处理腔室及基板处理装置的制作方法

1.本发明涉及一种在内部空间收容被处理基板的处理腔室及使用所述处理腔室的基板处理装置，尤其涉及一种腔室主体的上部开口并对其开口利用开闭自如的盖体加以覆盖的结构的处理腔室。


背景技术：

2.例如，在半导体基板、显示装置用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板等各种基板的制造工序中，大多使用将被处理基板收容于处理腔室内进行的处理。根据处理的目的，提出有各种腔室结构。例如，专利文献1中记载的技术涉及一种对基板进行热处理的装置，所述热处理装置具有在处理腔室内设置有加热板的结构。在其中所记载的处理腔室中，除了在腔室侧面设有用于在通常的处理工序中供被处理基板出入的挡板以外，为了能够进行内部的维护作业，还将处理腔室的顶板构成为能够开闭的盖体。关于用于使所述盖体自动开闭的机构，并未提及，认为是手动进行。
3.另一方面，在专利文献2中，记载有使处理腔室的盖体自动开闭的机构。即，在所述文献中，公开有通过将处理腔室的顶板吊起并使其沿水平方向移动而退避，从而将处理腔室上部的开口设为开放状态的机构。
4.[现有技术文献]
[0005]
[专利文献]
[0006]
[专利文献1]日本专利特开2013-061081号公报
[0007]
[专利文献2]日本专利特开2020-096061号公报


技术实现要素：

[0008]
[发明所要解决的问题]
[0009]
关于专利文献2中记载的机构，装置的规模大，另外需要用于供顶板退避的空间。在处理的基板为大尺寸等盖体具有人力无法移动的程度的大小或者重量的情况下，需要此种机构。另一方面，在盖体为能够手动移动的程度的重量的情况下，如专利文献1中记载的技术那样盖体以铰链为轴摆动的形式在零件数量或设置空间方面有利。在此情况下，例如也为了应对基板的大型化，更优选为通过动力辅助手动进行的开闭作业，或者装配用于使盖体自动开闭的机构，这一方面没有改变。
[0010]
对于所述那样的处理腔室的盖体的开闭中所应用的机构，有以下那样的应考虑的情况。即，开闭是为了腔室内的维护而进行的操作，因此，在打开状态下作业人员需要从外部探入(access)腔室内，因此，期望盖体的最大开度尽可能大。进而，更优选为能够在任意开度停止的结构。
[0011]
另外，并不特别需要开闭的高速性，另一方面，必须避免有可能对腔室内造成污染的灰尘等。因此，开闭速度可为比较低的速度。而且，尤其是当开闭机构在关闭盖体的方向上工作时，需要采取措施，以事先防止作业人员会被误夹在盖体与腔室主体之间的事故。
[0012]
另外，作为产生维护的必要性的状况，包括停电等装置无法正确运行的情况。在此种状态下，也要求能够通过其他手段、例如手动来打开盖体。另外，即便在开闭动作的中途开闭机构停止的情况下，也必须避免已打开的盖体会突然关闭那样的事态。
[0013]
若不限定应用对象，则关于用于使门或盖体等可动构件自动开闭的机构，提出了各种方案并被实用化。但是，有如下状况：不可以说能够应对所述那样的要求、且能够适宜地用作处理腔室的盖体的开闭机构的结构已确立。
[0014]
本发明是鉴于所述课题而成，目的在于提供一种能够应对作为使处理腔室的盖体自动开闭的机构而要求的各种要求的技术。
[0015]
[解决问题的技术手段]
[0016]
本发明的一实施例是用于在内部空间收容被处理基板并实施规定的处理的处理腔室，所述处理腔室包括：腔室主体，在上部具有开口并设有能够收容所述被处理基板的内部空间；盖部，具有从上方覆盖并封闭所述开口的盖体；铰链部，使所述盖部绕大致水平的摆动轴摆动自如地与所述腔室主体结合；以及开闭部，使所述盖部绕所述摆动轴摆动，并在所述盖体抵接于所述腔室主体的上部而覆盖所述开口的关闭状态、与所述盖体从所述开口远离而使所述开口开放的打开状态之间进行切换。此处，所述开闭部具有与所述盖部中不在所述摆动轴上的抵接部位抵接的可动构件、以及对所述可动构件进行移动定位的驱动机构，所述可动构件在所述盖体从所述打开状态趋向所述关闭状态时所述抵接部位进行位移的路径上且在所述位移方向上比所述抵接部位更靠前方的位置，相对于所述抵接部位分离抵接自如地设置，并通过与所述抵接部位抵接来限制所述抵接部位向所述位移方向的位移，所述驱动机构使所述可动构件沿着所述路径移动，而使所述可动构件与所述抵接部位抵接时的所述可动构件的位置发生变化。
