一种硅片载板输送支撑装置及其工作方法与流程

1.本发明涉及输送运输技术领域，具体涉及一种硅片载板输送支撑装置及其工作方法。


背景技术：

2.硅片防止在硅片载板上运输时，会与硅片载板之间因为输送带的移动而发生抖动，抖动幅度过大会导致硅片边缘受到损失；而硅片在镀膜的过程中，硅片下端边缘处会出现绕膜现象，这一现象会导致硅片的质量受到影响；因此研发一种硅片载板输送支撑装置及其工作方法是很有必要的。


技术实现要素：

3.本发明的目的是提供一种硅片载板输送支撑装置。
4.为了解决上述技术问题，本发明提供了一种硅片载板输送支撑装置，包括：工作台、输送部、盖板、承载部和若干支撑调节件，所述盖板一端铰接在所述工作台的一侧；所述工作台适于对硅片进行镀膜工作；所述输送部可转动的设置在所述工作台的两侧，所述输送部适于驱动所述承载部水平移动；所述承载部呈框架结构，所述承载部适于承载硅片；若干所述支撑调节件环所述承载部周向设置，所述支撑调节件适于调节硅片和承载部的框架之间的间距。
5.作为优选，所述承载部包括：固定架、调节板和调节气缸，所述固定架呈矩形，且所述固定架内部中空；所述固定架上开设有一台阶槽，所述调节板可升降的设置在所述台阶槽内；所述调节气缸固定在所述固定架内，所述调节板固定在所述调节气缸的活动端；若干所述支撑调节件等间距固定在所述台阶槽内；所述调节板上开设有与所述支撑调节件相适配的通槽，且所述调节板与所述支撑调节件联动；其中，调节气缸驱动所述调节板向上移动至与硅片下表面相抵时，所述调节板能够避免硅片镀膜过程中产生绕镀现象；调节板向下移动时，适于挤压所述支撑调节件的活动端，所述支撑调节件适于向台阶槽吹风以清理台阶槽。
6.作为优选，所述支撑调节件包括：固定块和两联动条，所述固定块垂直固定在所述台阶槽内；两所述联动条的上端分别铰接在所述固定块的上端；所述调节板套设在所述固定块和两联动条外部；其中，调节板向下移动时，调节板适于挤压两联动条以铰接点为轴向固定块侧壁移动。
7.作为优选，所述支撑调节件还包括一活塞套，所述活塞套可滑动的套设在所述固定块外壁；所述固定块内部设置有一活塞筒仓，所述活塞筒仓内可滑动的设置有一活塞头；所述固定块上端开设有若干吸附孔，所述吸附孔与所述活塞筒仓连通；所述活塞头与所述活塞套联动；其中，活塞套向下移动时，带动所述活塞头同步向下移动，以使所述吸附孔能够负压吸附固定放置在固定块上端的硅片。
8.作为优选，两所述联动条与所述活塞套外壁相适配，其中，两联动条以铰接点为轴向远离所述固定块方向移动，所述活塞套在重力重用下向下滑动；两联动条以铰接点为轴向靠近所述固定块方向移动，两联动条适于挤压所述活塞套向上移动。
9.作为优选，所述固定块下端开设有一通槽；所述通槽内可滑动的设置有一吹风支撑件，所述吹风支撑件的两活动端分别与所述联动条铰接；其中，两联动条以铰接点为轴向固定块方向移动时，所述吹风支撑件的两活动端相向移动，以吹风清理所述台阶槽。
10.作为优选，所述吹风支撑件包括：吹风套筒和支撑柱塞，所述吹风套筒内部中空，所述支撑柱塞和所述吹风套筒相适配，且所述吹风套筒和所述支撑柱塞滑动密封；所述吹风套筒铰接在一个所述联动条下端，所述支撑柱塞铰接在另一个联动条下端；且所述吹风套筒外壁开设有若干出风孔；其中，支撑柱塞和吹风套筒相向移动时，所述支撑柱塞适于挤压吹风套筒内的空气流向台阶槽。
11.作为优选，所述工作台一侧固定有一竖直气缸，所述竖直气缸的活动端铰接在所述盖板上，所述竖直气缸适于驱动所述盖板打开或闭合。
12.作为优选，所述工作台的两侧分别开设有一工件槽，所述工件槽沿所述工作台的长度方向设置，所述输送部的活动端周向转动，以驱动承载部和硅片自工作台内向工作台外移动。
13.作为优选，所述输送部包括：输送电机、传动皮带和若干传动柱，若干所述传动柱等间距可转动的设置在所述工作台侧壁，且所述传动柱一端凸出所述工作台内壁；所述输送电机固定在所述工作台外壁，所述传动皮带套设在所述传动柱外壁和所述输送电机的转轴端部，输送电机适于驱动所述传动皮带周向转动，以驱动所述传动柱同步周向转动。
