一种将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法及超粗化方法与流程

1.本发明涉及线路板制造中蚀刻废液回收制作技术领域，具体涉及一种将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法及超粗化方法。


背景技术：

2.电路板酸性蚀刻液在线铜回收工艺一般采用电解回收的方式，阴极电解出铜板、阳极析出的氯气吸收回用、电解后的低铜废液作为再生液回用。
3.随着电解回收的持续进行，再生液越来越多，现在普遍的做法是在再生液中直接加入盐酸形成蚀刻液进行再利用，但再生液超量时，也会有一部分再生液作为危险废物进行处理，环境污染大且成本高昂。
4.超粗化作为一种提高铜面粗糙度的工艺，常用于阻焊油墨前处理，可提高铜面与阻焊油墨的结合力，以防止表面处理后出现掉阻焊油墨现象；超粗化液中一般含有较高的铜离子和氯离子，铜回收再生液也含有较高的铜离子和氯离子，可以充分利用作为危废的再生液再次使用成为超粗化液，不仅可以减少危害环境的危险废物的产生，而且可以给企业减少药液成本。
5.如在先的对比文件：申请公布号cn 107385442 a本发明提供了一种铜面有机酸型超粗化剂及制备方法，该铜面有机酸型超粗化剂，以有机酸与碱中和形成的缓冲溶液为介质，以二价铜离子为氧化剂，其中，所述缓冲溶液的ph为2～4.5，所述氧化剂中铜离子的质量浓度为15～60g/l。该铜面有机酸型超粗化剂，显著提高了溶铜量，溶铜量可达60g/l而没有任何结晶析出，此方法ph值较高，氯离子较低，与再生液的成分浓度相差很大。
6.再如在先的对比文件：cn 114554703 b所述的超粗化液包括：有机铜20-80g/l，甲酸30-100g/l，甲酸钠15-45g/l，氯化钠15-45g/l，余量为去离子水，此超粗化液的氯离子浓度也远远低于再生液，ph值与氧化性与再生液显然不符。
7.从上述两个对比文件可看出，显然不能直接将再生液直接作为超粗化液进行使用，不然对铜面的咬蚀力太大，因此需要对再生液进行再制作形成符合要求的超粗化液。


技术实现要素：

8.本发明针对上述现有的技术缺陷，提供一种将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法及超粗化的方法，利用偶联剂在铜面形成微观的吸附层，在有机酸和二价铜、氯离子组成的微蚀液的咬蚀下，形成超粗化的表面。
9.为了解决上述技术问题，本发明提供了一种将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法，包括以下步骤：
10.s1、在硅烷偶联剂中加入乙醇和去离子水进行水解，制成硅烷水解液，其中硅烷偶联剂、乙醇和去离子水的体积百分比为5:35:60；
11.s2、在再生液中加入上述制成的硅烷水解液，其中硅烷水解液的加入量为再生液体积的2-3％；
12.s3、而后再在再生液中加入甲酸，搅拌均匀后制成超粗化液，其中甲酸的加入量为再生液体积的3-5％。
13.进一步的，步骤s1中，所述硅烷偶联剂为kh550硅烷偶联剂。
14.进一步的，步骤s1中，水解时的时间为4h。
15.进一步的，所述再生液中盐酸含量为1.5-2.0mo l/l，orp值430-460mv，二价铜离子33-40g/l,氯离子170-200g/l。
16.进一步的，步骤s2中，硅烷水解液的加入量为再生液体积的3％。
17.进一步的，步骤s3中，甲酸的加入量为再生液体积的5％。
18.进一步的，步骤s1之前还包括以下步骤：
19.s01、回收酸性含铜蚀刻废液，通过电解提取酸性含铜蚀刻废液中过量的铜进行回用，电解后的废液作为再生液回用。
20.第二方面，本发明还提供了一种超粗化方法，其特征在于，采用如权利要求1-7任一项所述的方法制成的超粗化液对生产板进行超粗化处理，且超粗化处理时的温度控制在20-25摄氏度。
21.进一步的，超粗化处理时的时间为5-30秒。
22.进一步的，采用喷淋或浸渍的方式对生产板进行超粗化处理。
23.与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：
24.本发明方法中在再生液中加入水解后的硅烷水解液以及甲酸，以此制成超粗化液，该超粗化液在对生产板进行超粗化处理时，利用偶联剂在铜面形成微观的吸附层，以避免再生液中的氯离子浓度太大导致咬蚀过度，在有机酸和二价铜、氯离子组成的微蚀液的咬蚀下，形成超粗化的表面，实现再生液的超粗化效果，而将再生液制成超粗化液，加工成本低，流程简单，环境污染小，避免了将再生液作为危险废物进行处理时的环境污染和高处理成本。
25.本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
26.图1为实施例2中采用实施例1制成的超粗化液进行超粗化处理10秒后的铜面局部扫描电子显微镜图像；
27.图2为实施例2中采用实施例1制成的超粗化液进行超粗化处理30秒后的铜面局部扫描电子显微镜图像。
具体实施方式
28.为了更充分的理解本发明的技术内容，下面将结合具体实施例对本发明的技术方案作进一步介绍和说明。
29.实施例1
30.本实施例所示的一种将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法，依次包括以下步骤：
31.a、先收集再生液，该再生液中的盐酸含量为1.8mo l/l，orp值457mv，二价铜离子
38.12g/l,氯离子197.3g/l。
32.上述中，再生液的产生过程：先回收酸性含铜蚀刻废液，通过电解提取酸性含铜蚀刻废液中过量的铜进行回用，电解后的废液作为再生液回用；此外，该再生液中各成分的含量还可以控制在：盐酸含量为1.5-2.0mo l/l，orp值430-460mv，二价铜离子33-40g/l,氯离子170-200g/l。
33.b、在硅烷偶联剂中加入乙醇和去离子水进行水解，制成硅烷水解液，其中硅烷偶联剂、乙醇和去离子水的体积百分比为5:35:60，即制成的硅烷水解液中硅烷偶联剂、乙醇和去离子水的体积百分比为5:35:60。
34.上述中，硅烷偶联剂采用kh550硅烷偶联剂。
35.上述中，经过实验验证，水解时间控制在4h可以让硅烷偶联剂进行充分水解。
36.c、在再生液中加入上述制成的硅烷水解液，其中硅烷水解液的加入量为再生液体积的3％。
37.当然的是，硅烷水解液的加入量还可以为再生液体积的2-3％。
38.d、而后再在再生液中加入甲酸，搅拌均匀后制成超粗化液，其中甲酸的加入量为再生液体积的5％。
39.当然的是，甲酸的加入量还可以为再生液体积的3-5％。
40.其中，加入的甲酸为体积百分比浓度≥88％的纯甲酸。
41.实施例2
42.本实施例所示的一种超粗化方法，采用如实施例1所述的方法制成的超粗化液对生产板的铜面进行超粗化处理，且超粗化处理时的温度控制在20摄氏度，超粗化处理时的时间为10秒，微蚀厚度为0.8微米，最终超粗化后的铜面如图1所示。
43.上述中，采用喷淋或浸渍的方式对生产板进行超粗化处理。
44.上述中，经过实验验证，还可将超粗化处理时的时间控制在5-30秒，其中超粗化处理30秒后的铜面如图2所示。
45.上述中，超粗化处理时的温度还可以控制在20-25摄氏度。
46.以上对本发明实施例所提供的技术方案进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明实施例的原理以及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只适用于帮助理解本发明实施例的原理；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明实施例，在具体实施方式以及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