[0017]
此处所述的“盖部”是如下用语，所述用语是指至少包含覆盖腔室主体的开口的盖体、进而在存在与盖体一体地摆动的构件的情况下还包含所述构件的概念。另外，所谓“分离抵接自如”，是指如下状态：从可动构件与抵接部位抵接的状态，这些中的一者要向离开另一者的方向移动时，实质上没有另一者成为负荷而限制所述动作的情况。这可包括两者不卡合而是单纯地仅表面抵接的非卡合状态、以及即便彼此卡合或连结也通过轻微的外力离开而解除所述卡合等那样的状态此两种状态。
[0018]
在如此构成的发明中，开闭部具有对要从打开状态移行到关闭状态的盖部的动作进行限制的功能。即，在盖部因自重而绕摆动轴摆动并要从打开状态向关闭状态迁移时，在伴随盖部的位移而进行位移的抵接部位的前方，配置有开闭部的可动构件。由此，在抵接部位与可动构件抵接的时间点，抵接部位的位移受到限制。即，盖部向关闭方向的位移受到限制。另一方面，可动构件相对于抵接部位分离抵接自如。因此，例如，在盖部因外力而向打开方向进行位移时，可动构件从抵接部位离开，没有限制抵接构件的位置的功能。
[0019]
换句话说，可动构件通过与抵接部位抵接来规定盖部相对于腔室主体的打开量的最小值(以下，称为“最小开度”)，并克服要减小盖部的打开量的外力(例如重力)，另一方面，不会对要增大打开量的外力造成影响。即，可动构件只是单纯地对在通常动作中因自重而要关闭的盖部进行支撑。
[0020]
而且，在开闭部中，通过驱动机构使可动构件移动，能够变更所述最小开度。具体而言，通过以使最小开度增加的方式移动可动构件，从而盖部的打开量随之变大。相反，当
以使最小开度减少的方式移动可动构件时，盖部的打开量变小。如此，通过开闭部的可动构件移动，能够使盖部的打开量的大小发生变化，由此，实现盖体在覆盖腔室主体的开口的关闭状态、与使开口开放的打开状态之间的迁移。即，盖体相对于腔室主体的开口的开闭能够不依赖人工作业而自动进行。
[0021]
在此种动作的任一时间点，对于超过最小开度而要打开盖部的外部因素，开闭部都不会造成影响。因此，开闭部不会抵抗例如作业人员手动打开盖部的操作。因此，例如即便在切断对装置的电力供给的状态下，也能够手动打开盖部。
[0022]
另外，例如，在通过开闭部关闭盖部时，即便在腔室主体与盖部之间夹住了某些物体，要进一步强制关闭盖部的力也不会起作用。例如，即便在作业人员打开盖部并探入腔室主体内时开闭部运行，在作业人员的身体接触的时间点，盖部的动作也会停止，关闭方向上的驱动力不会进一步起作用。所述情况会提高维护作业中的安全性。
[0023]
如此，本发明的开闭部对盖体施加用于使其从关闭状态向打开状态迁移的驱动力，另一方面，对因自重而要从打开状态趋向关闭状态的盖体施加限制其的制动力。由此，实现盖体相对于腔室主体的开口的自动开闭。
[0024]
换句话说，开闭部利用杠杆原理进行盖体的开闭。因此，即便可动构件的可动范围小，也能够将盖体大地打开。即，能够大地取得盖体的最大开度。而且，在可动构件停止的状态下，因自重而要趋向关闭状态的盖体的位移也受到限制，因此通过停止驱动机构进行的驱动，能够将盖体维持为任意开度。
[0025]
此种机构未必适合于使盖体以高速开闭的用途，但若鉴于所述要求，反而合适。而且，由于开闭部不给予向关闭盖体的方向的驱动力，因此即便在假设人体或物品可能夹在盖体与腔室主体之间的状态下，也不会对盖体作用重力以上的力。另外，还获得了通过可动构件向抵接部位的抵接来限制盖体的位移的效果。
[0026]
另外，开闭部不会对要打开盖体的外力以阻碍所述外力或减弱所述外力的方式发挥作用。因此，例如当作业人员通过手动操作要打开盖体时，只要单纯地克服重力来抬起盖体即可，这一方面与不具有自动开闭机构的处理腔室相比没有任何变化。
[0027]
另外，本发明的另一实施例是一种基板处理装置，包括：处理腔室，具有所述结构；以及处理部，设于所述内部空间，并对所述被处理基板执行所述规定的处理。在如此构成的发明中，能够构成一种对于设于处理腔室内的处理部而言的维护性优异的基板处理装置。
[0028]
[发明的效果]
[0029]
如上所述，根据本发明，能够提供一种对于例如为了提高维护性而在上部设有盖体的处理腔室而言，适于使盖体自动开闭的机构。