14.另一方面，本发明还提供了一种硅片载板输送支撑装置的工作方法，硅片放置在承载部上后，所述固定块上端与硅片相抵，所述调节气缸驱动所述调节板向下移动，以使所述活塞套能够向下滑动，活塞套带动所述活塞头同步向下滑动，以使所述吸附孔能够负压吸附硅片，从而提高了硅片随承载部移动的稳定性；竖直气缸驱动所述盖板盖合在工作台上后，所述输送部适于驱动承载部和硅片移动入工作台内，以便于对硅片进行镀膜工作；硅片移动至工作台内后，调节气缸驱动所述调节板向上移动至与硅片下表面相抵时，所述调节板能够避免硅片镀膜过程中产生绕镀现象；
调节板向下移动时，适于挤压所述联动条，使其以铰接点为轴向固定块移动，而两所述联动条同步驱动所述吹风套筒和所述支撑柱塞相向移动，所述支撑柱塞适于挤压吹风套筒内的空气流向台阶槽。
15.本发明的有益效果是，本发明的一种硅片载板输送支撑装置，通过承载部和支撑调节件的配合，在硅片放置在承载部上时，能够在运输承载部时防止硅片发生晃动；而在对硅片进行镀膜时，调节板向上移动与硅片相抵，能够避免绕镀现象；而镀膜结束后，又能够清理台阶槽；不仅提高了硅片运输的稳定性，同时，也提高了硅片镀膜过程中的质量，提高了工作效率。
16.本发明的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。
17.为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
附图说明
18.为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
19.图1是本发明的一种硅片载板输送支撑装置的优选实施例的立体图；图2是本发明的工作台和输送部的立体图；图3是本发明的承载部的立体图；图4是本发明的支撑调节件的立体图；图5是本发明的支撑调节件的纵截面剖视图。
20.图中：1、工作台；11、竖直气缸；12、工件槽；2、输送部；21、输送电机；22、传动皮带；23、传动柱；3、盖板；4、承载部；41、固定架；42、调节板；43、台阶槽；44、通槽；45、调节气缸；5、支撑调节件；51、固定块；52、联动条；53、活塞套；54、活塞筒仓；55、活塞头；56、吸附孔；57、吹风套筒；58、支撑柱塞；59、出风孔。
具体实施方式
21.为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
22.实施例一，如图1至图5所示，本发明提供了一种硅片载板输送支撑装置，包括：工作台1、输送部2、盖板3、承载部4和若干支撑调节件5，所述盖板3一端铰接在所述工作台1的一侧；所述盖板3向下移动并盖合在工作台1上时，所述工作台1适于对硅片进行镀膜工作；所述输送部2可转动的设置在所述工作台1的两侧，所述输送部2适于驱动所述承载部4水平
移动；所述工作台1的两侧分别开设有一工件槽12，所述工件槽12沿所述工作台1的长度方向设置，所述输送部2的活动端周向转动，以驱动承载部4和硅片自工作台1内向工作台1外移动。工作台1的两侧对称开设的两工件槽12，能够使得承载部4带动硅片水平移动向工作台1内部，而所述输送部2的设置，使得工件在移动向工作台1内时更加的平稳稳定。所述承载部4呈框架结构，所述承载部4适于承载硅片；若干所述支撑调节件5环所述承载部4周向设置，所述支撑调节件5适于调节硅片和承载部4的框架之间的间距。承载部4和支撑调节件5的配合，在工件放置在固定架41内时，固定块51能够负压吸附硅片，防止工件在移动的过程中，与固定架41发生碰撞，提高了硅片在固定架41内放置时的稳定性；而硅片在镀膜时，调节板42向上移动并于硅片底壁相抵，避免了硅片在镀膜时出现绕膜现象，提高了工作效率和镀膜质量。