技术特征：
1.一种将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法，其特征在于，包括以下步骤：s1、在硅烷偶联剂中加入乙醇和去离子水进行水解，制成硅烷水解液，其中硅烷偶联剂、乙醇和去离子水的体积百分比为5:35:60；s2、在再生液中加入上述制成的硅烷水解液，其中硅烷水解液的加入量为再生液体积的2-3％；s3、而后再在再生液中加入甲酸，搅拌均匀后制成超粗化液，其中甲酸的加入量为再生液体积的3-5％。2.根据权利要求1所述的将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法，其特征在于，步骤s1中，所述硅烷偶联剂为kh550硅烷偶联剂。3.根据权利要求1所述的将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法，其特征在于，步骤s1中，水解时的时间为4h。4.根据权利要求1所述的将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法，其特征在于，所述再生液中盐酸含量为1.5-2.0mol/l，orp值430-460mv，二价铜离子33-40g/l,氯离子170-200g/l。5.根据权利要求1所述的将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法，其特征在于，步骤s2中，硅烷水解液的加入量为再生液体积的3％。6.根据权利要求5所述的将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法，其特征在于，步骤s3中，甲酸的加入量为再生液体积的5％。7.根据权利要求1所述的将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法，其特征在于，步骤s1之前还包括以下步骤：s01、回收酸性含铜蚀刻废液，通过电解提取酸性含铜蚀刻废液中过量的铜进行回用，电解后的废液作为再生液回用。8.一种超粗化方法，其特征在于，采用如权利要求1-7任一项所述的方法制成的超粗化液对生产板进行超粗化处理，且超粗化处理时的温度控制在20-25摄氏度。9.根据权利要求8所述的超粗化方法，其特征在于，超粗化处理时的时间为5-30秒。10.根据权利要求9所述的超粗化方法，其特征在于，采用喷淋或浸渍的方式对生产板进行超粗化处理。

技术总结
本发明公开了一种将铜回收后的再生液制成超粗化液的方法及超粗化方法，制成超粗化液的方法包括以下步骤：在硅烷偶联剂中加入乙醇和去离子水进行水解，制成硅烷水解液，其中硅烷偶联剂、乙醇和去离子水的体积百分比为5:35:60；在再生液中加入上述制成的硅烷水解液，其中硅烷水解液的加入量为再生液体积的2-3％；而后再在再生液中加入甲酸，搅拌均匀后制成超粗化液，其中甲酸的加入量为再生液体积的3-5％。本发明方法制成的超粗化液利用偶联剂在铜面形成微观的吸附层，在有机酸和二价铜、氯离子组成的微蚀液的咬蚀下，形成超粗化的表面。面。面。


技术研发人员：黄明安 王冰怡 王璇
受保护的技术使用者：四会富仕电子科技股份有限公司
技术研发日：2023.04.03
技术公布日：2023/7/12