附图说明
[0030]
图1是表示作为本发明的一实施方式的基板处理装置的概略结构的图。
[0031]
图2是处理腔室的侧面图。
[0032]
图3(a)～图3(c)是表示开闭装置的主要部分的放大图。
[0033]
图4(a)～图4(c)是表示盖部的开闭动作的图。
[0034]
图5(a)、图5(b)是说明开闭装置的其他功能的图。
[0035]
图6(a)～图6(d)是示意性地表示摆动轴、抵接部位及可动构件的位置关系的图。
[0036]
[符号的说明]
[0037]
1：基板处理装置
[0038]
10：处理腔室
[0039]
11：腔室主体
[0040]
12：盖部
[0041]
13：铰链部
[0042]
20：处理单元(处理部)
[0043]
30：开闭装置(开闭部)
[0044]
31：罩
[0045]
32：滚珠丝杠机构(驱动机构)
[0046]
33：马达(驱动机构)
[0047]
34：可动构件
[0048]
40：控制单元
[0049]
41：操作按钮
[0050]
111：开口
[0051]
112：搬入口(开口)
[0052]
113：挡板
[0053]
121：盖体
[0054]
122：侧板
[0055]
123：凸轮从动件(抵接部位)
[0056]
321：杆
[0057]
341：延伸部
[0058]
ax：摆动轴
[0059]
d1、d2：箭头
[0060]
d3、d4、d5：虚线箭头
[0061]
x、y、z：方向
[0062]
θ、θ1：开度
具体实施方式
[0063]
图1是表示作为本发明的一实施方式的基板处理装置的概略结构的图。所述基板处理装置1是用于接收半导体基板或扁平面板(flat panel)用玻璃基板等各种被处理基板并实施规定的处理的装置。例如，能够出于如下目的来使用：接收表面涂布有光致抗蚀剂液等涂布液的被处理基板并在常压下进行加热，由此使涂布液中的溶媒成分挥发。例如，出于在基板表面形成光致抗蚀剂膜的目的，能够使用所述基板处理装置1。再者，关于基板及处理的种类，并不限定于此。为了统一表示以下各图中的方向，如图1所示，设定xyz正交坐标轴。此处，xy平面表示水平面。另外，z轴表示铅垂轴，更详细而言，(-z)方向表示铅垂向下方向。
[0064]
基板处理装置1包括如下部件作为主要结构：处理腔室10，收容被处理基板；处理单元20，设于处理腔室10内并对被处理基板实施规定的处理；以及控制单元40，对这些部件
的动作进行控制。处理单元20例如是对基板实施热处理的加热板单元。
[0065]
处理腔室10具有：箱型的腔室主体11，上部开口；以及盖部12，覆盖腔室主体11的开口111并封闭腔室主体11的内部空间。腔室主体11例如是铝或不锈钢等金属制的箱体。另外，作为盖部12，除了金属制的板材以外，为了实现轻量化，还能够设为例如利用金属材料的中空结构、或者碳纤维强化塑料(carbon fiber reinforced plastics；cfrp)制。作为代表性的尺寸，腔室主体11的水平的一边的长度为1m～2m左右，此时的盖部12的质量为30kg左右。若为此种程度的重量，可以说通过手动也能够开闭。
[0066]
盖部12为在平板状的盖体121的x方向侧侧面中靠近(+y)方向侧端部的位置处安装有侧板122的结构。侧板122经由铰链部13与腔室主体11卡合。铰链部13是将侧板122的(+y)侧端部以悬臂状态轴支撑为摆动自如的部件，作为其结构，能够应用各种公知的结构。通过此种结构，盖部12绕点划线所示的大致水平的摆动轴ax摆动自如。
[0067]
在没有作用外力的状态下，盖部12因其自重而覆盖腔室主体11的开口111，因此，腔室主体11成为被关闭的状态。虽省略了图示，但设有用于将关闭状态的盖部12固定于腔室主体11的适宜的锁定机构。由此，实现处理腔室10的内部空间的气密。
[0068]
盖部12能够由作业人员手动或使用适宜的动力打开。另外，在腔室主体11的(+x)侧侧面，设有根据来自控制单元40的控制指令来使盖部12自动开闭的开闭装置30。
[0069]