23.为了便于支撑限位硅片，所述承载部4包括：固定架41、调节板42和调节气缸45，所述固定架41呈矩形，且所述固定架41内部中空；所述固定架41上开设有一台阶槽43，所述调节板42可升降的设置在所述台阶槽43内；所述调节气缸45固定在所述固定架41内，所述调节气缸45下端不会凸出所述固定架41的下底面；所述调节板42固定在所述调节气缸45的活动端；所述调节气缸45适于驱动所述调节板42在所述台阶槽43内竖直上下移动；而所述调节板42内部中空呈与固定架41一致的矩形，且所述调节板42的内侧壁与所述固定架41的内侧壁共面；若干所述支撑调节件5等间距固定在所述台阶槽43内；所述调节板42上开设有与所述支撑调节件5相适配的通槽44，且所述调节板42与所述支撑调节件5联动；其中，调节气缸45驱动所述调节板42向上移动至与硅片下表面相抵时，所述调节板42能够避免硅片镀膜过程中产生绕镀现象；所述调节板42向下移动时，适于挤压所述支撑调节件5的活动端，所述支撑调节件5适于向台阶槽43吹风以清理台阶槽43。调节板42向下移动时，调节板42推动两所述联动条52，使其以铰接点为轴向固定块51方向移动；所述吹风套筒57和所述支撑柱塞58相向移动，以对台阶槽43内吹风以清洁台阶槽43。在硅片放置在固定块51上方后，调节板42向上移动，此时，两所述联动条52以铰接点为轴向外移动，此时，两所述联动条52失去对活塞套53的挤压，所述活塞套53竖直向下滑动，以使所述吸附孔56能够负压吸附硅片，从而避免了硅片在固定架41上移动时发生晃动，提高了硅片在固定架41内移动时的稳定性。
24.为了实现支撑固定硅片，所述支撑调节件5包括：固定块51和两联动条52，所述固定块51垂直固定在所述台阶槽43内；两所述联动条52的上端分别铰接在所述固定块51的上端；所述联动条52与所述固定块51之间的铰接轴上固定有一扭簧，所述扭簧适于推动所述联动条52，使其下端向远离所述固定块51的方向移动；所述调节板42套设在所述固定块51和两联动条52外部；其中，调节板42向下移动时，调节板42适于挤压两联动条52以铰接点为轴向固定块51侧壁移动。所述联动条52与所述活塞套53联动，两所述联动条52向外张开移动时，所述活塞套53适于沿所述固定块51竖直向下滑动；而两所述联动条52相向向内收缩时，所述联动条52适于挤压所述活塞套53使其向上移动。
25.为了提高硅片在固定块51上的稳定性，所述支撑调节件5还包括一活塞套53，所述活塞套53可滑动的套设在所述固定块51外壁；所述固定块51内部设置有一活塞筒仓54，所述活塞筒仓54内可滑动的设置有一活塞头55；所述活塞筒仓54的一侧壁开设有一竖直槽，所述活塞头55外壁固定有一连接块，所述连接块可滑动的设置在所述竖直槽内，所述连接块另一端固定在所述活塞套53内壁，且所述活塞套53与所述固定块51滑动密封；活塞套53
向下移动时，适于带动所述活塞头55同步向下移动，活塞套53向下移动至最下端时，竖直槽的最上端仍位于活塞套53内，从而保证了竖直槽的密封性。所述固定块51上端开设有若干吸附孔56，所述吸附孔56与所述活塞筒仓54连通；所述活塞头55与所述活塞套53联动；其中，活塞套53向下移动时，带动所述活塞头55同步向下移动，以使所述吸附孔56能够负压吸附固定放置在固定块51上端的硅片；而通过吸附孔56吸附固定硅片，能够使得硅片随固定架41水平移动时，硅片不会相对固定架41发生晃动，提高了硅片水平移动时的稳定性。
26.优选的，两所述联动条52与所述活塞套53外壁相适配，其中，两联动条52以铰接点为轴，被扭簧推动向远离所述固定块51方向移动，所述活塞套53在重力作用下向下滑动；活塞套53带动所述活塞头55同步带动所述活塞头55向下移动，而此时，吸附孔56与硅片底壁相抵，因此，活塞筒仓54内形成负压时适于吸附固定硅片。两联动条52以铰接点为轴向靠近所述固定块51方向移动，两联动条52适于挤压所述活塞套53使其向上移动。
