装置，其特征在于，所述小室、培养板、底板、上盖的材料为pvc塑料或玻璃。6.根据权利要求1所述的transwell小室操作装置，其特征在于，所述小室、第一卡托、第二卡托上设置有一一对应的数字标号。

技术总结
本实用新型提供一种Transwell小室操作装置，包括培养板、小室、上盖、底板，底板上阵列设置若干圆形凹槽，培养板设置在底板上方，与底板一体成型，培养板内设置第一卡托，第一卡托为阵列设置若干圆柱形通孔，通孔上端设置有台阶面，下端与凹槽连接，上盖盖合在培养板上，上盖内表面设置第二卡托，第二卡托为阵列设置的若干三足支架，小室为上端开口的杯状结构，小室上部镂空设置，底部设置滤膜封口，小室上端口和下部周向设置有水平向外延伸的第一边沿和第二边沿，小室通过第一边沿卡接在第一卡托的台阶面上并伸入底板的凹槽内。本实用新型设置第二卡托，避免实验过程中小室被污染、底膜被破坏、易与下室对应混乱、造成交叉污染的问题。题。题。


技术研发人员：黄婷娟 张春红 解军 刘志贞 赵虹
受保护的技术使用者：山西医科大学
技术研发日：2022.12.09
技术公布日：2023/7/20