在腔室主体11的(-x)方向侧侧面，设有以水平方向为长度方向的狭缝状的开口112，在所述开口112安装有开闭自如的挡板113。在通常的处理顺序中，根据来自控制单元40的控制指令使挡板113开闭，并经由侧面的开口112使被处理基板出入。即，侧面的开口112具有作为基板的搬入口、搬出口的功能。相对于此，上部的开口111及盖部12是为了进行腔室内的维护作业、具体而言是处理单元20的检查、清扫、调整等而设。
[0070]
图2是处理腔室的侧面图。另外，图3(a)～图3(c)是表示开闭装置的主要部分的放大图。更具体而言，图3(a)是表示开闭装置的可动构件与侧板的位置关系的二面图。另外，图3(b)是可动构件的外观立体图。另外，图3(c)是表示可动构件与侧板的位置关系的上视图。再者，虽然图1中以利用罩31覆盖开闭装置30的状态来表示，但在图2以后的各图中，为了表示开闭装置30的结构，示出了卸下罩的状态。罩31是出于防尘以及防止人会误碰可动构件的目的而设。
[0071]
开闭装置30位于处理腔室10的(+x)侧侧面、更具体而言位于腔室主体11的侧面，且以开闭装置30的各构成零件位于比腔室主体11的开口111更靠下方处的方式设置。开闭装置30包括：作为直动机构的滚珠丝杠机构32，实现直线运动；以及马达33，对滚珠丝杠机构32进行驱动。马达33根据来自控制单元40的控制指令而工作，从而使设于滚珠丝杠机构32的杆321在y方向上伸缩。也就是说，滚珠丝杠机构32将马达33的绕沿y方向上的旋转轴的旋转运动转换成y方向上的直线运动。作为马达33，例如能够使用伺服马达或步进马达。
[0072]
在杆321的(+y)方向侧顶端部，安装有后述的可动构件34，可动构件34随着杆321的伸缩而在y方向上移动。如图2及图3(a)所示，盖部12的侧板122是在盖体121的(+y)侧端部向下、即向(-z)方向大幅延伸的金属制板。在其下端部的(-y)侧侧面安装有凸轮从动件123。如图3(b)及图3(c)所示，金属制的可动构件34的(+y)侧端部成为向(+x)方向延伸的延伸部341。例如，通过从金属块进行削出，能够形成可动构件34。
[0073]
而且，凸轮从动件123与延伸部341的(-y)侧端面抵接。再者，可动构件34与凸轮从
动件123没有卡合，只是单纯地抵接，两者之间分离抵接自如。即，对于将这些中的一者从另一者拉离的方向上的力，另一者侧并不抵抗。继而，说明通过具有此种结构的开闭装置30而进行的盖部12的开闭动作。
[0074]
图4(a)～图4(c)是表示盖部的开闭动作的图。如图4(a)所示，在开闭装置30的杆321充分延伸、可动构件34从凸轮从动件123离开、或者仅轻轻接触的状态下，盖部12因重力的作用而成为以大致水平姿势覆盖腔室主体11的开口111的状态。即，所述状态是“关闭状态”。从此状态，当开闭装置30的马达33工作而滚珠丝杠机构32的杆321开始缩短时，如图4(a)中箭头d1所示，可动构件34向(-y)方向移动，延伸部341与凸轮从动件123抵接，并将其向(-y)方向推压。
[0075]
若如此，则如图4(b)中箭头d2所示，产生使盖部12绕摆动轴ax(在图中为顺时针方向)旋转的旋转转矩。更详细而言，可动构件34的移动方向与盖部12的摆动轴ax处于扭转的位置关系。因此，可动构件34向凸轮从动件123抵接所产生的按压力在与盖部12的摆动轴ax扭转的方向上作用于盖部12。由此，产生绕摆动轴ax的旋转转矩。
[0076]
通过盖部12绕摆动轴ax摆动，从而盖部12从腔室主体11的开口111向上方离开。如此，可动构件34向y方向移动，将凸轮从动件123向(-y)方向推压，由此直线运动被转换成使盖部12绕摆动轴ax摆动的摆动运动，由此，盖部12向“打开状态”迁移。
[0077]
从盖体121的(-y)侧顶端部到摆动轴ax为止的距离充分大于从凸轮从动件123与可动构件34抵接的位置到摆动轴ax为止的距离。因此，如图4(c)所示，通过可动构件34向y方向的比较小的动作，能够将盖部12大地打开。关于盖部12的开度θ，例如最大能够实现60度左右。
[0078]
随着盖部12的摆动，凸轮从动件123与可动构件34抵接的位置发生变化。通过凸轮从动件123转动，在与可动构件34之间不会产生摩擦。这有助于避免灰尘的产生。
[0079]