27.为了便于清理台阶槽43，所述固定块51下端开设有一通槽44；所述通槽44内可滑动的设置有一吹风支撑件，所述吹风支撑件的两活动端分别与所述联动条52铰接；其中，两联动条52以铰接点为轴向固定块51方向移动时，所述吹风支撑件的两活动端相向移动，以吹风清理所述台阶槽43。所述吹风支撑件包括：吹风套筒57和支撑柱塞58，所述吹风套筒57内部中空，所述支撑柱塞58和所述吹风套筒57相适配，且所述吹风套筒57和所述支撑柱塞58滑动密封；所述吹风套筒57铰接在一个所述联动条52下端，所述支撑柱塞58铰接在另一个联动条52下端；所述吹风套筒57和所述支撑柱塞58分别可滑动的设置在所述通槽44内；所述吹风套筒57外壁开设有若干出风孔59；所述吹风套筒57设置在所述固定块51靠近所述台阶槽43的内侧壁的一端，其中，调节板42向下移动时，所述调节板42挤压两所述联动条52，以使两所述联动条52以铰接点为轴向固定块51方向移动，两所述调节条同步带动所述支撑柱塞58和所述吹风套筒57相向移动时，所述支撑柱塞58适于挤压吹风套筒57内的空气流向台阶槽43。而对于尺寸小于调节板42内圈的尺寸时，所述调节板42向上移动至最上端，此时，两所述联动条52以铰接点为轴向外张开，联动条52带动所述支撑柱塞58，使其外端部凸出所述固定架41的内侧壁，从而能够起到支撑硅片的效果。
28.为了便于盖合工作台1，所述工作台1一侧固定有一竖直气缸11，所述竖直气缸11的活动端铰接在所述盖板3上，所述竖直气缸11适于驱动所述盖板3打开或闭合。盖板3与工作台1的交接点设置在盖板3与竖直气缸11活动端的铰接点的内侧，因此，竖直气缸11活动端向上移动时，适于驱动所述盖板3向下移动以盖合工作台1。
29.为了便于运输硅片，所述输送部2包括：输送电机21、传动皮带22和若干传动柱23，若干所述传动柱23等间距可转动的设置在所述工作台1侧壁，且所述传动柱23一端凸出所述工作台1内壁；承载部4沿工件槽12滑动至工作台1内部时，所述传动柱23适于从下端支撑承载部4，并驱动承载部4在工作台1内水平移动；所述输送电机21固定在所述工作台1外壁，所述传动皮带22套设在所述传动柱23外壁和所述输送电机21的转轴端部，输送电机21适于驱动所述传动皮带22周向转动，以驱动所述传动柱23同步周向转动。
30.实施例二，本实施例在实施例一的基础上，还提供了一种硅片载板输送支撑装置的工作方法，包括如实施例一所述的一种硅片载板输送支撑装置，具体结构与实施例一相同，此处不再赘述，具体的一种硅片载板输送支撑装置的工作方法如下：硅片放置在承载部4上后，所述固定块51上端与硅片相抵，所述调节气缸45驱动所
述调节板42向下移动，以使所述活塞套53能够向下滑动，活塞套53带动所述活塞头55同步向下滑动，以使所述吸附孔56能够负压吸附硅片，从而提高了硅片随承载部4移动的稳定性；竖直气缸11驱动所述盖板3盖合在工作台1上后，所述输送部2适于驱动承载部4和硅片移动入工作台1内，以便于对硅片进行镀膜工作；硅片移动至工作台1内后，调节气缸45驱动所述调节板42向上移动至与硅片下表面相抵时，所述调节板42能够避免硅片镀膜过程中产生绕镀现象；调节板42向下移动时，适于挤压所述联动条52，使其以铰接点为轴向固定块51移动，而两所述联动条52同步驱动所述吹风套筒57和所述支撑柱塞58相向移动，所述支撑柱塞58适于挤压吹风套筒57内的空气流向台阶槽43。
31.本技术中选用的各个器件（未说明具体结构的部件）均为通用标准件或本领域技术人员知晓的部件，其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知。并且，本技术所涉及的软件程序均为现有技术，本技术不涉及对软件程序作出任何改进。
32.在本发明实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
33.在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