当停止马达33的驱动时，可动构件34也在当前位置停止。此时，盖部12因重力的作用而将要关闭，凸轮从动件123将可动构件34向(+y)方向按回。若可动构件34能够克服所述力并停留于当前位置，即，若开闭装置30具有维持将可动构件34定位于适宜位置的状态的功能，则能够如此维持盖部12打开的状态。
[0080]
若使用具有自锁功能的机构作为直动机构，则能够在不使用动力的情况下维持盖部12以任意开度打开的状态。若能够如此，则例如即便在为了维护作业而在打开盖部12的状态下切断电源的情况下，也能够将盖部12的开度维持为原样。减速比大的动力传递机构、例如滚珠丝杠机构适于此目的。作为此种直动机构，此外例如能够应用蜗杆传动机构。
[0081]
另外，能够将气缸、螺线管、线性马达、齿轮齿条传动机构、带传动机构等各种直动机构应用于开闭装置。其中，关于不具有自锁功能的机构，为了使可动构件停留于任意位置，有时需要动力。
[0082]
与所述内容相反，如图4(c)中虚线箭头d3所示，考虑在杆321延伸的方向上滚珠丝杠机构32受到驱动，可动构件34向(+y)方向移动的情况。此时，由于可动构件34与凸轮从动件123没有卡合，因此在可动构件34没有向(+y)方向拉伸凸轮从动件123的机械作用。但是，可动构件34具有如下功能：通过与凸轮从动件123抵接并限制向(+y)方向的移动，由此限制因自重而要向逆时针方向摆动即要关闭的盖部12的位移。因此，当可动构件34向(+y)方向移动时，凸轮从动件123也随之向(+y)方向移动，盖部12的开度变小。此时的凸轮从动件123
追随可动构件34而移动，但只是基于重力作用的移动，而不是可动构件34能动地使凸轮从动件123移动。
[0083]
如此，可动构件34相对于当使盖部12在打开状态与关闭状态之间相互迁移时凸轮从动件123进行位移的路径上、而且从打开状态(图4(c))趋向关闭状态(图4(a))时的凸轮从动件123，配置于其位移方向(图4(c)的箭头方向d3)的前方侧((+y)侧)。当盖部12要关闭时，凸轮从动件123抵碰可动构件34，由此其位移受到限制，结果，防止盖部12进一步关闭。
[0084]
另一方面，与凸轮从动件123处于非卡合状态的可动构件34对于凸轮从动件123要从可动构件34离开的动作、即盖部12打开的方向上的动作不会造成任何影响。即，可动构件34具有规定盖部12相对于腔室主体11的打开角的最小值(最小开度)的作用，并限制盖部12将要从此关闭的动作，另一方面，不会对打开的动作造成影响。
[0085]
图4(c)所表示的开度θ表示与关于通过开闭装置30进行盖部12的开闭的情况而所述的最小开度相同的概念。例如，对于想要通过作业人员的手动作业等外部因素而使开度θ大于最小开度的操作，开闭装置30不会对此进行制约。即，此情况下，开度θ有时可能大于开闭装置30所规定的最小开度。对于想要使开度θ小于最小开度的操作，开闭装置30对此进行抵抗。因此，只要装置有效地工作，则开度θ就不会小于最小开度。
[0086]
即，所述开闭装置30能够通过可动构件34的向(-y)方向及(+y)方向的往复移动，来自动进行盖部12的开闭。而且，能够比往复移动的行程更大地使盖部12开闭。作为盖部12从关闭状态到打开到最大开度为止、或者相反地从最大开度到关闭为止的所需时间，例如可设为30秒左右。通过利用马达33的旋转速度来控制可动构件34的移动速度，能够调整盖部12打开时及关闭时的速度。
[0087]
如此，通过不进行高速下的开闭，例如能够防止由开闭时的乱气流导致的粉尘的卷入。另外，如此，由于为比较缓慢的动作，因此能够采用减速比大而自锁容易发挥功能的动力机构。
[0088]
关闭盖部12的方向上的力是基于重力作用的力，开闭装置30并不能动地向所述方向驱动盖部12。因此，例如在关闭盖部12时，即便某些物体、例如作业人员的身体或工具等被夹在腔室主体11与盖部12之间，也不会对所述物体施加超过盖部12自重的载荷。
[0089]
关于盖部12的自动开闭，例如可根据作业人员的按钮操作来执行。即，能够设为：在控制单元40设置操作按钮41，马达33仅在作业人员操作操作按钮41的期间内工作。例如，能够采用如下控制：当作业人员按下“打开”按钮时，马达33在此期间内向使杆321缩短的方向旋转，当按下“关闭”按钮时，马达33在此期间与上述相反地旋转。由此，能够实现如下动作：仅在作业人员进行按钮操作的期间内进行盖部12的开闭，若停止操作，则盖部12在当时的位置停止。由此，避免盖部12会在作业人员意料不到的时刻自动开闭的情况。
[0090]
另外，即便假设在腔室主体11与盖部12之间存在某些物体的状态下持续按下“关闭”按钮，盖部12也会在与物体接触的时间点停止，要关闭盖部12的来自开闭装置30的驱动力的传递被切断。如此，本实施方式的处理腔室10在维护作业的安全性方面也具有优异的作用。
[0091]
图5(a)、图5(b)是说明开闭装置的其他功能的图。如上所述，不与盖部12卡合的可动构件34限制要关闭的盖部12的位移。另一方面，可动构件34没有限制要打开的盖部12的位移的作用。因此，不会对要打开盖部12的外力给予阻力。
[0092]
例如，如图5(a)所示，设为盖部12由开闭装置30打开或者持续打开到某一开度θ1为止的状态。换句话说，开度θ1是在所述时间点开闭装置30所规定的最小开度。此处，例如，如图5(b)中的虚线箭头d4所示，当作业人员想要通过手动作业将盖部12进一步大地打开时，开闭装置30不会妨碍此操作。即，凸轮从动件123从可动构件34离开，盖部12超过最小开度θ1而大地打开。另外，在所述状态下，例如即便作业人员放开手，如虚线箭头d5所示，盖部12也只是关闭到由可动构件34限制的原来的位置，避免与腔室主体11碰撞的情况。
[0093]
例如，在基板处理顺序的中途，可能存在装置或电源发生不良情况而需要维护作业的事例(case)。在此情况下，在打开盖部12需要动力的情况下，会产生无法立即进行维护作业的情况。在所述实施方式中，即便在失去电源的情况下也能够手动打开盖部12，在此情况下，只要能够单纯地抬起盖部12的重量即可。在此种状态下，为了将盖部12机械地固定成打开状态，也可进一步设置适宜的卡止构件。
[0094]
另外，设为在开闭装置30执行用于关闭盖部12的动作时，在盖部12与腔室主体11之间存在例如人体或工具等某些物体。在此情况下，在物体与盖部12接触的时间点，即便可动构件34继续移动，盖部12也不会进一步位移。在所述状态下，虽然对物体产生由盖部12的自重引起的载荷，但不会进一步施加要强制地关闭盖部12的驱动力。尤其是若关闭盖部12时的动作为低速，则与物体接触时的冲击也会小。因此，避免对物体造成大的损伤。
[0095]
如此，所述实施方式的开闭装置30具有例如抬起(或者上推)盖部12的功能，但使盖部12下降的方向上的力取决于重力。根据所述情况，能够说开闭装置30作为克服重力来抬起盖部12的“升降机”发挥功能。
[0096]
再者，作为自动开闭盖部、或者通过动力辅助由作业人员进行的开闭作业的其他方法，例如可考虑利用气弹簧。但是，在通过气弹簧进行的开闭中，无法使开度太大。另外，即便在盖部关闭的状态下，若由气弹簧作用有反作用力，则由于盖体的变形等而难以保持处理腔室的气密。因此，设置牢固的锁定机构、或者提高盖部的刚性，这会导致装置的复杂化、高成本化。
[0097]
如以上所说明的那样，在本实施方式中，开闭装置30作为本发明的“开闭部”发挥功能，滚珠丝杠机构32及马达33一体地作为本发明的“驱动部”发挥功能。另外，在所述实施方式中，凸轮从动件123相当于本发明的“抵接部位”。另外，图4(a)中的可动构件34的位置、及图4(c)中的可动构件34的位置分别相当于本发明的“第一位置”及“第二位置”。另外，处理单元20相当于本发明的“处理部”。
[0098]
再者，本发明并不限定于所述实施方式，只要不脱离其主旨，则除所述实施方式以外还能够进行各种变更。例如，在所述实施方式中，在摆动轴ax的下方，相当于本发明的“抵接部位”的凸轮从动件123与可动构件34抵接。但是，如以下所说明的那样，摆动轴、抵接部位及可动构件的位置关系并不限定于此，可考虑各种位置关系。
[0099]
图6(a)～图6(d)是示意性地表示摆动轴、抵接部位及可动构件的位置关系的图。在图中，设为圆示意性地表示摆动轴，四边形示意性地表示抵接部位，三角形示意性地表示可动构件。另外，实线箭头表示可动构件的移动方向，虚线箭头表示与此相随的盖部12的位移方向。
[0100]
所述实施方式与如下事例相符：如图6(a)所示，在摆动轴的下方设有抵接部位，可动构件将抵接部位向(-y)方向推压。除此以外，例如也考虑有图6(b)～图6(d)所示的事例。