34.在本技术所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的系统、装置和方法，可以通过其它的方式实现。以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，又例如，多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些通信接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。
35.所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。
36.另外，在本发明各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。
37.以上述依据本发明的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。

技术特征：
1.一种硅片载板输送支撑装置，其特征在于，包括：工作台（1）、输送部（2）、盖板（3）、承载部（4）和若干支撑调节件（5），所述盖板（3）一端铰接在所述工作台（1）的一侧；所述工作台（1）适于对硅片进行镀膜工作；所述输送部（2）可转动的设置在所述工作台（1）的两侧，所述输送部（2）适于驱动所述承载部（4）水平移动；所述承载部（4）呈框架结构，所述承载部（4）适于承载硅片；若干所述支撑调节件（5）环所述承载部（4）周向设置，所述支撑调节件（5）适于调节硅片和承载部（4）的框架之间的间距；所述承载部（4）包括：固定架（41）、调节板（42）和调节气缸（45），所述固定架（41）呈矩形，且所述固定架（41）内部中空；所述固定架（41）上开设有一台阶槽（43），所述调节板（42）可升降的设置在所述台阶槽（43）内；所述调节气缸（45）固定在所述固定架（41）内，所述调节板（42）固定在所述调节气缸（45）的活动端；若干所述支撑调节件（5）等间距固定在所述台阶槽（43）内；所述调节板（42）上开设有与所述支撑调节件（5）相适配的通槽（44），且所述调节板（42）与所述支撑调节件（5）联动；其中，调节气缸（45）驱动所述调节板（42）向上移动至与硅片下表面相抵时，所述调节板（42）能够避免硅片镀膜过程中产生绕镀现象；调节板（42）向下移动时，适于挤压所述支撑调节件（5）的活动端，所述支撑调节件（5）适于向台阶槽（43）吹风以清理台阶槽（43）。2.如权利要求1所述的一种硅片载板输送支撑装置，其特征在于，所述支撑调节件（5）包括：固定块（51）和两联动条（52），所述固定块（51）垂直固定在所述台阶槽（43）内；两所述联动条（52）的上端分别铰接在所述固定块（51）的上端；所述调节板（42）套设在所述固定块（51）和两联动条（52）外部；其中，调节板（42）向下移动时，调节板（42）适于挤压两联动条（52）以铰接点为轴向固定块（51）侧壁移动。3.如权利要求2所述的一种硅片载板输送支撑装置，其特征在于，所述支撑调节件（5）还包括一活塞套（53），所述活塞套（53）可滑动的套设在所述固定块（51）外壁；所述固定块（51）内部设置有一活塞筒仓（54），所述活塞筒仓（54）内可滑动的设置有一活塞头（55）；所述固定块（51）上端开设有若干吸附孔（56），所述吸附孔（56）与所述活塞筒仓（54）连通；所述活塞头（55）与所述活塞套（53）联动；其中，活塞套（53）向下移动时，带动所述活塞头（55）同步向下移动，以使所述吸附孔（56）能够负压吸附固定放置在固定块（51）上端的硅片。4.如权利要求3所述的一种硅片载板输送支撑装置，其特征在于，