在图6(b)所示的例子中，在盖部12的顶端与摆动轴之间存在抵接部位，可动构件将抵接部位向上、即向(+z)方向推压。另外，在图6(c)所示的例子中，从摆动轴观察时，在与盖部12的顶端相反的一侧存在抵接部位，可动构件将抵接部位向下、即向(-z)方向推压。另外，在图6(d)所示的例子中，在摆动轴的上方存在抵接部位，可动构件将抵接部位向(+y)方向推压。在任一例中，可动构件均位于盖部12向关闭方向移动时抵接部位进行位移的路径的前方。
[0101]
根据这些中的任一者，均能够通过可动构件的往复移动来实现盖部12的开闭。即，可动构件配置于为了打开盖部12而推压抵接部位的位置，对于盖部12关闭的方向上的动作，通过位于抵接部位的位移路径的前方来限制所述动作。由此，通过使可动构件的位置发生变化，盖部12的打开角发生变化，从而实现盖部12的开闭。其中，在能够抑制装置的y方向尺寸这一方面，图6(a)、图6(d)所示的结构有利。其中，与图6(a)相符的本实施方式的结构由于能够将开闭装置30配置于比腔室主体11的开口111更靠下方处，因此就防止腔室内的污染的观点而言特别有利。
[0102]
另外，在所述实施方式中，构成为在可动构件34的(-y)侧设置滚珠丝杠机构32、且在杆321缩短时盖部12打开。与此相反，即便设为在可动构件34的(+y)侧设置滚珠丝杠机构32、且在杆321延伸时盖部12打开的结构，在技术上也是等价的。其中，本实施方式的结构具有如下优点：通过将滚珠丝杠机构32及马达33以沿着腔室主体11的方式设置，能够实现装置的小型化。
[0103]
另外，在所述实施方式中，为可动构件34与盖部12的凸轮从动件123抵接的结构。但是，盖部的“抵接部位”并不限定于此，只要满足通过可动构件来进行的按压的方向与摆动轴处于扭转的关系、通过可动构件对抵接部位的推压使盖部12产生摆动转矩的条件，则能够使盖体、或者与盖体一体地摆动的构件的任意一部分作为“抵接部位”发挥功能。
[0104]
另外，所述实施方式的处理单元20是对被处理基板进行热处理的加热板单元，但设置于处理腔室内的“处理部”并不限定于此，是任意的。另外，收容加热板单元的本实施方式的处理腔室10是在上下方向上薄的箱型，但根据设置于内部的处理部的形状，处理腔室也可采用所述以外的各种形状。
[0105]
另外，所述实施方式的开闭装置30具有直动机构、具体而言为滚珠丝杠机构32作为“驱动机构”。但是，本发明的“驱动机构”并不限定于直动机构，例如也可构成为通过齿轮、凸轮等进行旋转运动而推压抵接部位。另外，开闭装置30也可在处理腔室10的x方向两侧面分别设有各一组。
[0106]
以上，如例示具体的实施方式并进行了说明那样，在本发明的处理腔室中，能够设为在没有可动构件的抵接的状态下，盖体成为关闭状态。在此种结构中，开闭部只要仅向打开盖体的方向发挥作用即可，消除打开盖体的力便实现关闭盖体的动作。
[0107]
另外，例如，铰链部也可为对与摆动轴垂直的方向上的盖体的其中一端部进行轴支撑的结构。若改变看法，则铰链部也可为将盖体轴支撑为悬臂状态的结构。根据此种结构，通过重力的作用，能够使盖体向关闭方向位移。
[0108]
另外，例如，可动构件也可为在盖体成为关闭状态的第一位置、与盖体成为打开状态的第二位置之间往复移动。根据此种结构，能够将可动构件的往复动作转换成盖体的开闭动作。
[0109]
在此情况下，例如，驱动机构能够控制可动构件在从第二位置朝向第一位置的方
向上移动时的速度。若不进行特殊的控制，则盖体有可能会因重力而急剧关闭，并剧烈碰撞腔室主体。向所述方向的可动构件的速度控制具有使盖体的关闭速度放缓的效果。
[0110]
另外，例如，驱动机构优选为具有使可动构件在第一位置与第二位置之间静止的功能。根据此种结构，能够维持盖体以任意的开度打开的状态，例如能够有助于提高维护时的作业性。
[0111]
另外，例如，作为驱动机构，能够使用具有使可动构件在水平方向上移动的直动机构的机构。在本发明中，为了能够从直线运动产生摆动转矩，因此能够将实用化的各种直动机构作为本发明的驱动机构来利用。在此情况下，例如，若将直动机构设于腔室主体的侧面，则能够实现装置整体的小型化。
[0112]
另外，例如，也可为可动构件与抵接部位在比腔室主体的开口面更靠下方处抵接的结构。根据此种结构，机械性接触在比开口面更靠下方处产生，因此能够事先避免由构件的摩擦而产生的灰尘对腔室内造成影响的情况。
[0113]
另外，例如，也可在腔室主体的侧面开设有用于供被处理基板出入的搬入口。通过如此另行设置用于供基板出入的开口，能够将本发明的盖体的开闭单纯地设为与维护的情况相适应的规格。
[0114]
[产业上的可利用性]
[0115]
本发明能够应用于在内部进行基板处理的各种处理腔室以及使用所述处理腔室的基板处理装置整体中。例如，出于在半导体基板、玻璃基板等基板表面形成光致抗蚀剂膜、保护膜等功能层的目的，能够适宜地应用于通过加热使形成于基板表面的涂布膜的成分挥发的基板处理装置。

技术特征：
1.一种处理腔室，用于在内部空间收容被处理基板并实施规定的处理，所述处理腔室包括：腔室主体，在上部具有开口并设有能够收容所述被处理基板的内部空间；盖部，具有从上方覆盖并封闭所述开口的盖体；铰链部，使所述盖部绕大致水平的摆动轴摆动自如地与所述腔室主体结合；以及开闭部，使所述盖部绕所述摆动轴摆动，并在所述盖体抵接于所述腔室主体的上部而覆盖所述开口的关闭状态、与所述盖体从所述开口远离而使所述开口开放的打开状态之间进行切换，并且所述开闭部具有与所述盖部中不在所述摆动轴上的抵接部位抵接的可动构件、以及对所述可动构件进行移动定位的驱动机构，所述可动构件在所述盖体从所述打开状态趋向所述关闭状态时所述抵接部位进行位移的路径上且在所述位移方向上比所述抵接部位更靠前方的位置，相对于所述抵接部位分离抵接自如地设置，并通过与所述抵接部位抵接来限制所述抵接部位向所述位移方向的位移，所述驱动机构使所述可动构件沿着所述路径移动，而使所述可动构件与所述抵接部位抵接时的所述可动构件的位置发生变化。2.根据权利要求1所述的处理腔室，其中在所述可动构件不抵接的状态下，所述盖体为所述关闭状态。3.根据权利要求1或2所述的处理腔室，其中所述铰链部对与所述摆动轴垂直的方向上的所述盖体的其中一端部进行轴支撑。4.根据权利要求1至3中任一项所述的处理腔室，其中所述铰链部将所述盖体轴支撑为悬臂状态。5.根据权利要求1至4中任一项所述的处理腔室，其中所述可动构件在所述盖体成为所述关闭状态的第一位置、与所述盖体成为所述打开状态的第二位置之间往复移动。6.根据权利要求5所述的处理腔室，其中所述驱动机构对所述可动构件在从所述第二位置朝向所述第一位置的方向上移动时的速度进行控制。7.根据权利要求5所述的处理腔室，其中所述驱动机构具有使所述可动构件在所述第一位置与所述第二位置之间静止的功能。8.根据权利要求1至7中任一项所述的处理腔室，其中所述驱动机构具有使所述可动构件在水平方向上移动的直动机构。9.根据权利要求8所述的处理腔室，其中所述直动机构被设于所述腔室主体的侧面。10.根据权利要求1至9中任一项所述的处理腔室，其中所述可动构件与所述抵接部位在比所述腔室主体的开口面更靠下方的位置处抵接。11.根据权利要求1至10中任一项所述的处理腔室，其中在所述腔室主体的侧面开设有用于供所述被处理基板出入的搬入口。12.一种基板处理装置，包括：如权利要求1至11中任一项所述的处理腔室；以及处理部，设于所述内部空间，并对所述被处理基板执行所述规定处理。

技术总结
本发明提供一种处理腔室及基板处理装置。处理腔室(10)在内部空间收容被处理基板并实施规定处理，处理腔室(10)包括：腔室主体(11)；盖部(12)，具有从上方覆盖并封闭腔室开口的盖体；铰链部(13)，使盖部绕大致水平的摆动轴摆动自如地与腔室主体结合；以及开闭部(30)，使盖部绕摆动轴摆动，并在盖体覆盖开口的关闭状态与盖体使开口开放的打开状态之间进行切换。开闭部具有可动构件(34)与驱动机构(32)，可动构件在盖体从打开状态趋向关闭状态时抵接部位进行位移的路径上且在比抵接部位更靠前方的位置，相对于抵接部位分离抵接自如地设置。驱动机构通过使可动构件与抵接部位抵接的位置发生变化来使盖部的打开量变化。置发生变化来使盖部的打开量变化。置发生变化来使盖部的打开量变化。


技术研发人员：中根慎悟
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：2022.11.14
技术公布日：2023/7/26