两所述联动条（52）与所述活塞套（53）外壁相适配，其中，两联动条（52）以铰接点为轴向远离所述固定块（51）方向移动，所述活塞套（53）在重力重用下向下滑动；两联动条（52）以铰接点为轴向靠近所述固定块（51）方向移动，两联动条（52）适于挤压所述活塞套（53）向上移动。5.如权利要求4所述的一种硅片载板输送支撑装置，其特征在于，所述固定块（51）下端开设有一通槽（44）；所述通槽（44）内可滑动的设置有一吹风支撑件，所述吹风支撑件的两活动端分别与所述联动条（52）铰接；其中，两联动条（52）以铰接点为轴向固定块（51）方向移动时，所述吹风支撑件的两活动端相向移动，以吹风清理所述台阶槽（43）。6.如权利要求5所述的一种硅片载板输送支撑装置，其特征在于，所述吹风支撑件包括：吹风套筒（57）和支撑柱塞（58），所述吹风套筒（57）内部中空，所述支撑柱塞（58）和所述吹风套筒（57）相适配，且所述吹风套筒（57）和所述支撑柱塞（58）滑动密封；所述吹风套筒（57）铰接在一个所述联动条（52）下端，所述支撑柱塞（58）铰接在另一个联动条（52）下端；且所述吹风套筒（57）外壁开设有若干出风孔（59）；其中，支撑柱塞（58）和吹风套筒（57）相向移动时，所述支撑柱塞（58）适于挤压吹风套筒（57）内的空气流向台阶槽（43）。7.如权利要求6所述的一种硅片载板输送支撑装置，其特征在于，所述工作台（1）一侧固定有一竖直气缸（11），所述竖直气缸（11）的活动端铰接在所述盖板（3）上，所述竖直气缸（11）适于驱动所述盖板（3）打开或闭合。8.如权利要求7所述的一种硅片载板输送支撑装置，其特征在于，所述工作台（1）的两侧分别开设有一工件槽（12），所述工件槽（12）沿所述工作台（1）的长度方向设置，所述输送部（2）的活动端周向转动，以驱动承载部（4）和硅片自工作台（1）内向工作台（1）外移动。9.如权利要求8所述的一种硅片载板输送支撑装置，其特征在于，所述输送部（2）包括：输送电机（21）、传动皮带（22）和若干传动柱（23），若干所述传动柱（23）等间距可转动的设置在所述工作台（1）侧壁，且所述传动柱（23）一端凸出所述工作台（1）内壁；所述输送电机（21）固定在所述工作台（1）外壁，所述传动皮带（22）套设在所述传动柱（23）外壁和所述输送电机（21）的转轴端部，输送电机（21）适于驱动所述传动皮带（22）周向转动，以驱动所述传动柱（23）同步周向转动。10.一种硅片载板输送支撑装置的工作方法，其特征在于，包括如权利要求9所述的一种硅片载板输送支撑装置，硅片放置在承载部（4）上后，所述固定块（51）上端与硅片相抵，所述调节气缸（45）驱动所述调节板（42）向下移动，以使所述活塞套（53）能够向下滑动，活塞套（53）带动所述活塞头（55）同步向下滑动，以使所述吸附孔（56）能够负压吸附硅片，从而提高了硅片随承载部（4）移动的稳定性；竖直气缸（11）驱动所述盖板（3）盖合在工作台（1）上后，所述输送部（2）适于驱动承载部（4）和硅片移动入工作台（1）内，以便于对硅片进行镀膜工作；
硅片移动至工作台（1）内后，调节气缸（45）驱动所述调节板（42）向上移动至与硅片下表面相抵时，所述调节板（42）能够避免硅片镀膜过程中产生绕镀现象；调节板（42）向下移动时，适于挤压所述联动条（52），使其以铰接点为轴向固定块（51）移动，而两所述联动条（52）同步驱动所述吹风套筒（57）和所述支撑柱塞（58）相向移动，所述支撑柱塞（58）适于挤压吹风套筒（57）内的空气流向台阶槽（43）。

技术总结
本发明涉及输送运输技术领域，具体涉及一种硅片载板输送支撑装置及其工作方法。本发明提供了一种硅片载板输送支撑装置，包括：工作台、输送部、盖板、承载部和若干支撑调节件，盖板一端铰接在工作台的一侧；工作台适于对硅片进行镀膜工作；输送部可转动的设置在工作台的两侧，输送部适于驱动承载部水平移动；承载部呈框架结构，承载部适于承载硅片；若干支撑调节件环承载部周向设置，支撑调节件适于调节硅片和承载部的框架之间的间距。在运输承载部时防止硅片发生晃动；而在对硅片进行镀膜时，调节板向上移动与硅片相抵，能够避免绕镀现象；提高了工作效率。提高了工作效率。提高了工作效率。


技术研发人员：贾广春 庄正军 邹开峰 上官泉元
受保护的技术使用者：常州比太科技有限公司
技术研发日：2023.06.20
技术公布日：2023/7/22